JP2002367889A - 現像装置 - Google Patents
現像装置Info
- Publication number
- JP2002367889A JP2002367889A JP2001171585A JP2001171585A JP2002367889A JP 2002367889 A JP2002367889 A JP 2002367889A JP 2001171585 A JP2001171585 A JP 2001171585A JP 2001171585 A JP2001171585 A JP 2001171585A JP 2002367889 A JP2002367889 A JP 2002367889A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mist
- developing
- cup
- pure water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 現像水洗後、基板を回転させ乾燥する際に、
基板上に異物あるいはミストが付着してしまうことを防
ぐ。 【解決手段】 レジスト塗布後、露光機によりパターニ
ングされた基板１を水平保持するとともに回転させる駆
動装置５を有するステージ２と、基板１の外周に設置さ
れたカップ３に対して上下動可能なミストカバー１０と
を有し、現像・水洗後の乾燥時に、基板１に対してミス
トカバー１０を近接させて被覆するようにし、回転時に
カップ３からの跳ね返りのミストあるいは回転時の浮遊
ミストの付着を防止し、シミによる膜残り等の不良の発
生を抑える。
基板上に異物あるいはミストが付着してしまうことを防
ぐ。 【解決手段】 レジスト塗布後、露光機によりパターニ
ングされた基板１を水平保持するとともに回転させる駆
動装置５を有するステージ２と、基板１の外周に設置さ
れたカップ３に対して上下動可能なミストカバー１０と
を有し、現像・水洗後の乾燥時に、基板１に対してミス
トカバー１０を近接させて被覆するようにし、回転時に
カップ３からの跳ね返りのミストあるいは回転時の浮遊
ミストの付着を防止し、シミによる膜残り等の不良の発
生を抑える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体あるいは液
晶パネルのアレイ製造工程において、フォトリソ工法に
よるパターニングの中の現像を行う現像装置に関するも
のである。
晶パネルのアレイ製造工程において、フォトリソ工法に
よるパターニングの中の現像を行う現像装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の現像装置としては、基板
に対して複数のシャワーノズルにより現像液を噴出させ
て現像する装置、あるいはスリット状のノズルにより現
像液を基板の端からスキャンして盛り、基板上に現像液
を所定時間保持して現像を行う装置があり、いずれも現
像後に純水で現像液を洗い流して水洗した後、基板を高
速回転させ乾燥させる構成になっている。
に対して複数のシャワーノズルにより現像液を噴出させ
て現像する装置、あるいはスリット状のノズルにより現
像液を基板の端からスキャンして盛り、基板上に現像液
を所定時間保持して現像を行う装置があり、いずれも現
像後に純水で現像液を洗い流して水洗した後、基板を高
速回転させ乾燥させる構成になっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
現像装置では、現像・水洗後の高速回転乾燥時に基板か
ら振切った水が、基板周辺を囲むように設置されている
カップに衝突して、カップ内壁に付着しているレジスト
が溶け込んだ現像液などが跳ね返り、基板に再付着する
場合、あるいは基板の回転により発生する気流の乱れに
より、浮遊したミストが基板の停止とともに、基板上に
降りてきて付着する場合があり、いずれも基板のシミと
なり、不良の一因となっていた。
現像装置では、現像・水洗後の高速回転乾燥時に基板か
ら振切った水が、基板周辺を囲むように設置されている
カップに衝突して、カップ内壁に付着しているレジスト
が溶け込んだ現像液などが跳ね返り、基板に再付着する
場合、あるいは基板の回転により発生する気流の乱れに
より、浮遊したミストが基板の停止とともに、基板上に
降りてきて付着する場合があり、いずれも基板のシミと
なり、不良の一因となっていた。
【０００４】本発明は、前記従来の課題を解決するため
に、回転による基板の乾燥プロセス中に、基板上に異物
あるいはミストが付着してしまうことを防ぐようにした
現像装置を提供することを目的とする。
に、回転による基板の乾燥プロセス中に、基板上に異物
あるいはミストが付着してしまうことを防ぐようにした
現像装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る現像装置は、レジスト塗布後に露光機
によりパターニングされた基板を水平保持するとともに
回転させる駆動装置を有するステージと、現像液を吐出
する現像ノズルと、前記現像後の基板に対して純水を吐
出して洗浄する純水ノズルと、前記ステージが内設さ
れ、かつ前記現像液及び純水のドレン口と排気口を有す
るカップと、前記基板に近接して覆うミストカバーとを
備えたものであり、現像・水洗後の乾燥時に、基板に対
してミストカバーが近接して覆いかぶさる構成にしたこ
とにより、基板回転時にカップからの跳ね返りのミスト
あるいは回転時の浮遊ミストの付着を防止することがで
きる信頼性の高い現像装置となる。
め、本発明に係る現像装置は、レジスト塗布後に露光機
によりパターニングされた基板を水平保持するとともに
回転させる駆動装置を有するステージと、現像液を吐出
する現像ノズルと、前記現像後の基板に対して純水を吐
出して洗浄する純水ノズルと、前記ステージが内設さ
れ、かつ前記現像液及び純水のドレン口と排気口を有す
るカップと、前記基板に近接して覆うミストカバーとを
備えたものであり、現像・水洗後の乾燥時に、基板に対
してミストカバーが近接して覆いかぶさる構成にしたこ
とにより、基板回転時にカップからの跳ね返りのミスト
あるいは回転時の浮遊ミストの付着を防止することがで
きる信頼性の高い現像装置となる。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【０００７】図１（ａ）〜（ｄ）は本発明の実施形態を
説明するための現像装置の構成と、その現像プロセスで
の動作を説明するための構成図であり、１は露光機によ
りパターニングされたレジスト塗布基板であって、装置
には、この露光後の基板１を水平保持するステージ２
と、基板１およびステージ２の周辺を取り囲むカップ３
と、カップ３に対して上下可能なチャンバー４とが設置
され、ステージ２は、基板１を真空吸着するとともに、
駆動装置５に直結して基板１を高速回転することができ
る構成になっている。
説明するための現像装置の構成と、その現像プロセスで
の動作を説明するための構成図であり、１は露光機によ
りパターニングされたレジスト塗布基板であって、装置
には、この露光後の基板１を水平保持するステージ２
と、基板１およびステージ２の周辺を取り囲むカップ３
と、カップ３に対して上下可能なチャンバー４とが設置
され、ステージ２は、基板１を真空吸着するとともに、
駆動装置５に直結して基板１を高速回転することができ
る構成になっている。
【０００８】カップ３の側部には、現像液を吐出しなが
ら基板１上を移動する現像ノズル６（図１（ａ）参照）
と、基板１の中央部から純水を吐出する純水ノズル７
（図１（ｃ）参照）とがカップ３内を移動することがで
きるように設置されている。またカップ３には、現像廃
液及び水洗廃液を排出するドレン口８と、カップ３内の
排気を調節することができる排気口９とが設けられてい
る。
ら基板１上を移動する現像ノズル６（図１（ａ）参照）
と、基板１の中央部から純水を吐出する純水ノズル７
（図１（ｃ）参照）とがカップ３内を移動することがで
きるように設置されている。またカップ３には、現像廃
液及び水洗廃液を排出するドレン口８と、カップ３内の
排気を調節することができる排気口９とが設けられてい
る。
【０００９】チャンバー４は、現像ノズル６及び純水ノ
ズル７の出し入れに合わせて上下駆動される構成になっ
ており、下がった状態において基板１に対して近接（１
０ｍｍ程度）し、基板１の対角線と同じ長さの直径を有
する円盤状のミストカバー１０を具備している。このチ
ャンバー４のミストカバー１０の周辺部には、上からの
気流を取り入れるための複数の開口部１１が設けられて
いる。
ズル７の出し入れに合わせて上下駆動される構成になっ
ており、下がった状態において基板１に対して近接（１
０ｍｍ程度）し、基板１の対角線と同じ長さの直径を有
する円盤状のミストカバー１０を具備している。このチ
ャンバー４のミストカバー１０の周辺部には、上からの
気流を取り入れるための複数の開口部１１が設けられて
いる。
【００１０】次に、前記構成の本実施形態の動作を説明
する。
する。
【００１１】露光機によりパターニング済であり、かつ
レジスト塗布されている基板１をステージ２上に載置す
ると、図１（ａ）に示すように、現像ノズル６を基板１
の端面から現像液を吐出しながら移動させて、基板１の
全面に対して現像液を盛る。現像液の吐出後、現像ノズ
ル６をカップ３の外部に戻し、図１（ｂ）に示すよう
に、チャンバー４を下げる。この状態で規定時間、基板
１上に現像液を保持し、現像を進行させる。
レジスト塗布されている基板１をステージ２上に載置す
ると、図１（ａ）に示すように、現像ノズル６を基板１
の端面から現像液を吐出しながら移動させて、基板１の
全面に対して現像液を盛る。現像液の吐出後、現像ノズ
ル６をカップ３の外部に戻し、図１（ｂ）に示すよう
に、チャンバー４を下げる。この状態で規定時間、基板
１上に現像液を保持し、現像を進行させる。
【００１２】基板１を規定時間保持した後、図１（ｃ）
に示すように、チャンバー４を上昇させ、純水ノズル７
を基板１の中央部に移動させ、ステージ２を低速回転さ
せる。この回転によって基板１上の現像液を振り切ると
同時に、純水ノズル７から純水を吐出させることによっ
て基板１上の現像液をリンスする。そしてカップ３のド
レン口８から現像液及び洗浄後の廃液を排出させ、同時
に排気口９からカップ３内の排気を始める。
に示すように、チャンバー４を上昇させ、純水ノズル７
を基板１の中央部に移動させ、ステージ２を低速回転さ
せる。この回転によって基板１上の現像液を振り切ると
同時に、純水ノズル７から純水を吐出させることによっ
て基板１上の現像液をリンスする。そしてカップ３のド
レン口８から現像液及び洗浄後の廃液を排出させ、同時
に排気口９からカップ３内の排気を始める。
【００１３】一定時間、純水によってリンスした後、純
水ノズル７をカップ3の外部に戻し、図１（ｄ）に示す
ように、チャンバー４を下げ、ステージ２の回転を高速
回転にして基板１を乾燥させることにより、現像プロセ
スが終了する。
水ノズル７をカップ3の外部に戻し、図１（ｄ）に示す
ように、チャンバー４を下げ、ステージ２の回転を高速
回転にして基板１を乾燥させることにより、現像プロセ
スが終了する。
【００１４】このように本実施形態では、現像・水洗後
の乾燥時に、基板１に対してミストカバー１０が近接し
て覆いかぶさるようになっているため、基板回転時にカ
ップ３からの跳ね返りのミストあるいは回転時の浮遊ミ
ストが、基板１に付着することを防止することができ、
基板１におけるシミによる膜残り等の不良を抑えること
ができる。
の乾燥時に、基板１に対してミストカバー１０が近接し
て覆いかぶさるようになっているため、基板回転時にカ
ップ３からの跳ね返りのミストあるいは回転時の浮遊ミ
ストが、基板１に付着することを防止することができ、
基板１におけるシミによる膜残り等の不良を抑えること
ができる。
【００１５】また、ミストカバー１０は基板１の投影面
上部を覆う大きさであるため、乾燥時に限らず、ミスト
以外の異物の基板１への落下をも未然に防ぐことができ
るものであり、なおかつミストカバー１０の周囲には気
流を取り込む開口部１１を設けたため、取り込んだ気流
をカップ３の下部の排気口９から排気させることによ
り、カップ３およびチャンバー４内の浮遊ミストを効果
的に排出できる。
上部を覆う大きさであるため、乾燥時に限らず、ミスト
以外の異物の基板１への落下をも未然に防ぐことができ
るものであり、なおかつミストカバー１０の周囲には気
流を取り込む開口部１１を設けたため、取り込んだ気流
をカップ３の下部の排気口９から排気させることによ
り、カップ３およびチャンバー４内の浮遊ミストを効果
的に排出できる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
現像・水洗後の乾燥時に、基板に対してミストカバーが
近接して覆うことにより、基板回転時にカップからの跳
ね返りのミストあるいは回転時の浮遊ミストが基板に付
着することを防止することができるため、それが原因し
て発生するシミによる基板の膜残り等の不良を抑えるこ
とができ、さらにミスト以外の異物の基板への落下をも
未然に防ぐことができるなど、実際的な効果が大であ
る。
現像・水洗後の乾燥時に、基板に対してミストカバーが
近接して覆うことにより、基板回転時にカップからの跳
ね返りのミストあるいは回転時の浮遊ミストが基板に付
着することを防止することができるため、それが原因し
て発生するシミによる基板の膜残り等の不良を抑えるこ
とができ、さらにミスト以外の異物の基板への落下をも
未然に防ぐことができるなど、実際的な効果が大であ
る。
【図１】（ａ）〜（ｄ）は本発明の実施形態を説明する
ための現像装置の構成と、その現像プロセスでの動作を
説明するための構成図
ための現像装置の構成と、その現像プロセスでの動作を
説明するための構成図
１ 基板 ２ ステージ ３ カップ ４ チャンバー ５ 駆動装置 ６ 現像ノズル ７ 純水ノズル ８ ドレン口 ９ 排気口 １０ ミストカバー １１ 開口部
Claims (4)
- 【請求項１】 レジスト塗布後に露光機によりパターニ
ングされた基板を水平保持するとともに回転させる駆動
装置を有するステージと、現像液を吐出する現像ノズル
と、前記現像後の基板に対して純水を吐出して洗浄する
純水ノズルと、前記ステージに内設され、かつ前記現像
液及び純水のドレン口と排気口を有するカップと、前記
基板に近接して覆うミストカバーとを備えたことを特徴
とする現像装置。 - 【請求項２】 現像または水洗後の乾燥時に、前記ミス
トカバーを前記基板に対して近接させることを特徴とす
る請求項１記載の現像装置。 - 【請求項３】 前記ミストカバーに気流取入用の開口を
設けたことを特徴とする請求項１または２記載の現像装
置。 - 【請求項４】 前記ミストカバーの平面面積を、前記基
板における投影面上部を覆う大きさにしたことを特徴と
する請求項１，２または３記載の現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001171585A JP2002367889A (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001171585A JP2002367889A (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002367889A true JP2002367889A (ja) | 2002-12-20 |
Family
ID=19013335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001171585A Pending JP2002367889A (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002367889A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100784792B1 (ko) | 2006-07-25 | 2007-12-14 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| KR100794588B1 (ko) | 2006-08-10 | 2008-01-17 | 세메스 주식회사 | 매엽식 기판 처리 장치 및 방법 |
| JP2008060294A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 |
-
2001
- 2001-06-06 JP JP2001171585A patent/JP2002367889A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100784792B1 (ko) | 2006-07-25 | 2007-12-14 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| KR100794588B1 (ko) | 2006-08-10 | 2008-01-17 | 세메스 주식회사 | 매엽식 기판 처리 장치 및 방법 |
| JP2008060294A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 |
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