JP2000068188A - 現像装置および現像方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像液の弾き現象を抑制することにより、現
像均一性を向上させるとともに現像不良を防止すること
ができる現像装置および現像方法を提供することであ
る。 【解決手段】 基板保持部１に静止状態で保持された基
板１００外の一方側の位置から基板１００上を通過して
基板１００外の他方側の位置までスリット状吐出口を有
する現像液吐出ノズル１１を移動させつつ基板１００上
に現像液を供給する。現像液吐出ノズル１１による基板
１００上への現像液の供給終了から一定時間経過後、基
板保持部１に保持された基板１００を回転させることに
より基板１００上の現像液の大部分を振り切り、基板保
持部１に静止状態で保持された基板１００上に現像液吐
出ノズル１１により再び現像液を供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上の感光性膜
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置および現像
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。

【０００３】例えば、回転式の現像装置は、基板を水平
に保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基
板の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と基板外の待機位置との間を移動することがで
きる。

【０００４】現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機
位置から基板の上方位置に移動した後、基板上のフォト
レジスト等の感光性膜に現像液を供給する。供給された
現像液は、基板の回転によって基板の全面に塗り広げら
れ、感光性膜と接触する。表面張力により基板上に現像
液を保持した状態（液盛り）で一定時間基板を静止させ
ることにより感光性膜の現像が行われる。現像液の供給
が終了すると、現像液吐出ノズルはノズルアームの回動
により基板の上方から外れた待機位置に移動する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】基板上に液盛りされた
現像液により現像を行う上記の方式では、表面張力によ
り基板上に保持される現像液の液膜が０．５〜２．０ｍ
ｍ程度とかなり薄いため、現像の進行中に基板上の現像
液が弾く現象が起こることがある。この現象を現像液の
弾き現象と呼ぶ。

【０００６】このような現像液の弾き現象は、基板上の
不特定な位置で局所的に発生する。現像液が弾いた後、
周囲の現像液が再び弾いた部分を覆っていき、現像液の
弾き現象は消失する。現像液の弾き現象が起こった箇所
では、感光性膜上に一時的に現像液がほとんどない状態
となるため、現像均一性の劣化や現像不良が生じる。

【０００７】一方、本発明者は、スリット状吐出口を有
する現像液吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板上
の一端から他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動させ
ることにより、現像液の供給の初期段階における基板上
の現像液の流動を抑えつつ基板上に均一な衝撃力で現像
液を供給する現像方法を提案している。

【０００８】この現像方法によれば、液盛り時の現像液
の流動が完全に抑制されるため、現像後のパターン線幅
の均一性が向上する。その反面、現像液の流動が抑制さ
れるため、現像液が感光性膜に浸透するまでに時間がか
かる。それにより、特にＧ線用レジストやＩ線用レジス
トのように比較的緩やかに溶解する感光性膜を用いた場
合に、現像液の弾き現象が起こりやすい。

【０００９】本発明の目的は、現像液の弾き現象を抑制
することにより、現像均一性を向上させるとともに現像
不良を防止することができる現像装置および現像方法を
提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段および発明の効果】本発明
者の実験によると、現像液の弾き現象は、基板上への現
像液の供給から５〜４０秒後に起こることが多く、現像
液が弾く範囲は１０〜５０ｍｍ程度の大きさのほぼ円形
となり、現像液が弾いている継続時間は１〜１０秒以内
である。現像液の弾き現象の原因としては、感光性膜が
現像液に溶解していく反応過程で、感光性膜と現像液と
の界面での表面エネルギーが一時的に非常に高くなり、
その結果、現像液が弾くためであると考えられる。ま
た、現像液が局所的に弾くのは、現像液中に溶解した感
光性膜の成分の凝集が局所的に発生するためと考えられ
る。さらに、現像液の弾き現象が発生するタイミング
は、現像液が感光性膜に浸透して感光性膜の表層部の現
像が開始されると考えられる時点と一致する。

【００１１】そこで、本発明者は、上記の検討結果に基
づき、現像液の弾き現象による現像均一性の劣化および
現像不良の発生を防止すべく以下の発明を案出した。

【００１２】（１）第１の発明 第１の発明に係る現像装置は、基板を保持する基板保持
手段と、現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、基板保
持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐
出ノズルを移動させる移動手段と、基板保持手段を回転
駆動する駆動手段と、現像液吐出ノズル、移動手段およ
び駆動手段を制御する制御手段とを備え、制御手段は、
基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の
位置から基板上を通過して基板外の他方側の位置まで移
動手段により現像液吐出ノズルを移動させつつ現像液吐
出ノズルにより現像液を基板上へ供給し、一定時間経過
後、基板保持手段に保持された基板を駆動手段により回
転させた後に基板保持手段に静止状態で保持された基板
上に現像液吐出ノズルにより現像液を供給するものであ
る。

【００１３】本発明に係る現像装置においては、基板保
持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐
出ノズルを移動させつつ現像液吐出ノズルから現像液を
吐出することにより、静止した基板上に現像液が供給さ
れる。一定時間経過後、基板を回転させることにより基
板上に現像液が薄く残存する程度に基板上の現像液の大
部分が振り切られた後、基板保持手段に静止状態で保持
された基板上に再び現像液が供給される。

【００１４】それにより、現像の進行過程で発生する溶
解生成物が局所的に凝集する前に基板上の現像液が新た
な現像液で置換される。したがって、溶解生成物の局所
的な凝集に起因する現像液の弾き現象が抑制される。そ
の結果、現像均一性が向上するとともに、現像不良の発
生が防止される。

【００１５】また、基板上への２回目の現像液の供給に
先立って基板を回転させることにより、基板上の現像液
の置換が良好に行われるとともに、現像後のパターン線
幅の均一性が向上する。

【００１６】（２）第２の発明 第２の発明に係る現像装置は、第１の発明に係る現像装
置の構成において、制御手段は、現像液吐出ノズルによ
る基板上への２回目の現像液の供給時に、基板保持手段
に静止状態で保持された基板外の一方または他方側の位
置から基板上を通過して基板外の他方または一方側の位
置まで移動手段により現像液吐出ノズルを移動させるも
のである。

【００１７】この場合、基板保持手段に保持された基板
外の一方または他方側の位置から基板上を通過して基板
外の他方または一方側の位置まで現像液吐出ノズルを移
動させつつ現像液吐出ノズルから現像液を吐出すること
により、静止した基板上に現像液が供給される。それに
より、基板上の現像液を新たな現像液で均一に置換する
ことが可能となる。

【００１８】（３）第３の発明 第３の発明に係る現像装置は、第１または第２の発明に
係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルは、ス
リット状吐出口を有することを特徴とする。この場合、
現像液が一定幅の領域に同時に供給される。

【００１９】（４）第４の発明 第４の発明に係る現像装置は、第１、第２または第３の
発明に係る現像装置の構成において、一定時間は５秒以
上４０秒以下であることを特徴とする。

【００２０】これにより、基板上に供給された現像液が
感光性膜に浸透して感光性膜の表層部の現像が開始され
る前に基板上の現像液が新たな現像液で置換されるの
で、現像の進行過程で発生する溶解生成物の局所的な凝
集が抑制される。したがって、溶解生成物の局所的な凝
集に起因する現像液の弾き現象が十分に防止される。

【００２１】（５）第５の発明 第５の発明に係る現像装置は、基板を保持する基板保持
手段と、現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、現像液
ノズルを移動させる移動手段と、基板保持手段を回転駆
動する駆動手段と、現像液吐出ノズル、移動手段および
駆動手段を制御する制御手段とを備え、制御手段は、基
板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位
置から基板上を通過して基板外の他方側の位置まで移動
手段により現像液吐出ノズルを移動させつつ現像液吐出
ノズルにより基板上へ現像液を供給し、一定時間経過
後、基板保持手段に保持された基板を駆動手段により回
転させながら現像液吐出ノズルにより基板上に現像液を
供給するものである。

【００２２】本発明に係る現像装置においては、基板保
持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐
出ノズルを移動させつつ現像液吐出ノズルから現像液を
吐出することにより、静止した基板上に現像液が供給さ
れる。一定時間経過後、基板保持手段に保持された基板
を回転させながら基板上に再び現像液が供給される。

【００２３】それにより、現像の進行過程で発生する溶
解生成物が局所的に凝集する前に基板上の現像液が新た
な現像液で置換される。したがって、溶解生成物の局所
的な凝集に起因する現像液の弾き現象が抑制される。そ
の結果、現像均一性が向上するとともに、現像不良の発
生が防止される。

【００２４】また、基板を回転させながら基板上へ２回
目の現像液の供給を行うことにより、基板上の現像液の
置換が良好に行われるとともに、現像後のパターン線幅
の均一性が向上する。

【００２５】（６）第６の発明 第６の発明に係る現像装置は、第５の発明に係る現像装
置の構成において、制御手段は、現像液吐出ノズルによ
る基板上への２回目の現像液の供給時に、基板保持手段
に保持された基板外の一方または他方側の位置から基板
上を通過して基板外の他方または一方側の位置まで移動
手段により現像液吐出ノズルを移動させるのもである。

【００２６】この場合、基板保持手段に保持された基板
外の一方または他方側の位置から基板上を通過して基板
外の他方または一方側の位置まで現像液吐出ノズルを移
動させつつ現像液吐出ノズルから現像液を吐出すること
により、回転する基板上に現像液が供給される。それに
より、基板上の現像液を新たな現像液で均一に置換する
ことが可能となる。

【００２７】（７）第７の発明 第７の発明に係る現像装置は、第５または第６の発明に
係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルは、ス
リット状吐出口を有することを特徴とする。この場合、
現像液が一定幅の領域に同時に供給される。

【００２８】（８）第８の発明 第８の発明に係る現像装置は、第５、第６または第７の
発明に係る現像装置の構成において、一定時間は５秒以
上４０秒以下であることを特徴とする。

【００２９】これにより、基板上に供給された現像液が
感光性膜に浸透して感光性膜の表層部の現像が開始され
る前に基板上の現像液が新たな現像液で置換されるの
で、現像の進行過程で発生する溶解生成物の局所的な凝
集が抑制される。したがって、溶解生成物の局所的な凝
集に起因する現像液の弾き現象が十分に防止される。

【００３０】（９）第９の発明 第９の発明に係る現像方法は、基板保持手段に静止状態
で保持された基板外の一方側の位置から基板上を通過し
て基板外の他方側の位置まで現像液吐出ノズルを移動さ
せつつ基板上に現像液を供給する工程と、現像液吐出ノ
ズルによる基板上への現像液の供給終了から一定時間経
過後、基板保持手段に保持された基板を回転させた後に
基板保持手段に静止状態で保持された基板上に現像液吐
出ノズルにより現像液を供給する工程とを備えたもので
ある。

【００３１】本発明に係る現像方法においては、基板保
持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐
出ノズルを移動させつつ現像液吐出ノズルから現像液を
吐出することにより、静止した基板上に現像液が供給さ
れる。一定時間経過後、基板を回転させることにより基
板上に現像液が薄く残存する程度に基板上の現像液の大
部分が振り切られた後、基板保持手段に静止状態で保持
された基板上に再び現像液が供給される。

【００３２】それにより、現像の進行過程で発生する溶
解生成物が局所的に凝集する前に基板上の現像液が新た
な現像液で置換される。したがって、溶解生成物の局所
的な凝集に起因する現像液の弾き現象が抑制される。そ
の結果、現像均一性が向上するとともに、現像不良の発
生が防止される。

【００３３】また、基板上への２回目の現像液の供給に
先立って基板を回転させることにより、基板上の現像液
の置換が良好に行われるとともに、現像後のパターン線
幅の均一性が向上する。

【００３４】（１０）第１０の発明 第１０の発明に係る現像方法は、基板保持手段に静止状
態で保持された基板外の一方側の位置から基板上を通過
して基板外の他方側の位置まで現像液吐出ノズルを移動
させつつ基板上に現像液を供給する工程と、現像液吐出
ノズルによる基板上への現像液の供給終了から一定時間
経過後、基板保持手段に保持された基板を回転させなが
ら現像液吐出ノズルにより基板上に現像液を供給する工
程とを備えたものである。

【００３５】本発明に係る現像方法においては、基板保
持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐
出ノズルを移動させつつ現像液吐出ノズルから現像液を
吐出することにより、静止した基板上に現像液が供給さ
れる。一定時間経過後、基板保持手段に保持された基板
を回転させながら基板上に再び現像液が供給される。

【００３６】それにより、現像の進行過程で発生する溶
解生成物が局所的に凝集する前に基板上の現像液が新た
な現像液で置換される。したがって、溶解生成物の局所
的な凝集に起因する現像液の弾き現象が抑制される。そ
の結果、現像均一性が向上するとともに、現像不良の発
生が防止される。

【００３７】また、基板を回転させながら基板上へ２回
目の現像液の供給を行うことにより、基板上の現像液の
置換が良好に行われるとともに、現像後のパターン線幅
の均一性が向上する。

【００３８】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ
−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ
線断面図である。

【００３９】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。

【００４０】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向
に回動可能に設けられている。

【００４１】ノズルアーム９には、下端部にスリット状
吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレー
ル８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液
吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００
上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。

【００４２】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１４により現像液が供給される。制
御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズ
ル１１からの現像液の吐出を制御する。

【００４３】本実施例では、基板保持部１が基板保持手
段に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、モ
ータ２が駆動手段に相当し、制御部１３が制御手段に相
当する。

【００４４】図４に示すように、スリット状吐出口１５
は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置され
る。スリット状吐出口１５のスリット幅ｔは０．０５〜
１．０ｍｍであり、本実施例では０．２ｍｍである。ま
た、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは、処理対象とな
る基板１００の直径と同じかまたはそれよりも大きく設
定され、直径８インチの基板１００を処理する場合に
は、本実施例では２１０ｍｍに設定される。

【００４５】現像液吐出ノズル１１は、底面が基板１０
０の表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに
走査される。スリット状吐出口１５と基板１００の表面
との間隔は、０．２〜５ｍｍ、より好ましくは０．５〜
２ｍｍであり、本実施例では１．５ｍｍである。

【００４６】次に、図５を参照しながら図１の現像装置
の動作の第１の例を説明する。図５（ａ）に示すよう
に、基板１００は基板保持部１により静止状態で保持さ
れている。待機時には、現像液吐出ノズル１１は、待機
ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像処理時に
は、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに
移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降す
る。

【００４７】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍ
ｍ／秒とする。

【００４８】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の流量は１．２Ｌ／分とする。

【００４９】現像液吐出ノズル１１は、現像液を吐出し
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する（図７参照）。これにより、基板１
００の全面に現像液が連続的に供給される。供給された
現像液は、表面張力により基板１００上に保持（液盛
り）される。

【００５０】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。

【００５１】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。

【００５２】図５（ｂ）に示すように、１回目の液盛り
終了後、静止状態の基板１００上に現像液が供給された
状態を５〜４０秒維持する。この間に、現像液吐出ノズ
ル１１は、待機ポット７から待機ポット６に戻る。

【００５３】その後、図５（ｃ）に示すように、基板保
持部１により基板１００を回転数５００〜１０００ｒｐ
ｍで回転させ、基板１００の表面に現像液が薄く残存す
る程度に基板１００上の現像液の大部分を振り落とす。
この場合、基板１００上の現像液が完全に振り切られて
乾燥しない程度に基板１００を回転させる。

【００５４】そして、図５（ｄ）に示すように、基板１
００の回転を停止させ、図５（ａ）の工程と同様に、現
像液吐出ノズル１１を走査開始位置Ｐ１から基板１００
上を通過して走査停止位置Ｐ４まで走査させつつ現像液
吐出ノズル１１により基板１００上に現像液を供給し、
基板１００上に２回目の現像液の液盛りを行う。

【００５５】所定時間経過後（１回目の液盛りから例え
ば６０秒経過後）、例えば回転数１０００ｒｐｍ程度で
基板１００を回転させ、洗浄用の純水液吐出ノズル１２
から純水を基板１００に供給し、現像の進行を停止させ
るとともに純水でリンス処理を行う。

【００５６】最後に、純水液吐出ノズル１２による純水
の供給を停止し、基板１００を例えば回転数４０００ｒ
ｐｍで回転させ、基板１００から純水を振り切り、基板
１００を乾燥させる。その後、基板１００の回転を停止
し、現像処理を終了する。

【００５７】本実施例の現像方法によると、１回目に基
板１００上に供給された現像液が感光性膜に浸透して感
光性膜の表層部の現像が開始される前に基板１００上の
現像液が新たな現像液で置換される。すなわち、現像の
進行過程で発生する溶解生成物が局所的に凝集する前に
基板１００上の現像液が新たな現像液で置換される。し
たがって、溶解生成物の局所的な凝集に起因する現像液
の弾き現象が抑制される。その結果、現像均一性が向上
するとともに、現像不良の発生が防止される。

【００５８】また、基板１００上への２回目の現像液の
供給に先立って基板１００を回転させることにより、基
板１００上の現像液の置換が容易に行われるとともに、
現像後のパターン線幅の均一性が向上する。

【００５９】本例の現像方法により基板１００に現像処
理を行った結果、１μｍのラインパターンにおいてパタ
ーン線幅のばらつきを表す３σが２０ｎｍ程度になっ
た。これに対して、図５（ｃ）の基板１００の回転およ
び図５（ｄ）の２回目の液盛りを行わなかった場合に
は、同様の１μｍのラインパターンにおいて３σが４０
〜７０ｎｍ程度であった。このように、本例の現像方法
によれば、現像後のパターン線幅の面内均一性が大幅に
改善され、現像不良の発生も抑制することができた。

【００６０】本例では、１回目の現像液の供給時および
２回目の現像液の供給時に現像液吐出ノズル１１を同じ
方向に走査させているが、１回目の現像液の供給時と２
回目の現像液の供給時とで現像液吐出ノズル１１を逆方
向に走査させてもよい。

【００６１】次に、図６を参照しながら図１の現像装置
の動作の第２の例を説明する。図６（ａ）に示すよう
に、図５（ａ）の工程と同様に、現像液吐出ノズル１１
を走査開始位置Ｐ１から基板１００上を通過して走査停
止位置Ｐ４まで走査させつつ現像液吐出ノズル１１によ
り基板１００上に現像液を供給し、基板１００上に１回
目の現像液の液盛りを行う。

【００６２】図６（ｂ）に示すように、１回目の液盛り
終了後、静止状態の基板１００上に現像液が供給された
状態を５〜４０秒間維持する。この間に、現像液吐出ノ
ズル１１は、待機ポット７から待機ポット６に戻る。

【００６３】その後、図６（ｃ）に示すように、基板保
持部１により基板１００を回転数１５〜１００ｒｐｍで
回転させながら、図６（ａ）の工程と同様に、現像液吐
出ノズル１１を走査開始位置Ｐ１から基板１００上を通
過して走査停止位置Ｐ４まで走査させつつ現像液吐出ノ
ズル１１により基板１００上に現像液を供給し、基板１
００上に２回目の現像液の液盛りを行う。現像液吐出ノ
ズル１１の走査が終了した時点で基板１００の回転を停
止させる。

【００６４】所定時間経過後（１回目の液盛りから例え
ば６０秒経過後）、例えば回転数１０００ｒｐｍ程度で
基板１００を回転させ、洗浄用の純水液吐出ノズル１２
から純水を基板１００に供給し、現像の進行を停止させ
るとともに純水でリンス処理を行う。

【００６５】最後に、純水液吐出ノズル１２による純水
の供給を停止し、基板１００を例えば回転数４０００ｒ
ｐｍで回転させ、基板１００から純水を振り切り、基板
１００を乾燥させる。その後、基板１００の回転を停止
し、現像処理を終了する。

【００６６】本実施例の現像方法によると、１回目に基
板１００上に供給された現像液が感光性膜に浸透して感
光性膜の表層部の現像が開始される前に基板１００上の
現像液が新たな現像液で置換される。すなわち、現像の
進行過程で発生する溶解生成物が局所的に凝集する前に
基板１００上の現像液が新たな現像液で置換される。し
たがって、溶解生成物の局所的な凝集に起因する現像液
の弾き現象が抑制される。その結果、現像均一性が向上
するとともに、現像不良の発生が防止される。

【００６７】また、基板１００を回転させながら基板１
００上へ２回目の現像液の供給を行うことにより、基板
１００上の現像液の置換が良好に行われるとともに、現
像後のパターン線幅の均一性が向上する。

【００６８】本例の現像方法により基板１００に現像処
理を行った結果、１μｍのラインパターンにおいて３σ
が２０ｎｍ程度になった。これに対して、図６（ｃ）の
基板１００の回転および２回目の液盛りを行わなかった
場合には、同様の１μｍのラインパターンにおいて３σ
が４０〜７０ｎｍ程度であった。このように、本例の現
像方法によれば、現像後のパターン線幅の面内均一性が
大幅に改善され、現像不良の発生も抑制することができ
た。

【００６９】本例では、１回目の現像液の供給時および
２回目の現像液の供給時に現像液吐出ノズル１１を同じ
方向に走査させているが、１回目の現像液の供給時と２
回目の現像液の供給時とで現像液吐出ノズル１１を逆方
向に走査させてもよい。

【００７０】本実施例の現像装置では、現像液吐出ノズ
ル１１が静止した基板１００上に到達する前に現像液の
吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基板１０
０に衝撃を与えることが回避される。それにより、現像
液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生が防止さ
れる。

【００７１】また、現像液吐出ノズル１１の移動中に空
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、現像液が乾燥することで発生するパ
ーティクルが基板１００上の感光性膜の表面に付着する
ことが防止される。

【００７２】さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。

【００７３】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。

【００７４】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。

【００７５】なお、上記実施例では、本発明をスリット
状吐出口を有する現像液吐出ノズルを用いた現像装置お
よび現像方法に適用した場合を説明したが、本発明は、
静止状態の基板上に現像液を供給し、基板上に保持され
た現像液で現像処理を行うパドル現像方式の現像装置お
よび現像方法であれば、他の現像液吐出ノズルを用いた
現像装置および現像方法にも適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図で
ある。

【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。

【図４】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口を示す図
である。

【図５】図１の現像装置の動作の第１の例を説明するた
めの図である。

【図６】図１の現像装置の動作の第２の例を説明するた
めの図である。

【図７】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す平面
図である。

【符号の説明】

１ 基板保持部 ８ ガイドレール ９ ノズルアーム １０ ノズル駆動部 １１ 現像液吐出ノズル １４ 現像液供給系 １３ 制御部 １５ スリット状吐出口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H096 AA25 GA31 4F041 AA05 AB01 BA12 BA34 5F046 JA02 JA06 JA11 JA13 JA27

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持する基板保持手段と、 現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、 前記現像液吐出ノズルを移動させる移動手段と、 前記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、 前記現像液吐出ノズル、前記移動手段および前記駆動手
   段を制御する制御手段とを備え、 前記制御手段は、前記基板保持手段に静止状態で保持さ
   れた基板外の一方側の位置から基板上を通過して基板外
   の他方側の位置まで前記移動手段により前記現像液吐出
   ノズルを移動させつつ前記現像液吐出ノズルにより現像
   液を基板上へ供給し、一定時間経過後、前記基板保持手
   段に保持された基板を前記駆動手段により回転させた後
   に前記基板保持手段に静止状態で保持された基板上に前
   記現像液吐出ノズルにより現像液を供給することを特徴
   とする現像装置。
2. 【請求項２】 前記制御手段は、前記現像液吐出ノズル
   による基板上への２回目の現像液の供給時に、前記基板
   保持手段に静止状態で保持された基板外の一方または他
   方側の位置から基板上を通過して基板外の他方または一
   方側の位置まで前記移動手段により前記現像液吐出ノズ
   ルを移動させることを特徴とする請求項１記載の現像装
   置。
3. 【請求項３】 前記現像液吐出ノズルは、スリット状吐
   出口を有することを特徴とする請求項１または２記載の
   現像装置。
4. 【請求項４】 前記一定時間は５秒以上４０秒以下であ
   ることを特徴とする請求項１、２または３記載の現像装
   置。
5. 【請求項５】 基板を保持する基板保持手段と、 現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、 前記現像液吐出ノズルを移動させる移動手段と、 前記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、 前記現像液吐出ノズル、前記移動手段および前記駆動手
   段を制御する制御手段とを備え、 前記制御手段は、前記基板保持手段に静止状態で保持さ
   れた基板外の一方側の位置から基板上を通過して基板外
   の他方側の位置まで前記移動手段により前記現像液吐出
   ノズルを移動させつつ前記現像液吐出ノズルにより基板
   上へ現像液を供給し、一定時間経過後、前記基板保持手
   段に保持された基板を前記駆動手段により回転させなが
   ら前記現像液吐出ノズルにより基板上に現像液を供給す
   ることを特徴とする現像装置。
6. 【請求項６】 前記制御手段は、前記現像液吐出ノズル
   による基板上への２回目の現像液の供給時に、前記基板
   保持手段に保持された基板外の一方または他方側の位置
   から基板上を通過して基板外の他方または一方側の位置
   まで前記移動手段により前記現像液吐出ノズルを移動さ
   せることを特徴とする請求項５記載の現像装置。
7. 【請求項７】 前記現像液吐出ノズルは、スリット状吐
   出口を有することを特徴とする請求項５または６記載の
   現像装置。
8. 【請求項８】 前記一定時間は５秒以上４０秒以下であ
   ることを特徴とする請求項５、６または７記載の現像装
   置。
9. 【請求項９】 基板保持手段に静止状態で保持された基
   板外の一方側の位置から基板上を通過して基板外の他方
   側の位置まで現像液吐出ノズルを移動させつつ基板上に
   現像液を供給する工程と、 前記現像液吐出ノズルによる基板上への現像液の供給終
   了から一定時間経過後、前記基板保持手段に保持された
   基板を回転させた後に前記基板保持手段に静止状態で保
   持された基板上に前記現像液吐出ノズルにより現像液を
   供給する工程とを備えたことを特徴とする現像方法。
10. 【請求項１０】 基板保持手段に静止状態で保持された
    基板外の一方側の位置から基板上を通過して基板外の他
    方側の位置まで現像液吐出ノズルを移動させつつ基板上
    に現像液を供給する工程と、 前記現像液吐出ノズルによる基板上への現像液の供給終
    了から一定時間経過後、前記基板保持手段に保持された
    基板を回転させながら前記現像液吐出ノズルにより基板
    上に現像液を供給する工程とを備えたことを特徴とする
    現像方法。