JPH11244760A

JPH11244760A - 基板処理装置

Info

Publication number: JPH11244760A
Application number: JP4595098A
Authority: JP
Inventors: Joichi Nishimura; 讓一西村; Masami Otani; 正美大谷
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1998-02-26
Filing date: 1998-02-26
Publication date: 1999-09-14

Abstract

(57)【要約】【課題】基板上に均一に処理液を供給することができ
る基板処理装置を提供することである。【解決手段】現像液吐出ノズル１１のノズル本体部１
６は、平面状の前方側底面１７ａおよび平面状の後方側
底面１７ｂからなる段差状の底面１７を有する。ノズル
本体部１６の前方側底面１７ａと基板との間隔は後方側
底面１７ｂと基板との間隔よりも小さい。ノズル本体部
１６は親水性材料により形成され、ノズル本体部１６の
前方側底面１７ａおよび前方側の外壁面１８は撥水性材
料層２０でコーティングされている。現像処理時に基板
を基板保持部により静止状態で保持する。現像液吐出ノ
ズル１１を基板外の一方側の位置から基板上を通過して
基板外の他方側の位置へ直線状に移動させつつ現像液を
基板上に供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理液を吐出する
処理液吐出ノズルを備えた基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に処理液を供給して基板に所定の処理を行う基板
処理装置が用いられる。このような基板処理装置として
は、現像装置、塗布装置等がある。

【０００３】現像装置では、基板上に形成された感光性
膜に処理液として現像液を供給することにより現像処理
を行う。また、塗布装置では、基板の表面に処理液とし
てフォトレジスト液等の塗布液を供給することにより塗
布処理を行う。

【０００４】例えば、回転式現像装置は、基板を水平に
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。

【０００５】現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機
位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に
現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転に
よって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液
盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜
の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液
吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から
退いた待機位置に移動する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来の回転式現
像装置では、回転する基板に吐出開始時の現像液が当た
ることにより基板上の感光性膜が大きな衝撃を受ける。
その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光性膜の表面に残
留する微小な気泡が現像欠陥となる場合がある。また、
吐出開始時の現像液による衝撃で感光性膜が損傷するお
それもある。

【０００７】そこで、スリット状吐出口を有する現像液
吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板上の一端から
他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動させることによ
り、基板上に現像液を供給する現像方法が提案されてい
る。この現像方法によれば、基板上の感光性膜に衝撃が
加わらず、基板上に現像液が均一に供給される。

【０００８】しかしながら、スリット状吐出口を有する
現像液吐出ノズルを直線状に移動させると、移動する現
像液吐出ノズルの位置よりも現像液が先行して基板上に
流れる現象が生じる。このような現象が生じると、基板
上の現像液が先行した部分で現像液が進んでしまい、基
板面内で現像むらを生じる不都合がある。また、このよ
うな現象が生じると、先行して基板上を流れた現像液が
現像の進行により劣化し、この劣化した現像液が現像液
吐出ノズルの移動とともに基板上を流動するので新鮮な
現像液が供給されない部分が基板上に生じ、それによ
り、基板面内で現像均一性が悪くなり、現像後のパター
ン線幅の均一性が低下したり、現像不良が生じることが
ある。

【０００９】本発明の目的は、基板上に均一に処理液を
供給することができる基板処理装置を提供することであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板を保持する基板保持手
段と、処理液を吐出する吐出口を有する処理液吐出ノズ
ルと、基板保持手段に保持された基板上に処理液吐出ノ
ズルの吐出口から処理液が供給されるように処理液吐出
ノズルを基板に対して相対的に移動させる移動手段とを
備え、処理液吐出ノズルの移動方向において処理液吐出
ノズルの吐出口よりも前方側の下端と基板との間隔が吐
出口よりも後方側の下端と基板との間隔に比べて小さく
なるように処理液吐出ノズルの底面に段差が設けられた
ものである。

【００１１】本発明に係る基板処理装置においては、基
板保持手段に保持された基板上に処理液吐出ノズルの吐
出口から処理液が供給されるように移動手段により処理
液吐出ノズルが基板に対して相対的に移動する。

【００１２】この場合、処理液吐出ノズルの移動方向に
おいて処理液吐出ノズルの吐出口よりも前方側の下端と
基板との間隔が後方側の下端と基板との間隔に比べて小
さくなるように処理液吐出ノズルの底面に段差が設けら
れているので、処理液吐出ノズルの吐出口よりも前方側
での処理液の流動抵抗が吐出口よりも後方側での処理液
の流動抵抗に比べて大きくなる。そのため、吐出口の前
方側よりも後方側に処理液が流れやすくなり、処理液の
先行が防止されるとともに、吐出口の後方側に多くの処
理液が供給される。それにより、基板上への処理液の供
給が均一化され、処理液の先行に伴う基板面内での処理
の不均一性が抑えられる。その結果、処理不良の発生が
防止され、均一な処理が行われる。

【００１３】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、吐出口がスリ
ット状吐出口であるものである。この場合、処理液が一
定幅の領域に同時に供給される。

【００１４】第３の発明に係る基板処理装置は、第２の
発明に係る基板処理装置の構成において、移動手段が、
処理液吐出ノズルをスリット状吐出口とほぼ垂直な方向
に直線状に移動させるものである。この場合、処理液吐
出ノズルのスリット状吐出口が基板上を直線状に走査さ
れるので、処理液を基板上の広い面積に均一に供給する
ことができる。

【００１５】第４の発明に係る基板処理装置は、第１、
第２または第３の発明に係る基板処理装置の構成におい
て、処理液吐出ノズルの移動方向において処理液吐出ノ
ズルの吐出口よりも前方側の表面が撥水性を有し、吐出
口よりも後方側の表面が親水性を有するものである。

【００１６】この場合、処理液吐出ノズルの移動方向に
おいて処理液吐出ノズルの吐出口よりも前方側の表面が
撥水性を有するので、処理液吐出ノズルの吐出口よりも
前方側の表面に処理液が這い上がる現象が抑制される。
それにより、処理液吐出ノズルの前方側の表面での処理
液の液面の振動による微小な気泡の噛み込みが防止さ
れ、微小な気泡の噛み込みによる処理不良の発生が防止
される。

【００１７】また、処理液吐出ノズルの吐出口よりも後
方側の表面が親水性を有するので、処理液吐出ノズルの
後方側に十分な液溜まりが形成される。それにより、処
理液吐出ノズルの吐出口からの処理液の吐出に多少のば
らつきがあっても、基板上への処理液の供給が均一化さ
れ、液切れ現象や液弾き現象が十分に抑制される。

【００１８】第５の発明に係る基板処理装置は、第１〜
第４のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、処理液吐出ノズルの吐出口の内壁面が親水性を有す
るものである。

【００１９】この場合、処理液吐出ノズルの吐出口の内
壁面での処理液の流動性が高くなる。それにより、処理
液吐出ノズルの吐出口からの処理液の吐出の均一性が十
分に確保される。

【００２０】第６の発明に係る基板処理装置は、第１〜
第５のいずれかの発明に係る基板処理装置の構成におい
て、処理液吐出ノズルは、吐出口の後方側に平面状の底
面を有し、移動手段は、基板保持手段に保持された基板
の表面に対して処理液吐出ノズルの平面状の底面が平行
な状態を保つように処理液吐出ノズルを基板に対して相
対的に移動させるものである。

【００２１】この場合、処理液吐出ノズルの吐出口の後
方側の平面状の底面と基板の表面との間に互いに平行な
平面で囲まれた空間が形成される。この空間により吐出
口から吐出された処理液の整流作用が生じる。それによ
り、処理液が処理液吐出ノズルの吐出口の後方側に均一
に流れやすくなり、処理液が基板の表面により均一に供
給される。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板処理装置
の一例として現像装置について説明する。

【００２３】図１は本発明の一実施例における現像装置
の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断
面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図
である。

【００２４】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。

【００２５】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向
に回動可能に設けられている。

【００２６】ノズルアーム９には、底面にスリット状吐
出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレール
８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液吐
出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００上
を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿って
直線状に平行移動可能となっている。後述するように、
現像液吐出ノズル１５の底面は段差状に形成されてい
る。

【００２７】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１４により現像液が供給される。制
御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズ
ル１１からの現像液の吐出を制御する。

【００２８】本実施例では、基板保持部１が基板保持手
段に相当し、現像液吐出ノズル１１が処理液吐出ノズル
に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当する。

【００２９】図４は現像液吐出ノズル１１の断面図であ
る。また、図５は現像液吐出ノズル１１の底面図であ
る。

【００３０】現像液吐出ノズル１１のノズル本体部１６
は段差状の底面１７を有する。このノズル本体部１６に
は、鉛直下向きに延びかつ底面１７で開口するスリット
状吐出口１５が設けられている。段差状の底面１７は、
走査方向Ａにおいてスリット状吐出口１５よりも前方側
の平面状の底面（以下、前方側底面と呼ぶ）１７ａおよ
びスリット状吐出口１５よりも後方側の平面状の底面
（以下、後方側底面と呼ぶ）１７ｂからなる。前方側底
面１７ａは、後方側底面１７ｂよりも低い位置に形成さ
れている。それにより、図１の基板保持部１に水平に保
持された基板１００の表面と前方側底面１７ａとの間隔
が基板１００の表面と後方側底面１７ｂとの間隔よりも
小さくなる。

【００３１】現像液吐出ノズル１１は、前方側底面１７
ａおよび後方側底面１７ｂが基板１００の表面に対して
平行な状態を保つように走査方向Ａに走査される。

【００３２】ノズル本体部１６は、ステンレス鋼、石英
ガラス、パイレックスガラス、セラミックス（例えばア
ルミナ、ＳｉＣ、αＣ）等の比較的硬質な親水性材料に
より形成されている。

【００３３】走査方向Ａにおいてノズル本体部１６の前
方側底面１７ａおよびスリット状吐出口１５よりも前方
側の外壁面１８は、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイ
ド）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等の樹
脂系の撥水性材料層２０でコーティングされている。本
実施例では、ＰＴＦＥからなる撥水性材料層２０が用い
られる。走査方向Ａにおいてノズル本体部１６の後方側
底面１７ｂおよびスリット状吐出口１５よりも後方側の
外壁面１９では、親水性材料が露出している。また、ス
リット状吐出口１５の内壁面１５ａでも、親水性材料が
露出している。

【００３４】図５に示すように、スリット状吐出口１５
は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置され
る。スリット状吐出口１５のスリット幅ｔは０．０５〜
１．０ｍｍであり、本実施例では０．１ｍｍである。ま
た、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは、処理対象とな
る基板１００の直径と同じかまたはそれよりも大きく設
定され、直径８インチの基板１００を処理する場合に
は、本実施例では２１０ｍｍに設定される。

【００３５】次に、図６および図７を参照しながら図１
の現像装置の動作を説明する。現像処理時には、基板１
００は基板保持部１により静止状態で保持されている。

【００３６】待機時には、現像液吐出ノズル１１は、待
機ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像処理時に
は、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに
移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降す
る。

【００３７】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍ
ｍ／秒とする。

【００３８】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の流量は１．５Ｌ／分とする。

【００３９】現像液吐出ノズル１１は、現像液を吐出し
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する（図７参照）。これにより、基板１
００の全面に現像液が連続的に供給される。供給された
現像液は、表面張力により基板１００上に保持される。

【００４０】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。

【００４１】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。

【００４２】基板１００上に現像液が供給された状態を
一定時間維持し、現像を進行させる。このとき、モータ
２により基板保持部１を回転駆動し、基板１００を回転
させてもよい。その後、純水吐出ノズル１２により純水
を基板１００上に供給しながら基板１００を高速回転さ
せることにより基板１００上の現像液を振り切り、基板
１００を乾燥させて現像処理を終了する。

【００４３】図８は基板１００上での現像液吐出ノズル
１１の走査を示す断面図である。図８に示すように、ノ
ズル本体部１６の前方側底面１７ａと基板１００の表面
との間隔が後方側底面１７ｂと基板１００の表面との間
隔に比べて小さくなっているので、スリット状吐出口１
５よりも前方側での現像液の流動抵抗がスリット状吐出
口１５よりも後方側での現像液の流動抵抗に比べて大き
くなる。そのため、スリット状吐出口１５の前方側より
も後方側に現像液が流れやすくなり、現像液の先行が防
止されるとともに、スリット状吐出口１５の後方側に多
くの現像液が供給される。それにより、基板１００上の
全面に新鮮な現像液が均一に供給され、現像液の先行に
よる不都合を抑えられる。

【００４４】また、ノズル本体部１６の前方側底面１７
ａおよび前方側の外壁面１８が撥水性材料層２０でコー
ティングされているので、現像液吐出ノズル１１のスリ
ット状吐出口１５の前方側に現像液が先行すること、お
よび前方側の外壁面１８に現像液が這い上がる現象が十
分に抑制される。それにより、現像液吐出ノズル１１の
外壁面１８での現像液の液面の振動による微小な気泡の
噛み込みが防止される。したがって、微小な気泡の噛み
込みによる現像欠陥の発生が防止される。

【００４５】さらに、ノズル本体部１６の後方側底面１
７ｂおよび後方側の外壁面１９が親水性材料により形成
されているので、スリット状吐出口１５の後方側におけ
る保液性が良好となり、後方側底面１７ｂと基板１００
の表面との間に十分な液溜まりが形成される。それによ
り、スリット状吐出口１５からの現像液の吐出の均一性
が良くない場合でも、現像液吐出ノズル１１のスリット
状吐出口１５の後方側で液切れ現象や液弾き現象が発生
することがない。

【００４６】また、ノズル本体部１６に設けられたスリ
ット状吐出口１５の内壁面１５ａが親水性材料で形成さ
れているので、スリット状吐出口１５の内壁面１５ａで
の現像液の流動性が高くなる。それにより、スリット状
吐出口１５の全域にわたって現像液の吐出の均一性が確
保される。

【００４７】また、ノズル本体部１６の後方側底面１７
ｂと基板１００の表面との間に互いに平行な平面で囲ま
れた空間が形成され、この空間によりスリット状吐出口
１５から吐出された現像液の整流作用が生じる。それに
より、現像液がスリット状吐出口１５の後方側により均
一に流れやすくなる。

【００４８】これらの結果、現像パターンの線幅均一性
が向上するとともに、現像不良の発生が防止される。

【００４９】加えて、ノズル本体部１６が比較的硬質の
親水性材料からなるので、高い加工精度が得られ、経時
変化にも強い。したがって、良好な吐出均一性が安定し
て得られる。

【００５０】また、本実施例の現像装置では、現像液吐
出ノズル１１が静止した基板１００上に到達する前に現
像液の吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基
板１００に衝撃を与えることが回避される。それによ
り、現像液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生
が防止される。

【００５１】また、現像液吐出ノズル１１の移動中に空
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、乾燥した現像液によるパーティクル
が基板１００上の感光性膜の表面に付着することが防止
される。

【００５２】さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。

【００５３】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。

【００５４】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。

【００５５】なお、本実施例では、現像液吐出ノズル１
１のノズル本体部１６を親水性材料により形成し、ノズ
ル本体部１６の前方側底面１７ａおよび前方側の外壁面
１８に撥水性材料層２０をコーティングしているが、ノ
ズル本体部１６の前方側底面１７ａおよび前方側の外壁
面１８に他の方法で撥水性処理を行なってもよい。ま
た、ノズル本体部１６を他の材料により形成し、ノズル
本体部１６の前方側底面１７ａおよび前方側の外壁面１
８に撥水性処理を行い、後方側底面１７ｂ、後方側の外
壁面１９およびスリット状吐出口１５の内壁面１５ａに
親水性処理を行ってもよい。

【００５６】図９は本発明の他の実施例における現像液
吐出ノズルの断面図である。図９の現像液吐出ノズル２
１のノズル本体部２６は、段差状の底面２７を有する。
このノズル本体部２６には、鉛直下向きに延びかつ底面
２７で開口するスリット状吐出口２５が設けられてい
る。段差状の底面２７は、走査方向Ａにおいてスリット
状吐出口２５よりも前方側の傾斜面２９およびスリット
状吐出口２５よりも後方側の傾斜面３１からなる。前方
側の傾斜面２９の下端は、後方側の傾斜面３１の下端よ
りも低い位置に形成されている。これにより、図１の基
板保持部１に水平に保持された基板１００の表面と前方
側の傾斜面２９の下端との間隔が基板１００の表面と後
方側の傾斜面３１の下端との間隔に比べて小さくなる。

【００５７】ノズル本体部２６は、ステンレス鋼、石英
ガラス、パイレックスガラス、セラミックス（たとえば
アルミナ、ＳｉＣ、αＣ）等の比較的硬質な親水性材料
により形成されている。

【００５８】走査方向Ａにおいてノズル本体部２６の前
方側の外壁面２８および前方側の傾斜面２９は、ＰＰ
Ｓ、ＰＴＦＥ等の樹脂系の撥水性材料層３２でコーティ
ングされている。本実施例では、ＰＴＦＥからなる撥水
性材料層３２が用いられる。走査方向Ａにおいてノズル
本体部２６の後方側の外壁面３０、後方側の傾斜面３１
およびスリット状吐出口２５の内壁面２５ａでは、親水
性材料が露出している。

【００５９】スリット状吐出口２５は現像液吐出ノズル
２１の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吐出
口２５のスリット幅および吐出幅は、図５に示したスリ
ット状吐出口１５と同様である。

【００６０】本実施例の現像液吐出ノズル２１において
は、ノズル本体部２６の前方側の傾斜面２９の下端と基
板１００の表面との間隔が後方側の傾斜面３１の下端と
基板１００の表面との間隔よりも小さくなっているの
で、スリット状吐出口２５よりも前方側での現像液の流
動抵抗がスリット状吐出口２５よりも後方側での現像液
の流動抵抗に比べて大きくなる。そのため、スリット状
吐出口２５の前方側よりも後方側に現像液が流れやすく
なり、現像液の先行が防止されるとともに、スリット状
吐出口２５の後方側に多くの現像液が供給される。それ
により、基板１００上への現像液の供給が均一化され、
液切れ現象や液弾き現象が抑えられる。

【００６１】また、ノズル本体部２６の前方側の傾斜面
２９および外壁面２８が撥水性材料層３２でコーティン
グされているので、現像液吐出ノズル２１のスリット状
吐出口２５の前方側に現像液が先行すること、および前
方側の傾斜面２９および外壁面２８に現像液が這い上が
る現象が十分に抑制される。それにより、現像液吐出ノ
ズル２１の傾斜面２９および外壁面２８での現像液の液
面の振動による微小な気泡の噛み込みが防止される。し
たがって、微小な気泡の噛み込みによる現像欠陥の発生
が防止される。

【００６２】さらに、ノズル本体部２６の後方側の傾斜
面３１および外壁面３０が親水性材料により形成されて
いるので、スリット状吐出口２５の後方側における保液
性が良好となり、後方側の傾斜面３１と基板１００の表
面との間に十分な液溜まりが形成される。それにより、
スリット状吐出口２５からの現像液の吐出の均一性が良
くない場合でも、現像液吐出ノズル２１のスリット状吐
出口２５の後方側で液切れ現象や液弾き現象が発生する
ことがない。

【００６３】また、ノズル本体部２６に設けられたスリ
ット状吐出口２５の内壁面２５ａが親水性材料で形成さ
れているので、スリット状吐出口２５の内壁面２５ａで
の現像液の流動性が高くなる。それにより、スリット状
吐出口２５の全域にわたって現像液の吐出の均一性が確
保される。

【００６４】これらの結果、現像パターンの線幅均一性
が向上するとともに、現像不良の発生が防止される。

【００６５】加えて、ノズル本体部２６が比較的硬質の
親水性材料からなるので、高い加工精度が得られ、経時
変化にも強い。したがって、良好な吐出均一性が安定し
て得られる。

【００６６】なお、本実施例では、現像液吐出ノズル２
１のノズル本体部２６を親水性材料により形成し、ノズ
ル本体部２６の前方側の外壁面２８および傾斜面２９に
撥水性材料層３２をコーティングしているが、ノズル本
体部２６の前方側の外壁面２８および傾斜面２９に他の
方法で撥水性処理を行なってもよい。また、ノズル本体
部２６を他の材料により形成し、ノズル本体部２６の前
方側の外壁面２８および傾斜面２９に撥水性処理を行
い、後方側の外壁面３０、後方側の傾斜面３１およびス
リット状吐出口２５の内壁面２５ａに親水性処理を行っ
てもよい。

【００６７】上記実施例の現像液吐出ノズル１１，２１
において、ノズル本体部１６，２６のスリット状吐出口
１５，２５の前後の部分を互いに上下動可能に構成する
とともに、これらの部分を互いに上下動させる機構を設
けてもよい。それにより、現像液吐出ノズル１１，２１
を走査方向Ａと逆の方向に移動させる場合に、走査方向
Ａと逆の方向においてスリット状吐出口１５，２５の前
方側の底面または下端と基板１００との間隔を後方側の
底面または下端と基板１００との間隔よりも小さくする
ことが可能となり、現像液吐出ノズル１１，２１の走査
方向Ａおよびその逆の方向においてそれぞれ現像処理を
行うことができる。その結果、現像処理のスループット
が向上する。

【００６８】上記実施例では、本発明を現像装置に適用
した場合を説明したが、本発明は、たとえばレジスト液
等の塗布液を吐出する塗布液吐出ノズルを用いた塗布装
置など、他の基板処理装置にも適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図で
ある。

【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。

【図４】現像液吐出ノズルの断面図である。

【図５】現像液吐出ノズルの底面図である。

【図６】図１の現像装置の動作を説明するための図であ
る。

【図７】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す平面
図である。

【図８】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す断面
図である。

【図９】本発明の他の実施例における現像液吐出ノズル
の断面図である。

【符号の説明】

１基板保持部４内側カップ５外側カップ８ガイドレール９ノズルアーム１０ノズル駆動部１１，２１現像液吐出ノズル１３制御部１４現像液供給系１５，２５スリット状吐出口１５ａ，２５ａ内壁面１６，２６ノズル本体部１７底面１７ａ前方側底面１７ｂ後方側底面１８，１９，２８，３０外壁面２０，３２撥水性材料層２９，３１傾斜面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｃ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を保持する基板保持手段と、処理液を吐出する吐出口を有する処理液吐出ノズルと、前記基板保持手段に保持された基板上に前記処理液吐出
ノズルの前記吐出口から処理液が供給されるように前記
処理液吐出ノズルを前記基板に対して相対的に移動させ
る移動手段とを備え、前記処理液吐出ノズルの移動方向において前記処理液吐
出ノズルの前記吐出口よりも前方側の下端と前記基板と
の間隔が前記吐出口よりも後方側の下端と前記基板との
間隔に比べて小さくなるように前記処理液吐出ノズルの
底面に段差が設けられたことを特徴とする基板処理装
置。
【請求項２】前記吐出口がスリット状吐出口であるこ
とを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】前記移動手段は、前記処理液吐出ノズル
を前記スリット状吐出口とほぼ垂直な方向に直線状に移
動させることを特徴とする請求項１または２記載の基板
処理装置。
【請求項４】前記処理液吐出ノズルの移動方向におい
て前記処理液吐出ノズルの前記吐出口よりも前方側の表
面が撥水性を有し、前記吐出口よりも後方側の表面が親
水性を有することを特徴とする請求項１、２または３記
載の基板処理装置。
【請求項５】前記処理液吐出ノズルの前記吐出口の内
壁面が親水性を有することを特徴とする請求項１〜４の
いずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】前記処理液吐出ノズルは、移動方向にお
いて前記吐出口の後方側に平面状の底面を有し、前記移動手段は、前記基板保持手段に保持された基板の
表面に対して前記処理液吐出ノズルの前記平面状の底面
が平行な状態を保つように前記処理液吐出ノズルを前記
基板に対して相対的に移動させることを特徴とする請求
項１〜５のいずれかに記載の基板処理装置。