JP4816747B2 - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents
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Description
下降気流が形成されている処理カップ内にて基板保持部に保持された基板を回転させながら当該基板に対して液処理を行うと共に、処理カップの下部より当該処理カップ内部の雰囲気を吸引排気しかつ液を排出する液処理装置において、
前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給するためのノズルと、
前記基板保持部に保持された基板の裏面の周縁部に近接して対向した位置から外側下方へ向かって斜めに伸び出しかつ基板の周方向に環状に形成された下側ガイド部と、
その上端面が前記基板保持部に保持された基板の表面とほぼ同じ高さに位置すると共に、前記下側ガイド部との間に、基板より飛散した処理液を気流と共に下方へガイドするための下側環状流路を形成しかつ基板の外側下方領域を囲むように前記下側ガイド部に対向して環状に形成され、その内周面の縦断面形状が外側に膨らむように湾曲して下方に伸びる上側ガイド部と、
前記上側ガイド部を囲むようにかつ当該上側ガイド部の外方側から上方側に亘って設けられ、基板の回転時の気流を整流するために当該上側ガイド部との間に上側環状流路を形成する外側ガイド部と、
前記上側環状流路を途中で狭くするために外側ガイド部の下面から前記上側ガイド部の上面に向かって突出し、周方向に環状に形成された突出部と、
前記上側ガイド部の下縁部に形成され、前記上側環状流路を通ってきた気流を前記下側環状流路を通ってきた気流に合流させるための開口部と、を備えたことを特徴とする。
他の発明は、下降気流が形成されている処理カップ内にて基板保持部に保持された基板を回転させながら当該基板に対して液処理を行うと共に、処理カップの下部より当該処理カップ内部の雰囲気を吸引排気しかつ液を排出する液処理装置において、
前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給するためのノズルと、
前記基板保持部に保持された基板の裏面の周縁部に近接して対向した位置から外側下方へ向かって斜めに伸び出しかつ基板の周方向に環状に形成された下側ガイド部と、
その上端面が前記基板保持部に保持された基板の表面とほぼ同じ高さに位置すると共に、前記下側ガイド部との間に、基板より飛散した処理液を気流と共に下方へガイドするための下側環状流路を形成しかつ基板の外側下方領域を囲むように前記下側ガイド部に対向して環状に形成され、その内周面の縦断面形状が外側に膨らむように湾曲して下方に伸びる上側ガイド部と、
前記上側ガイド部を囲むようにかつ当該上側ガイド部の外方側から上方側に亘って設けられ、基板の回転時の気流を整流するために当該上側ガイド部との間に上側環状流路を形成する外側ガイド部と、
前記上側ガイド部の下縁部に形成され、前記上側環状流路を通ってきた気流を前記下側環状流路を通ってきた気流に合流させるための開口部と、を備え、
前記下側ガイド部は、上側ガイド部に対向する面の縦断面形状が下方側に膨らむように湾曲していることを特徴とする。
1.前記処理カップに接続された吸引排気用の排気路と、この排気路に設けられ、吸引排気量を第1の排気量で排気する第1の状態と第1の排気量よりも少ない第2の排気量で排気する第2の状態との2段に切り替えるための排気量切り替え機構と、を備えた構成。
2.前記ノズルは、基板の中心部に処理液であるレジスト液を供給するレジストノズルと、基板の裏面の周縁のベベル部に処理液である洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、を含み、
この洗浄ノズルから前記ベベル部に洗浄液を吐出するときには、基板を回転させかつ排気量切り替え機構を第2の状態に切り替えるための制御信号を出力する制御部を設けた構成。
3.前記洗浄ノズルから前記ベベル部に洗浄液を吐出するときの基板の回転数は400rpm〜2500rpmである。
前記液処理装置を用い、
基板を回転させながら基板の中心部にノズルから処理液である塗布液を供給して基板の表面を塗布する工程と、
次いで基板を回転させながら基板に処理液である洗浄液を供給して当該基板を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。
31 スピンチャック
32 回転駆動部
33 処理カップ
40 内側カップ
45 下側ガイド部
46 ベベル洗浄ノズル
50 中間カップ
51 液受け部
60 外側カップ
61 傾斜壁
70 上側ガイド部
72 湾曲面
77 開口部
92 レジストノズル
Claims (7)
- 下降気流が形成されている処理カップ内にて基板保持部に保持された基板を回転させながら当該基板に対して液処理を行うと共に、処理カップの下部より当該処理カップ内部の雰囲気を吸引排気しかつ液を排出する液処理装置において、
前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給するためのノズルと、
前記基板保持部に保持された基板の裏面の周縁部に近接して対向した位置から外側下方へ向かって斜めに伸び出しかつ基板の周方向に環状に形成された下側ガイド部と、
その上端面が前記基板保持部に保持された基板の表面とほぼ同じ高さに位置すると共に、前記下側ガイド部との間に、基板より飛散した処理液を気流と共に下方へガイドするための下側環状流路を形成しかつ基板の外側下方領域を囲むように前記下側ガイド部に対向して環状に形成され、その内周面の縦断面形状が外側に膨らむように湾曲して下方に伸びる上側ガイド部と、
前記上側ガイド部を囲むようにかつ当該上側ガイド部の外方側から上方側に亘って設けられ、基板の回転時の気流を整流するために当該上側ガイド部との間に上側環状流路を形成する外側ガイド部と、
前記上側環状流路を途中で狭くするために外側ガイド部の下面から前記上側ガイド部の上面に向かって突出し、周方向に環状に形成された突出部と、
前記上側ガイド部の下縁部に形成され、前記上側環状流路を通ってきた気流を前記下側環状流路を通ってきた気流に合流させるための開口部と、を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 下降気流が形成されている処理カップ内にて基板保持部に保持された基板を回転させながら当該基板に対して液処理を行うと共に、処理カップの下部より当該処理カップ内部の雰囲気を吸引排気しかつ液を排出する液処理装置において、
前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給するためのノズルと、
前記基板保持部に保持された基板の裏面の周縁部に近接して対向した位置から外側下方へ向かって斜めに伸び出しかつ基板の周方向に環状に形成された下側ガイド部と、
その上端面が前記基板保持部に保持された基板の表面とほぼ同じ高さに位置すると共に、前記下側ガイド部との間に、基板より飛散した処理液を気流と共に下方へガイドするための下側環状流路を形成しかつ基板の外側下方領域を囲むように前記下側ガイド部に対向して環状に形成され、その内周面の縦断面形状が外側に膨らむように湾曲して下方に伸びる上側ガイド部と、
前記上側ガイド部を囲むようにかつ当該上側ガイド部の外方側から上方側に亘って設けられ、基板の回転時の気流を整流するために当該上側ガイド部との間に上側環状流路を形成する外側ガイド部と、
前記上側ガイド部の下縁部に形成され、前記上側環状流路を通ってきた気流を前記下側環状流路を通ってきた気流に合流させるための開口部と、を備え、
前記下側ガイド部は、上側ガイド部に対向する面の縦断面形状が下方側に膨らむように湾曲していることを特徴とする液処理装置。 - 前記処理カップに接続された吸引排気用の排気路と、この排気路に設けられ、吸引排気量を第1の排気量で排気する第1の状態と第1の排気量よりも少ない第2の排気量で排気する第2の状態との2段に切り替えるための排気量切り替え機構と、を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の液処理装置。
- 前記ノズルは、基板の中心部に処理液であるレジスト液を供給するレジストノズルと、基板の裏面の周縁のベベル部に処理液である洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、を含み、
この洗浄ノズルから前記ベベル部に洗浄液を吐出するときには、基板を回転させかつ排気量切り替え機構を第2の状態に切り替えるための制御信号を出力する制御部を設けたことを特徴とする請求項3に記載の液処理装置。 - 前記洗浄ノズルから前記ベベル部に洗浄液を吐出するときの基板の回転数は400rpm〜2500rpmであることを特徴とする請求項4に記載の液処理装置。
- 請求項1に記載の装置を用い、
基板を回転させながら基板の中心部にノズルから処理液である塗布液を供給して基板の表面を塗布する工程と、
次いで基板を回転させながら基板に処理液である洗浄液を供給して当該基板を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。 - 請求項2に記載の装置を用い、
基板を回転させながら基板の中心部にノズルから処理液である塗布液を供給して基板の表面を塗布する工程と、
次いで基板を回転させながら基板に処理液である洗浄液を供給して当該基板を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。
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