JP7124946B2 - 液処理方法 - Google Patents
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Description
また例えば現像を行う装置においては、現像液をウエハに供給して現像を終了した後、例えば洗浄液及び不活性ガスを夫々専用のノズルから吐出してウエハの表面から溶解物を除去するようにしている。
このようなボールねじやガイドレール、あるいは配管規制部材は、移動機構が移動したときに、発塵を発生することがあり、移動機構から発生する発塵がカップ体の上方に飛散し、基板保持部に保持されたウエハに付着するおそれがあった。
基板を水平に保持するための基板保持部を囲むように設けられたカップ体と、
前端部に前記ノズルが設けられ、後端部が支持部に支持されたノズルアームと、
待機位置と前記ノズルから処理液を基板に供給する処理位置との間で前記支持部を介してノズルアームを移動させるための移動機構と、
前記支持部を昇降させる昇降機構と、
前記移動機構及び昇降機構が配置された駆動領域よりも上方側に設けられ、前記支持部の移動路に対応する部位に当該支持部が移動できるように開口部が形成され、前記駆動領域を前記カップ体内にて基板が保持される領域と区画するためのカバー部材と、を備えた液処理装置を用い、
前記カップ体内に開口する第1の排気口の排気流量よりも、前記駆動領域を排気するためのカップ体の外側に開口する第2の排気口の排気流量を大きくした状態で、前記ノズルアームを待機位置から処理位置に移動させる工程と、
次いで、前記第2の排気口の排気流量よりも第1の排気口の排気流量を大きくした状態で、ノズルから基板に処理液を供給する工程と、を含むことを特徴とする。
また筐体10の底面には、前後方向に伸びるガイドレール55と、移動基台54をガイドレール55に沿って、前後方向に移動させるための、モータ、タイミングベルト及びプーリなどで構成された図示しない駆動機構が設けられている。このモータによりプーリを回転させて、タイミングベルトを駆動させることにより、移動基台54がガイドレール55に沿って、前後方向に移動する。移動基台54、駆動機構及びガイドレール55は現像ノズル51を前後方向に進退させる移動機構を構成する。
また補助ノズル部7は、図5に示した現像ノズル部5とほぼ同様に構成されている。図4では、第3のノズル部7における、第3のノズルアーム、支持柱、移動基台及びガイドレールを、夫々符号72、73、74及び75で示している。
この時例えば移動基台54、64、74や配線規制部材8などの駆動する部位においては、駆動により発生したパーティクルが付着していることがあるが、カバー部材15によりこれら駆動する部位の上方が塞がれている。またカバー部材15における隔壁部29がスピンチャック2に保持されたウエハWから移動基台54、64、74が臨む位置を遮っている。そのためFFU18から供給されるダウンフローは、パーティクルまで到達せず、パーティクルがダウンクローにより巻き上げられることがない。また移動基台54、64、74や配線規制部材8に付着しているパーティクルは、カバー部材15の下方側から、第2の排気口94に流れ込む気流に捕捉されて除去される。
その後外部の搬送機構によりウエハWが搬入出口を介して現像処理部1の上方に搬入され、搬送機構と支持ピン392との協働作用によりウエハWがスピンチャック2に受け渡される。
現像ノズル51を処理位置に移動させたとき、図10に示すように現像液供給管56は上流側が固定具50に固定され、下流側の端部が第1のノズルアーム52の後方に固定されている。そのため第1のノズルアーム52の前進に従い、前後方向に屈曲変形する
この場合にもウエハWに現像液を供給するときには、現像ノズル部5を待機位置に位置させた状態で、補助ノズル部7を移動させるようにすることで、カバー部材15の開口部16a、16b、16cの開放を限定することができる。
また各ノズル部5、6、7の移動基台54、64、74をカップ体3の上端よりも低い位置に設けている。パーティクルの発生源となる移動基台54、64、74の位置が高い場合にはFFU18に近くなるため気流の影響を受けやすく、ダウンフローにより巻き上げられるおそれが大きい。そのため移動基台54、64、74、ガイドレール55、65、75及び配線規制部材8を低い位置、具体的には、カップ体3の上端よりも低い位置とすることで、ウエハWへのパーティクルの付着を抑制することができる。
また上述の実施の形態に示したようにノズルを待機位置から処理位置に移動させる時には、モジュール排気に切り替えるようにしてもよい。これによりノズルを待機位置から処理位置に移動させる時にカバー部材15の外部の雰囲気が開口部16a、16b、16cを介して駆動領域に流れ込む気流を形成できる。そのため駆動領域に生じたパーティクルのカップ体3側への流出をより防ぐことができる。
あるいはノズルの待機位置を低くして天板部20を低くしてもよい。天板部20を低く配置することで、隔壁部19を設けない構成においても、移動機構や昇降機構をスピンチャック2に保持されたウエハWからが臨む位置から外すことができる。そのため移動機構や昇降機構に発生するパーティクルのウエハW側への飛散が抑制される
また本発明は、レジスト塗布装置や、洗浄装置などに適用してもよい。さらに現像液などの処理液を供給する装置に限らず、基板にガスや、ミストなどの処理流体を供給する装置であってもよい。あるいは基板に蒸気を供給する装置であってもよい。
2 スピンチャック
3 カップ体
5 現像ノズル部
6 洗浄ノズル部
7 補助ノズル部
8 配線規制部材
9 排気ダクト
15 カバー部材
16a~16c 開口部
18 FFU
38 排気管
39 第1の排気口
52、62、72 ノズルアーム
54、64、74 移動基台
94 第2の排気口
95 排気ダンパ
W ウエハ
Claims (6)
- ノズルから基板に処理液を供給して液処理を行う方法において、
基板を水平に保持するための基板保持部を囲むように設けられたカップ体と、
前端部に前記ノズルが設けられ、後端部が支持部に支持されたノズルアームと、
待機位置と前記ノズルから処理液を基板に供給する処理位置との間で前記支持部を介してノズルアームを移動させるための移動機構と、
前記支持部を昇降させる昇降機構と、
前記移動機構及び昇降機構が配置された駆動領域よりも上方側に設けられ、前記支持部の移動路に対応する部位に当該支持部が移動できるように開口部が形成され、前記駆動領域を前記カップ体内にて基板が保持される領域と区画するためのカバー部材と、を備えた液処理装置を用い、
前記カップ体内に開口する第1の排気口の排気流量よりも、前記駆動領域を排気するためのカップ体の外側に開口する第2の排気口の排気流量を大きくした状態で、前記ノズルアームを待機位置から処理位置に移動させる工程と、
次いで、前記第2の排気口の排気流量よりも第1の排気口の排気流量を大きくした状態で、ノズルから基板に処理液を供給する工程と、を含むことを特徴とする液処理方法。 - 前記液処理装置は、前記カップ体を囲むように設けられると共に上部側の空間と下部側の空間とを区画する区画板を備え、
前記カバー部材は、前記区画板に連続して形成されていることを特徴とする請求項1記載の液処理方法。 - 前記待機位置は、前記カップ体の後方側に位置し、
前記移動機構は、ノズルアームを前後方向に移動させるように構成され、
前記開口部は、待機位置に置かれているノズルアームにより塞がれるように構成されていることを特徴とする請求項1または2記載の液処理方法。 - 互に独立して横方向に移動可能かつ昇降可能に構成された複数のノズルアームを備え、
複数のノズルアームを夫々支持する複数の支持部は互に左右方向に配置され、
複数のノズルアームに夫々設けられたノズルは互に前後方向に配置されていることを特徴とする請求項3記載の液処理方法。 - 複数のノズルの内の処理流体を基板に供給するノズルが待機位置から移動するときには、他のノズルが待機位置に位置することを特徴とする請求項4に記載の液処理方法。
- 前記ノズルアームの移動領域及びカップ体は筐体に囲まれ、
前記筐体内におけるカップ体の上方には、当該カップ体に向けて清浄気体のダウンフローを供給するファンフィルタユニットが設けられていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一項に記載の液処理方法。
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