JP4900949B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図3は、この発明に係る基板処理装置の第1実施形態を示すもので、上記塗布ユニットU1に備えられたレジスト塗布処理装置の概略断面図である。
図7は、この発明に係る基板処理装置の第2実施形態を示すもので、上記現像ユニットU2に備えられた現像処理装置の概略断面図、図8は、上記現像処理装置の概略平面図である。
上記実施形態は、この発明に係る基板処理装置(レジスト塗布処理装置5、現像処理装置6)により、レチクル等のガラス基板の処理に関する場合について説明したが、この発明はこれに限らず、例えば、この発明は、LCD,FPD(フラットパネルディスプレイ)等の方形の基板にも適用できる。
5 レジスト塗布処理装置
6 現像処理装置
10 スピンチャック(保持手段)
11 プレート
11a 側面
11b 突起
12 塗布液供給ノズル(処理液供給ノズル)
13 洗浄液供給ノズル
15 駆動部
20 プレート移動機構
21 ピストン
22 駆動シリンダ
23 昇降カム
24 可動連結部材
25 切換弁
26 空気供給源
30 コントローラ(制御手段)
60 回転基台(保持手段)
62 駆動部
70 現像ノズル(処理液供給ノズル)
71 裏面洗浄ノズル(洗浄液供給ノズル)
72 リンスノズル(洗浄液供給ノズル)
V1〜V5 第1〜第5の開閉弁
Claims (3)
- 角形の被処理基板を水平状態に保持し、鉛直軸回りに回転する保持手段と、
上記保持手段にて保持された被処理基板の各辺の外方近傍に位置すると共に、被処理基板の表面と略同一平面の表面を有する気流調整用のプレートと、
上記保持手段にて保持された被処理基板の表面に処理液を供給する処理液供給ノズルと、
上記保持手段にて保持された被処理基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、を具備する基板処理装置において、
上記各プレートを上記被処理基板の辺に対して選択的に接離移動するプレート移動機構を具備してなり、
上記プレート移動機構は、保持手段の回転軸部に設けられ、流体の給排によってピストンを往復動する駆動シリンダと、この駆動シリンダのピストンに連結される略コーン形の昇降カムと、この昇降カムの側面に一端が係合し、他端がプレートに連結する可動連結部材とを具備する、ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
上記プレートにおける被処理基板の辺部側面と対向する面に、被処理基板の辺部側面に当接する突起部を突設してなる、ことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1又は2に記載の基板処理装置において、
上記処理液供給ノズルと処理液供給源とを接続する処理液供給管路に介設される第1の開閉弁と、
上記洗浄液供給ノズルと洗浄液供給源とを接続する洗浄液供給管路に介設される第2の開閉弁と、
上記第1及び第2の開閉弁の開閉動作と、プレート移動機構によるプレート移動とを連動して制御する制御手段と、を更に具備することを特徴とする基板処理装置。
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