JP4288207B2 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部に保持され、前記処理液により所定の処理がされた後の基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液ノズルと、
基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い吸引口を有し、基板の表面にある洗浄液を当該吸引口から吸引する吸引ノズルと、
この吸引ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる移動機構と、
前記吸引ノズルの移動範囲において基板の外縁から外にはみ出した前記吸引口の部位と対向するようにかつ基板の全周に亘って設けられた吸引抵抗体と、
前記基板保持部に保持された基板の裏面周縁部と隙間をあけて対向し、基板の全周に亘って設けられた裏面洗浄部と、を備え、
前記裏面洗浄部の上端面には、互いに内外に隣接しかつ各々基板の全周に亘って形成された、基板の裏面周縁部にリンス液を吐出する吐出口及びリンス液を吸引する吸引口が設けられていることを特徴とする。
基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
この基板の表面に処理液を供給して所定の処理を行う工程と、
この所定の処理をした後の基板の表面に洗浄液を供給して洗浄を行う工程と、
基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い吸引口を有する吸引ノズルと、この吸引ノズルの移動範囲において基板の外縁から外にはみ出した当該吸引ノズルの吸引口の部位と対向するようにかつ基板の全周に亘って配置された吸引抵抗体と、を用い、洗浄後の基板の表面にある洗浄液を前記吸引ノズルの吸引口から吸引すると共に、この吸引ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、
前記基板の表面に洗浄液を供給して洗浄を行いながらあるいは洗浄後に、前記基板保持部に保持された基板の裏面周縁部と隙間をあけて対向し、基板の全周に亘って設けられた裏面洗浄部により基板の裏面周縁部を洗浄する工程と、を含み、
基板の裏面周縁部を洗浄する工程は、裏面洗浄部の上端面に互いに内外に隣接しかつ各々基板の全周に亘って形成された吐出口及び吸引口を用い、当該吐出口から基板の裏面周縁部にリンス液を吐出しながら吸引口からリンス液を吸引することにより行われることを特徴とする。
作図の便宜上、分割部5B〜5Dの流体貯留部55、吸引路56及び吸引手段57の記載は省略してある。
2 バキュームチャック
3 現像液ノズル
36 吸引ノズル
5 吸引抵抗板
5A〜5D 分割部
54 吸引口
Claims (9)
- 円形状の基板の表面に所定の処理液を供給して当該基板に対し所定の処理を行う基板処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部に保持され、前記処理液により所定の処理がされた後の基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液ノズルと、
基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い吸引口を有し、基板の表面にある洗浄液を当該吸引口から吸引する吸引ノズルと、
この吸引ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる移動機構と、
前記吸引ノズルの移動範囲において基板の外縁から外にはみ出した前記吸引口の部位と対向するようにかつ基板の全周に亘って設けられた吸引抵抗体と、
前記基板保持部に保持された基板の裏面周縁部と隙間をあけて対向し、基板の全周に亘って設けられた裏面洗浄部と、を備え、
前記裏面洗浄部の上端面には、互いに内外に隣接しかつ各々基板の全周に亘って形成された、基板の裏面周縁部にリンス液を吐出する吐出口及びリンス液を吸引する吸引口が設けられていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記吸引抵抗体は、基板の表面からこぼれ落ちる液を吸引するための吸引口が内周面に沿って設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記吸引抵抗体は、基板の外周面に気体を供給する気体噴射口が内周面に沿って設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記吸引抵抗体は、基板の周方向に沿って複数に分割され、各分割部を基板に対して押圧して基板の位置決めを行うための押圧機構を備えたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 前記吸引抵抗体は、基板の中心線の延長線と、この延長線と基板の中心にて交差する延長線とにより区画された部位に分割されたことを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
- 円形状の基板の表面に所定の処理液を供給して当該基板に対し所定の処理を行う基板処理方法において、
基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
この基板の表面に処理液を供給して所定の処理を行う工程と、
この所定の処理をした後の基板の表面に洗浄液を供給して洗浄を行う工程と、
基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い吸引口を有する吸引ノズルと、この吸引ノズルの移動範囲において基板の外縁から外にはみ出した当該吸引ノズルの吸引口の部位と対向するようにかつ基板の全周に亘って配置された吸引抵抗体と、を用い、洗浄後の基板の表面にある洗浄液を前記吸引ノズルの吸引口から吸引すると共に、この吸引ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、
前記基板の表面に洗浄液を供給して洗浄を行いながらあるいは洗浄後に、前記基板保持部に保持された基板の裏面周縁部と隙間をあけて対向し、基板の全周に亘って設けられた裏面洗浄部により基板の裏面周縁部を洗浄する工程と、を含み、
基板の裏面周縁部を洗浄する工程は、裏面洗浄部の上端面に互いに内外に隣接しかつ各々基板の全周に亘って形成された吐出口及び吸引口を用い、当該吐出口から基板の裏面周縁部にリンス液を吐出しながら吸引口からリンス液を吸引することにより行われることを特徴とする基板処理方法。 - 前記処理液を供給する工程及び前記洗浄液を供給する工程において基板の表面からこぼれ落ちる液を吸引抵抗体の内周面に形成した吸引口から吸引する工程を行うことを特徴とする請求項6記載の基板処理方法。
- 前記処理液を供給する工程及び前記洗浄液を供給する工程において吸引抵抗体の内周面に形成した気体噴射口から基板の外周面に気体を供給する工程を行うことを特徴とする請求項6記載の基板処理方法。
- 基板の周方向に分割された吸引抵抗体の内周面で基板の外周面を周囲から押して基板の位置決めを行う工程を含むことを特徴とする請求項6ないし8のいずれか一つに記載の基板処理方法。
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