JP4343031B2 - 基板処理方法及び基板処理装置 - Google Patents
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この基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う工程と、
この現像処理の後、基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅以上に亘って形成された第1の洗浄液ノズルの吐出口から洗浄液を吐出すると共に当該第1の洗浄液ノズルを第1の移動基体により基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、
次いで、基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅以上に亘って形成された第2の洗浄液ノズルの吐出口から洗浄液を吐出すると共に、前記第1の洗浄液ノズルに続いて基板の一端から他端の長さよりも短い間隔をおいて当該第2の洗浄液ノズルを、前記第1の移動基体とは独立して移動自在な第2の移動基体により基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、を含むことを特徴とする。
前記間隔は、前記レジスト液の種類と基板に塗布されたレジストの膜厚とパターンの線幅及び密度とのいずれかの情報に対応付けられていて設定されるようにしてもよい。また第1の洗浄液ノズル及び第2の洗浄液ノズルは互に吐出口の形状が異なるようにしてもよい。
基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部に保持され、前記現像液により現像処理がされた後の基板の表面に洗浄液を供給するための基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い洗浄液吐出口を有する第1の洗浄液ノズルと、
この第1の洗浄液ノズルを前記基板の一端から他端に亘って移動させる第1の移動基体と、
前記基板の表面に洗浄液を供給するための基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い洗浄液吐出口を有する第2の洗浄液ノズルと、
前記第1の移動基体とは独立して移動自在に設けられ、前記第1の洗浄液ノズルに続いて基板の一端から他端の長さよりも短い間隔をおいて前記第2の洗浄液ノズルを前記基板の一端から他端に亘って移動させる第2の移動基体と、を備えたことを特徴とする。
前記第2の洗浄液ノズルに続いて基板の一端から他端の長さよりも短い所定の間隔をおいて前記第3の洗浄液ノズルを前記基板の一端から他端に亘って移動させる第3の移動機構と、を備えた構成であってもよい。また前記各々の洗浄液ノズルは、互いに種類、吐出圧及び温度のうち少なくとも一つが異なる洗浄液を吐出する構成であってもよく、この場合、一の洗浄液ノズルは、酸化性成分を含む洗浄液を吐出するものであってもよい。
(実施例1)
本例は、2本のリンスノズル4A,4Bを用いて現像後のウエハWを洗浄した実施例である。この実施例では各リンスノズル4A,4Bの各々がウエハW表面にリンス液を供給している時間を「リンス時間」とし、このリンス時間を3秒、5秒及び15秒に設定して夫々処理を行った。各リンス時間で洗浄した後のウエハWを乾燥し、現像欠陥検出装置により現像欠陥数をカウントした結果を図13に示す。現像欠陥数とは、ウエハW上に残ったレジスト微粒子等の異物や現像液の微細な液滴をカウントしたものである。
・ノズル間隔X(ノズルの中心位置の離間距離);40mm
・リンス液の吐出流量;4リットル/分
本例は、ノズル間隔Xを20mmに設定したことを除いて実施例1と同じ処理を行った実施例である。現像欠陥数の結果を図13に併せて示す。
本例は、ノズル間隔Xを10mmに設定したことを除いて実施例1と同じ処理を行った実施例である。現像欠陥数の結果を図13に併せて示す。
本例は、1本のリンスノズルで洗浄したことを除いて実施例1と同じ処理を行った比較例である。
図13の結果から明らかなように、ある現像欠陥数を維持しようとした場合、実施例1のリンス時間を最も短く設定することができ、反対に比較例1のリンス時間を最も長く設定しなければならないことが分かる。発明の効果を分かりやすくするため仮に欠陥数100のところでみると、各実施例において必要なリンス時間は、実施例1は5秒、実施例2は7.5秒、実施例3は8.7秒、比較例1は9.5秒となり、実施例1、実施例2、実施例3、比較例1の順にリンス時間を短く設定することができる。即ち、2本のリンスノズルを用いれば1本の場合と同等の洗浄効率を維持して洗浄時間の短縮化を図ることができることが確認された。更に、2本のリンスノズルで洗浄する場合にもノズル間隔Xを40mmとすれば、より確実に洗浄時間の短縮化を図ることができることが確認された。ノズル間隔Xを広くした方が欠陥数が少ないのは、既述のようにノズル間に形成される互いに向かい合う液流が衝突して洗浄作用が弱まったためと推測する。また更にノスル間隔Xを40mmに設定した実施例1は、リンス時間が5秒のときと15秒のときの欠陥数の差が他の例に比べて小さいので、リンス時間の条件出しが他の例に比べて容易であると言える。
2 バキュームチャック
3 現像液ノズル
4A〜4B リンスノズル
5 吸引ノズル
7 サックバックバルブ
Claims (19)
- その表面にレジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持する工程と、
この基板の表面に現像液を供給して現像処理を行う工程と、
この現像処理の後、基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅以上に亘って形成された第1の洗浄液ノズルの吐出口から洗浄液を吐出すると共に当該第1の洗浄液ノズルを第1の移動基体により基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、
次いで、基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅以上に亘って形成された第2の洗浄液ノズルの吐出口から洗浄液を吐出すると共に、前記第1の洗浄液ノズルに続いて基板の一端から他端の長さよりも短い間隔をおいて当該第2の洗浄液ノズルを、前記第1の移動基体とは独立して移動自在な第2の移動基体により基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、を含むことを特徴とする基板処理方法。 - 前記間隔は、前記レジスト液の種類と基板に塗布されたレジストの膜厚とパターンの線幅及び密度とのいずれかの情報に対応付けられて設定されることを特徴とする請求項1記載の基板処理方法。
- 前記第1の洗浄液ノズル及び第2の洗浄液ノズルは互に吐出口の形状が異なることを特徴とする請求項1または2記載の基板処理方法。
- 基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅以上に亘って形成された第3の洗浄液ノズルの吐出口から洗浄液を吐出すると共に、前記第2の洗浄液ノズルに続いて基板の長さよりも短い間隔をおいて当該第3の洗浄液ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、を含むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 前記各々の洗浄液ノズルは、互いに種類、吐出流速及び温度のうち少なくとも一つが異なる洗浄液を吐出することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載の基板処理方法。
- 一の洗浄液ノズルは、酸化性成分を含む洗浄液を吐出するものであることを特徴とする請求項5記載の基板処理方法。
- 一の洗浄液ノズルは、他の洗浄液ノズルから吐出される洗浄液のpHの異なる洗浄液を吐出するものであることを特徴とする請求項5記載の基板処理方法。
- 基板の他端を通過した第1の洗浄液ノズルを基板の一端側に戻す工程を有し、この第1の洗浄液ノズルは前記第3の洗浄液ノズルを兼用することを特徴とする請求項4に記載の基板処理方法。
- 各洗浄液ノズルにより基板上への洗浄液の供給を終了した後、吸引ノズルを基板の一端から他端に向かって移動させることにより基板上の洗浄液を吸引する工程を含むことを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一つに記載の基板処理方法。
- 表面にレジストが塗布され、露光された後の基板の表面に現像液を供給して当該基板に対し現像処理を行う基板処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部に保持され、前記現像液により現像処理がされた後の基板の表面に洗浄液を供給するための基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い洗浄液吐出口を有する第1の洗浄液ノズルと、
この第1の洗浄液ノズルを前記基板の一端から他端に亘って移動させる第1の移動基体と、
前記基板の表面に洗浄液を供給するための基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い洗浄液吐出口を有する第2の洗浄液ノズルと、
前記第1の移動基体とは独立して移動自在に設けられ、前記第1の洗浄液ノズルに続いて基板の一端から他端の長さよりも短い間隔をおいて前記第2の洗浄液ノズルを前記基板の一端から他端に亘って移動させる第2の移動基体と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記間隔を設定するために、前記間隔と、前記レジスト液の種類と基板に塗布されたレジストの膜厚とパターンの線幅及び密度とのいずれかと、を対応付けて記憶するメモリを備えたことを特徴とする請求項10記載の基板処理装置。
- 前記第1の洗浄液ノズル及び第2の洗浄液ノズルは互に吐出口の形状が異なることを特徴とする請求項10または11記載の基板処理装置。
- 基板の表面に洗浄液を供給するための基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い洗浄液吐出口を有する第3の洗浄液ノズルと、
前記第2の洗浄液ノズルに続いて基板の一端から他端の長さよりも短い所定の間隔をおいて前記第3の洗浄液ノズルを前記基板の一端から他端に亘って移動させる第3の移動機構と、を備えたことを特徴とする請求項10ないし12のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記各々の洗浄液ノズルは、互いに種類、吐出圧及び温度のうち少なくとも一つが異なる洗浄液を吐出することを特徴とする請求項10ないし13のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 一の洗浄液ノズルは、酸化性成分を含む洗浄液を吐出するものであることを特徴とする請求項14記載の基板処理装置。
- 一の洗浄液ノズルは、他の洗浄液ノズルから吐出される洗浄液のpHの異なる洗浄液を吐出するものであることを特徴とする請求項14記載の基板処理装置。
- 基板の他端を通過した第1の洗浄液ノズルを基板の一端側に戻す手段を有し、第1の洗浄液ノズルは前記第3の洗浄液ノズルを兼用することを特徴とする請求項13に記載の基板処理装置。
- 前記各々の洗浄液ノズルには液垂れ抑制手段が設けられたことを特徴とする請求項17記載の基板処理装置。
- 前記洗浄液により洗浄された後の基板の表面にある洗浄液を吸引するための基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅よりも長い吸引口を有する吸引ノズルと、
この吸引ノズルを前記基板の一端から他端に亘って移動させる移動機構と、を備えたことを特徴とする請求項10ないし18のいずれか一つに記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004162039A JP4343031B2 (ja) | 2004-05-31 | 2004-05-31 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004162039A JP4343031B2 (ja) | 2004-05-31 | 2004-05-31 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005347326A JP2005347326A (ja) | 2005-12-15 |
JP4343031B2 true JP4343031B2 (ja) | 2009-10-14 |
Family
ID=35499455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004162039A Expired - Fee Related JP4343031B2 (ja) | 2004-05-31 | 2004-05-31 | 基板処理方法及び基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4343031B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4922858B2 (ja) * | 2007-07-30 | 2012-04-25 | 株式会社東芝 | パターン形成方法及び洗浄装置 |
WO2009085250A2 (en) * | 2007-12-20 | 2009-07-09 | Lam Research Corporation | Methods of configuring a proximity head that provides uniform fluid flow relative to a wafer |
SG188086A1 (en) * | 2008-02-08 | 2013-03-28 | Lam Res Corp | Apparatus for substantially uniform fluid flow rates relative to a proximity head in processing of a wafer surface by a meniscus |
US8584613B2 (en) * | 2008-06-30 | 2013-11-19 | Lam Research Corporation | Single substrate processing head for particle removal using low viscosity fluid |
JP4812847B2 (ja) * | 2009-02-23 | 2011-11-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP5308291B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2013-10-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板洗浄装置 |
JP5623104B2 (ja) * | 2010-03-18 | 2014-11-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
JP5852898B2 (ja) * | 2011-03-28 | 2016-02-03 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP5632860B2 (ja) * | 2012-01-05 | 2014-11-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び基板洗浄用記憶媒体 |
-
2004
- 2004-05-31 JP JP2004162039A patent/JP4343031B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005347326A (ja) | 2005-12-15 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060529 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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