JP5258999B2 - 液処理におけるノズル洗浄方法及びその装置 - Google Patents
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Description
上記第1及び第2の溶剤供給手段及び上記ノズル移動手段を制御する制御手段と、を具備してなり、 上記制御手段により、上記ノズルが上記洗浄室内に収容された際、上記第1の溶剤供給手段から上記第1の流入口を介して上記洗浄室内に溶剤を所定量供給することにより、上記ノズルの先端部の回りを旋回する溶剤の渦流を形成してノズルを洗浄し、その後、上記第2の溶剤供給手段から上記第2の流入口を介して上記洗浄室内に所定量供給することにより、上記洗浄室内に溶剤の液溜りを形成して洗浄することを特徴とする。
2 塗布装置
4 ノズルユニット
4A〜4J 処理液供給ノズル
6 待機ユニット
42A〜42J 処理液供給管路
44 昇降機構(移動手段)
46 水平方向移動機構(移動手段)
61 容器
62 洗浄室
64 円筒状胴部
65 漏斗部
67 液排出室
70,70A,70B 溶剤供給源
71 第1の溶剤供給手段
72 第2の溶剤供給手段
73 第1の溶剤供給管路
74 第1の 流入口
75 第2の溶剤供給管路
76,76a,76b 第2の 流入口
100 コントローラ
VA〜VJ サックバックバルブ(吸引手段)
CA〜CL 流量調整部
R レジスト液層(処理液層)
A 空気層
T シンナー液層(溶剤層)
Claims (17)
- 処理液供給用のノズルから基板に対して処理液を吐出する処理を行う液処理において、
上記ノズルを、該ノズルの先端周囲の内周面が下方に向かって狭小となるテーパ状の漏斗部を有する洗浄室内に収容する工程と、
処理液の溶剤を供給する第1の溶剤供給手段から上記洗浄室の漏斗部に設けられた第1の流入口を介して漏斗部の内周面に沿って周方向に上記溶剤を所定量流入し、上記ノズルの先端部の回りを旋回する上記溶剤の渦流によって洗浄を行う工程と、
処理液の溶剤を供給する第2の溶剤供給手段から上記洗浄室の上記第1の流入口よりも上部に設けられた第2の流入口を介して上記漏斗部の上部に上記溶剤を所定量流入し、上記洗浄室内に上記溶剤の液溜りを形成した状態で洗浄を行う工程と、
を有することを特徴とする液処理におけるノズル洗浄方法。 - 請求項1記載の液処理におけるノズル洗浄方法において、
上記ノズルを上記洗浄室内に収容した状態では、上記漏斗部の内周面が上記ノズルの先端部の周囲に位置し、かつ上記漏斗部の内周面の下端が上記ノズルの先端部よりも上方に位置することを特徴とする液処理におけるノズル洗浄方法。 - 請求項1又は2記載の液処理におけるノズル洗浄方法において、
上記第1の溶剤供給手段から上記洗浄室の漏斗部内に流入される上記溶剤の流量を第1の流量調整部によって調整し、上記第2の溶剤供給手段から上記洗浄室内の上記漏斗部の上部に流入される上記溶剤の流量を第2の流量調整部によって調整することを特徴とする液処理におけるノズル洗浄方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄方法において、
上記第2の溶剤供給手段から上記洗浄室の内周面に沿って周方向に処理液の溶剤を流入する、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄方法において、
上記第2の溶剤供給手段から上記洗浄室の内周面に沿って、上記第1の溶剤供給手段から洗浄室内に流入される第1の溶剤の旋回方向と逆の周方向に処理液の溶剤を流入する、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄方法。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄方法において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤の流量に対して上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤の流量を同等以上とする、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄方法。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄方法において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤と上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤が同種類の溶剤である、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄方法。 - 請求項1ないし7のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄方法において、
上記溶剤の渦流によって洗浄する工程の際に、上記ノズルを上下移動させて行う、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄方法。 - 処理液供給用のノズルから基板に対して処理液を吐出する処理を行う液処理において、
上記ノズルを収容し、該ノズルの先端周囲の内周面が下方に向かって狭小となるテーパ状の漏斗部を有する洗浄室と、
上記洗浄室の上記漏斗部に設けられた第1の流入口を介して漏斗部の内周面に沿わせて処理液の溶剤を旋回供給する第1の溶剤供給手段と、
上記洗浄室の上記第1の流入口よりも上部に設けられた第2の流入口を介して上記漏斗部の上部側に処理液の溶剤を供給する第2の溶剤供給手段と、
上記ノズルを、上記洗浄室と基板に対して処理液を吐出する位置との間で移動させるノズル移動手段と、
上記第1及び第2の溶剤供給手段及び上記ノズル移動手段を制御する制御手段と、を具備してなり、
上記制御手段により、上記ノズルが上記洗浄室内に収容された際、上記第1の溶剤供給手段から上記第1の流入口を介して上記洗浄室内に溶剤を所定量供給することにより、上記ノズルの先端部の回りを旋回する溶剤の渦流を形成してノズルを洗浄し、その後、上記第2の溶剤供給手段から上記第2の流入口を介して上記洗浄室内に所定量供給することにより、上記洗浄室内に溶剤の液溜りを形成して洗浄する、
ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。 - 請求項9記載の液処理におけるノズル洗浄装置において、
上記ノズル移動手段は、上記漏斗部の内周面が上記ノズルの先端部の周囲に位置し、かつ上記漏斗部の内周面の下端が上記ノズルの先端部よりも上方に位置するようになる上記洗浄室内の位置と、上記基板に対して処理液を吐出する位置と、の間で上記ノズルを移動させることを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。 - 請求項9又は10記載の液処理におけるノズル洗浄装置において、
上記第1の溶剤供給手段により供給される溶剤の流量を調整する第1の流量調整部と、上記第2の溶剤供給手段により供給される溶剤の流量を調整する第2の流量調整部を更に具備し、上記第1及び第2の流量調整部を上記制御手段により制御可能に形成してなる、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。 - 請求項9ないし11のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄装置において、
上記第1の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第1の流入口を、洗浄室の漏斗部の内周面の接線方向に設けた、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。 - 請求項9ないし11のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄装置において、
上記第1の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第1の流入口を、洗浄室の漏斗部の内周面の接線方向に設け、
上記第2の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第2の流入口を、洗浄室の漏斗部の上部内周面の接線方向に設け、かつ、上記第1の流入口と第2の流入口を同一の接線方向とした、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。 - 請求項9ないし11のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄装置において、
上記第1の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第1の流入口を、洗浄室の漏斗部の内周面の接線方向に設け、
上記第2の溶剤供給手段が接続される上記洗浄室の第2の流入口を、洗浄室の漏斗部の上部内周面の接線方向に設け、かつ、上記第1の流入口と第2の流入口を互いに対向する接線方向とした、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。 - 請求項9ないし14のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄装置において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤の流量に対して上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤の流量を同等以上とする、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。 - 請求項9ないし15のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄装置において、
上記第1の溶剤供給手段から流入される第1の溶剤と上記第2の溶剤供給手段から流入される第2の溶剤が同種類の溶剤である、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。 - 請求項9ないし16のいずれかに記載の液処理におけるノズル洗浄装置において、
上記制御手段は、ノズルの洗浄の際に、ノズル移動手段を駆動してノズルを上下移動させる、ことを特徴とする液処理におけるノズル洗浄装置。
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