JP7364460B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本実施の形態1における基板処理システム100の構成を概略的に示す平面図である。基板処理システム100は、ロードポートLPと、インデクサロボットIRと、センターロボットCRと、制御部90(コントローラ)と、少なくとも1つの処理ユニットUT(図1においては4つの処理ユニット)とを含む。複数の処理ユニットUTは、基板SB(ウエハ)を処理するためのものであり、そのうちの少なくとも1つが、詳しくは後述する基板処理装置101に対応する。基板処理装置101は、基板処理に用いることができる枚葉式の装置であり、例えば、基板SBに付着した有機物を除去する処理に用いることができる枚葉式の装置である。基板処理装置101は、チャンバ80を有していてよい。その場合、チャンバ80内の雰囲気を制御することによって、所望の雰囲気中での基板処理を行うことができる。
図11は、本実施の形態2における、ノズル51を容器に収容する方法を概略的に示すフロー図である。
図14および図15のそれぞれは、本実施の形態3における基板処理装置102の構成を、ノズル51が処理位置にある状態および退避位置にある状態で概略的に示す平面図である。基板処理装置102は、アーム作動機構53(図3:実施の形態1)に代わってアーム作動機構53Mを有する。アーム作動機構53Mは、ノズル51が円弧に沿って水平移動するようにノズルアーム52を移動させる。なおアーム差動機構53Mはノズル51を、上記のように水平移動させるだけでなく、垂直移動もさせてよい。
図16は、本実施の形態4における基板処理装置103の構成を概略的に示す平面図である。基板処理装置103は、基板処理装置102(図14:実施の形態3)の構成に加えて、第2容器62を有する。第2容器62は、退避位置とは異なる位置におけるノズル51を収容可能なものである。これにより、第1容器61の位置以外の位置においても、ノズル51を収容することができる。図示された構成においては、第2容器62は、カップ部3から離れてカップ部3の外側に配置されている。第2容器62は、第1容器61と異なり、カップ部3と一体的に上下移動可能でなくてよい。変形例として、第2容器62は、カップ部3から離れてカップ部3の内側に配置されてもよい。
図17は、本実施の形態5における基板処理装置104の構成を概略的に示す断面図である。基板処理装置104はベベル処理用のものである。基板処理装置104は、基板処理装置101(図5:実施の形態1)の構成に加えて、ガスノズル81と、バルブ86と、ガス源85とを有する。ガスノズル81の外縁は円形形状を有している。ガスノズル81の円形形状の半径は、基板SBの半径よりも小さい。
20 :スピンチャック
21 :保持機構
22 :回転機構
22M :モータ
22X :シャフト
24 :収納部材
25 :吸引孔
26 :吸引配管
31 :底部
32 :内側ガード
32A,33A:垂下部
33 :外側ガード
40 :カップ作動機構
41 :底部作動機構
42 :内側ガード作動機構
43 :外側ガード作動機構
51 :ノズル
52 :ノズルアーム
53,53M :アーム作動機構
55 :処理液源
56 :バルブ
61 :第1容器
62 :第2容器
81 :ガスノズル
82,83 :開口
85 :ガス源
86 :バルブ
90 :制御部
100 :基板処理システム
101~104:基板処理装置
SB :基板
Claims (6)
- 処理液を用いて基板を処理するための基板処理装置であって、
前記基板を水平に保持する保持機構と、
前記基板を保持した前記保持機構を回転させる回転機構と、
前記基板へ前記処理液を供給するノズルと、
前記ノズルを保持するノズルアームと、
平面視において前記ノズルが前記基板に重なる処理位置と、平面視において前記ノズルが前記基板から外れる退避位置と、の間で前記ノズルアームを移動させるアーム作動機構と、
前記保持機構の周囲に配置され、前記基板からの前記処理液を受けるカップ部と、
上方位置と下方位置との間で前記カップ部を上下に移動させるカップ作動機構と、
前記カップ部と一体的に上下移動可能なように前記カップ部に固定され、前記退避位置における前記ノズルを収容可能な第1容器と、
前記ノズルが前記退避位置に位置するときに、前記カップ部が前記下方位置から前記上方位置へ移動するように前記カップ作動機構を制御する第1制御モードを有する制御部と、
を備え、
前記上方位置は、前記第1制御モードにおいて前記カップ部が前記上方位置へ移動させられたときに前記第1容器の上面が前記ノズルの先端部の上方にあるように設定されている、
基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記第1容器は平面視において前記カップ部に重なっている、基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、前記カップ部が前記上方位置に位置するときに、平面視において前記基板から外れ前記退避位置よりも内側の中間位置に前記ノズルを維持する第2制御モードを有している、基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記退避位置とは異なる位置における前記ノズルを収容可能な第2容器をさらに備える、基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記アーム作動機構は、前記ノズルが直線に沿って水平移動するように前記ノズルアームを移動させる、基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記アーム作動機構は、前記ノズルが円弧に沿って水平移動するように前記ノズルアームを移動させる、基板処理装置。
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