JP6123880B2 - 液処理装置 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 104
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 81
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 68
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 42
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 39
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 17
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 124
- 238000011161 development Methods 0.000 description 36
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 10
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 10
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 8
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 7
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 101150075071 TRS1 gene Proteins 0.000 description 6
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000011162 downstream development Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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Description
さらにスループットを向上させるために液処理装置の個数を増加しようとすると、液処理装置のスペースに加えて現像ノズルの設置スペースが必要となるため、かなり装置が大きくなる。また前記配列方向の長さが増大し、ウエハの搬送領域が伸びると、ウエハの搬送に時間がかかり、スループットが低下する懸念もある。
基板がその前方側から搬入出される基板保持部に基板を水平に保持し、前記基板に対して処理流体により液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部に保持された基板に対して第1の処理流体を供給する第1のノズルと、
前記基板の中心部を含む領域に第1の処理流体を供給する供給位置と前記基板保持部の後方側の待機位置との間で、基板の中心部を通る水平な直線Lの上を第1のノズルの吐出口が移動するように、前後方向に前記第1のノズルを進退させる第1のアーム部と、
前記基板保持部に保持された基板に対して第2の処理流体を供給する第2のノズルと、
前記基板の中心部を含む領域に第2の処理流体を供給する供給位置と前記基板保持部の後方側の待機位置との間で、前記直線Lの上を第2のノズルの吐出口が移動するように、前後方向に前記第2のノズルを進退させる第2のアーム部と、
前記直線L上に設けられ、前記第1のノズル及び第2のノズルを洗浄するためのノズル洗浄部と、を備え、
前記第1のアーム部及び第2のアーム部は左右方向に並んで配置され、
前記ノズル洗浄部は、ノズルに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給部と、ノズルに対してリンス液を供給するためのリンス液供給部と、ノズルに対して乾燥用のガスを供給するための乾燥ガス供給部と、を備え、これらはノズルの進退方向に沿って配置されていることを特徴とする。
またカップ体3は側壁32を備え、この側壁32の上端側は内側に傾斜して傾斜部321をなしており、カップ体3の底部側は、例えば凹部状をなす液受け部33として形成されている。液受け部33は、内側カップ34によりウエハWの周縁下方側に全周に亘って、外側領域と内側領域とに区画されている。外側領域の底面部には貯留した現像液のドレインを排出するための排液路35が接続されている。
また前記吐出口54は、第1のノズル5が供給位置と待機位置との間で移動するときに、スピンチャック2に保持されたウエハWの直径上を通るように構成されている。そして第1のアーム部51は、例えば待機位置にある第1のノズル5の吐出口54とスピンチャック2に保持されたウエハWの中心とを結ぶ直線L(図3参照)よりも左側又は右側、この例では左側に寄って設けられている。
続いて図7(a)に示すように、スピンチャック2によりウエハWを回転させながら、第1のノズル5からウエハWの中心部を含む領域に現像液を供給する。ウエハ中心部に供給された現像液Dはスピンコーティングにより、ウエハWの周縁部側へと広がり、ウエハ表面全体に塗布される。このとき第1のノズル5から現像液を吐出しながら、第1のノズル5をウエハWの中心部と外側方向との間で前記前後方向に進退移動させるようにしてもよい。
現像処理部1B〜1Dにおいても、夫々ウエハWに対して、現像処理部1Aにおける処理と同様に処理が行われる。こうして現像処理部1A→1B→1C→1Dの順にウエハWが搬入され、同様に一連の現像処理が行われる。
またスピンチャック2の配列方向はウエハWの搬送方向でもあるため、複数のスピンチャック2を配列するときに、この配列方向の長さの増大を抑えることは、ウエハWの搬送時間の低減につながり、スループットの低下を抑制できる。
さらに各専用排気路38は、最も下流側の現像処理部1Aよりもさらに下流側の地点にて共通の排気路30に集合させている。このため各カップ体からの専用排気路が共通の排気路に直接接続される構成に比べて、コンダクタンスが揃えられ、カップ体3内への逆流が抑制できると共に、カップ体3間における排気量が揃えられて、安定した排気を行うことができる。
このようなノズルの洗浄は、例えばロットの全てのウエハWに対して現像処理が行われた後、第1のノズル5と第2のノズル6とに対して順番に行われる。例えばノズル5を洗浄するときには、待機位置にあるノズル5を下降することにより、ノズル5を洗浄バス24に収容して行う。ノズル5の洗浄が終わった後、例えばノズル5を洗浄バス24よりも進退方向の手前側又は奥側に位置させてから、待機位置にある第2のノズル6を下降することにより、第1のノズル5と干渉させずに第2のノズル6を洗浄バス24に収容して行う。
またこのようなノズル洗浄部(洗浄バス)は、第1のノズル5と第2のノズル6とに対して、夫々個別に用意するようにしてもよい。この場合には、一方の洗浄バスと他方の洗浄バスとは、左右方向(X方向)に並んで配列される。このようにすると、第1のノズル5と第2のノズル6とに対して夫々同時に洗浄を行うことができて、洗浄処理に要する時間を短縮できる。
第1のノズル55はノズル移動機構を兼ねる支持部材551により支持されて、前後方向に水平に伸びる基台552に沿って移動自在に構成されている。前記支持部材551は、その基端側から上方側に伸び、次いで屈曲してスピンチャック2側に水平に伸びる略L字型に構成され、この支持部材551の先端領域の下端に第1のノズル55が設けられ、支持部材551の基端側は基台552に沿って移動自在に構成されている。553は現像液の供給管である。
前記第2のノズル66の基台664は、第1のノズル55の支持部材551と同様に、その基端側から上方側に伸び、次いで屈曲してスピンチャック2側に水平に伸びる略L字型に構成されている。また第2のノズル66の基台664と第1のノズル55の支持部材552とは、例えば図10(a)に示すように、平面的に見て互いに重なるように、支持部材551の上方側に基台664が位置するように設けられている。673、674は夫々洗浄液供給管、乾燥ガス供給管である。
この構成においても、第1のノズル55と第2のノズル66とが互いに干渉せずに、供給位置と待機位置との間で移動でき、また第1のノズル55の支持部材551と第2のノズル66の基台664とは平面的に見て重なるように設けられているので、ノズルの設置スペースをより削減することができる。
例えば前記なす角(θ1、θ2)は図11に示すように、第1のノズルと第2のノズルとが互いに干渉せずに供給位置と待機位置との間で進退移動できる大きさに適宜設定される。この例では、第1のノズル56は第1のアーム部561に支持されて、移動機構562により基台563に沿って進退自在に構成されている。また第2のノズル67は第2のアーム部671に支持されて、移動機構672により基台663に沿って進退自在に構成されている。これら第1のノズル56と第2のノズル67とは、供給位置に対して入れ替えるときに互いに干渉しない位置に設けられている。このため第1のノズル56と第2のノズル67との少なくとも一方のノズルを昇降させる必要はなく、これらは同じ高さ位置で進退自在に構成することができる。
また前記左右方向は、ウエハWの搬送領域に面しており、この左右方向のサイズが大きくなると、その分ウエハWの搬送領域が長くなる。これによりウエハWの搬送に時間がかかり、スループットが低下するので、本発明のように、液処理装置の左右方向の小型化を図ることができる構成は有効である。この場合においても、図5(b)に示すような複合ノズルを用い、一つのノズルに第1の処理流体を吐出する第1のノズルをなすノズル部と、第2の処理流体を吐出する第2のノズルをなすノズル部とを設ける構成であってもよい。
例えばウエハWを単位ブロックE1に受け渡す場合には、タワーT1の受け渡しモジュールTRSのうち、単位ブロックE1に対応する受け渡しモジュールTRS1(搬送アームF1によりウエハWの受け渡しが可能な受け渡しモジュール)に対して、前記TRS0からウエハWが受け渡される。またウエハWを単位ブロックE2に受け渡す場合には、タワーT1の受け渡しモジュールTRSのうち、単位ブロックE2に対応する受け渡しモジュールTRS2に対して、前記TRS0からウエハWが受け渡される。これらのウエハWの受け渡しは、受け渡しアーム75により行われる。
そしてTRS3、TRS4に振り分けられたウエハWは、TRS3(TRS4)→レジスト膜形成モジュールCOT→加熱モジュール→保護膜形成モジュールITC→加熱モジュール→タワーT2の受け渡しモジュールTRSの順で搬送される。前記受け渡しモジュールTRSに搬送されたウエハWは、インターフェイスアーム76、78により、タワーT3を介して露光装置D4へ搬入される。露光後のウエハWは、インターフェイスアーム77によりタワーT2、T4間を搬送されて、単位ブロックE5、E6に対応するタワーT2の受け渡しモジュールTRS5、TRS6に夫々搬送される。然る後、加熱モジュール→現像装置1→加熱モジュール→タワーT1の受け渡しモジュールTRSに搬送された後、移載機構73を介してキャリアCに戻される。
また第1のノズルと第2のノズルから夫々吐出される第1の処理流体及び第2の処理流体の種類については上述の実施の形態に限られない。例えば第1のノズルに現像液を吐出するためのノズル部と、リンス液(洗浄液)を吐出するためのノズル部を設けると共に、第2のノズルに乾燥用ガスを供給するためのノズル部を設ける構成としてもよい。この場合には、現像液及びリンス液が第1の処理流体に相当し、乾燥用ガスが第2の処理流体に相当する。
1A〜1D 現像処理部
2 スピンチャック
3 カップ体
37 排気口
38 専用排気路
4 ケース体
41 側壁
42 ノズル用の開口部
43 搬入出用の開口部
44、45 シャッター
5 第1のノズル
51 第1のアーム部
52、62 基台
53、63 移動機構
6 第2のノズル
61 第2のアーム部
Claims (9)
- 基板がその前方側から搬入出される基板保持部に基板を水平に保持し、前記基板に対して処理流体により液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部に保持された基板に対して第1の処理流体を供給する第1のノズルと、
前記基板の中心部を含む領域に第1の処理流体を供給する供給位置と前記基板保持部の後方側の待機位置との間で、基板の中心部を通る水平な直線Lの上を第1のノズルの吐出口が移動するように、前後方向に前記第1のノズルを進退させる第1のアーム部と、
前記基板保持部に保持された基板に対して第2の処理流体を供給する第2のノズルと、
前記基板の中心部を含む領域に第2の処理流体を供給する供給位置と前記基板保持部の後方側の待機位置との間で、前記直線Lの上を第2のノズルの吐出口が移動するように、前後方向に前記第2のノズルを進退させる第2のアーム部と、
前記直線L上に設けられ、前記第1のノズル及び第2のノズルを洗浄するためのノズル洗浄部と、を備え、
前記第1のアーム部及び第2のアーム部は左右方向に並んで配置され、
前記ノズル洗浄部は、ノズルに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給部と、ノズルに対してリンス液を供給するためのリンス液供給部と、ノズルに対して乾燥用のガスを供給するための乾燥ガス供給部と、を備え、これらはノズルの進退方向に沿って配置されていることを特徴とする液処理装置。 - 前記第1のアーム部及び第2のアーム部の少なくとも一方を昇降させる昇降機構を備えていることを特徴とする請求項1記載の液処理装置。
- 前記基板保持部に保持された基板及び基板の上方空間を囲むと共に第1のノズル及び第2のノズルが通過するためのノズル用の開口部がその側壁に形成された囲み部材を備えていることを特徴とする請求項1または2記載の液処理装置。
- 前記基板保持部に保持された基板の側方及び下方を周方向全体に亘って囲むように設けられたカップ体を備え、
前記囲み部材は、前記カップ体の側方を周方向全体に亘って囲むと共に、側壁の上縁がカップ体よりも高いことを特徴とする請求項3記載の液処理装置。 - 前記囲み部材の側壁部には、基板を搬入出するための基板用の開口部が形成されていることを特徴とする請求項3または4記載の液処理装置。
- 前記囲み部材には、ノズル用の開口部を開閉自在に塞ぐためのシャッターと、基板用の開口部を開閉自在に塞ぐためのシャッターと、が設けられていることを特徴とする請求項5記載の液処理装置。
- 前記基板保持部に保持された基板の側方及び下方を周方向全体に亘って囲むように設けられたカップ体を備え、
前記カップ体の底面部に開口する排気口と、
前記カップ体内の雰囲気を排気するために前記排気口に接続され、前記基板保持部から見て前方側に引き出される排気路と、を備えたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の液処理装置。 - 前記ノズル洗浄部は、液体が収容される液収容部を備え、一つの液収容部に、前記洗浄液供給部と、リンス液供給部と、乾燥ガス供給部と、が設けられることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の液処理装置。
- 前記第1のノズルの待機位置と第2のノズルの待機位置とは、互いに進退方向の前後にずれて配置されていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一項に記載の液処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015254944A JP6123880B2 (ja) | 2015-12-25 | 2015-12-25 | 液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015254944A JP6123880B2 (ja) | 2015-12-25 | 2015-12-25 | 液処理装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013156115A Division JP5867462B2 (ja) | 2013-07-26 | 2013-07-26 | 液処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016106401A JP2016106401A (ja) | 2016-06-16 |
JP6123880B2 true JP6123880B2 (ja) | 2017-05-10 |
Family
ID=56120114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015254944A Active JP6123880B2 (ja) | 2015-12-25 | 2015-12-25 | 液処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6123880B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190112666A (ko) * | 2018-03-26 | 2019-10-07 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3754322B2 (ja) * | 2001-05-24 | 2006-03-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及びその装置 |
JP5204589B2 (ja) * | 2008-08-28 | 2013-06-05 | 株式会社Sokudo | 基板処理ユニットおよび基板処理装置 |
JP5503435B2 (ja) * | 2010-07-02 | 2014-05-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP5251941B2 (ja) * | 2010-09-01 | 2013-07-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 |
JP5512560B2 (ja) * | 2011-01-18 | 2014-06-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
-
2015
- 2015-12-25 JP JP2015254944A patent/JP6123880B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190112666A (ko) * | 2018-03-26 | 2019-10-07 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016106401A (ja) | 2016-06-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160316 |
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A977 | Report on retrieval |
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|
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
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