JP5136103B2 - 洗浄装置及びその方法、塗布、現像装置及びその方法、並びに記憶媒体 - Google Patents
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Description
基板表面を上にした状態で、この基板の裏面の第1の領域を水平に保持する第1の基板保持手段と、
この第1の基板保持手段より基板を受け取って、前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に保持すると共に、この基板を鉛直軸周りに回転させる第2の基板保持手段と、
前記第2の基板保持手段により回転される基板の表面に、表面用の洗浄液を供給して当該表面を洗浄するための表面洗浄ノズルと、
前記第2の基板保持手段により回転される基板のベベル部に、ベベル部用の洗浄液を供給して当該ベベル部を洗浄するためのベベル洗浄ノズルと、
前記第1の基板保持手段又は第2の基板保持手段に保持された基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記第1の基板保持手段又は第2の基板保持手段に保持された基板の裏面に接触して当該裏面を洗浄する洗浄部材と、
前記第1の基板保持手段を前記第2の基板保持手段に対して相対的に横方向に移動させるための移動手段と、
前記第1の基板保持手段を前記第2の基板保持手段に対して相対的に上下方向に移動させるための昇降手段と、を備えることを特徴とする。
基板表面を上にした状態で、この基板の裏面の第1の領域を水平に保持する第1の基板保持手段と、
前記第1の基板保持手段に対して相対的に昇降自在に設けられ、当該第1の基板保持手段より基板を受け取って、前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に保持すると共に、この基板を鉛直軸周りに回転させる第2の基板保持手段と、
前記第2の基板保持手段により回転される基板の表面に、表面用の洗浄液を供給して当該表面を洗浄するための表面洗浄ノズルと、
前記第2の基板保持手段により回転される基板のベベル部に、ベベル部用の洗浄液を供給して当該ベベル部を洗浄するためのベベル洗浄ノズルと、
前記第1の基板保持手段又は第2の基板保持手段に保持された基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記第1の基板保持手段又は第2の基板保持手段に保持された基板の裏面に接触して当該裏面を洗浄する洗浄部材と、
基板が第1の基板保持手段により保持された状態で裏面が洗浄されているときに、前記第2の基板保持手段の基板保持領域への洗浄液の付着を防止するために当該基板保持領域を覆う位置に置かれるカバー部材と、を備え、
前記第2の基板保持手段は、基板が第1の基板保持手段により保持された状態で裏面が洗浄されているときに、第1の基板保持手段よりも下方側に位置されることを特徴とする。
基板の裏面を保持する第1の基板保持手段と、この第1の基板保持手段に対して相対的に横方向及び上下方向に移動可能であって、基板の裏面を保持する第2の基板保持手段と、を用い、
レジストが塗布され、液浸露光される前の基板を、この基板の表面を上にした状態で、この基板の裏面の第1の領域を第1の基板保持手段により保持し、基板の裏面における前記第1の領域とは重ならない第2の領域を洗浄する工程と、
次いで前記第2の基板保持手段を前記第1の基板保持手段に対して相対的に上昇させ、前記基板を第1の基板保持手段から第2の基板保持手段により受け取って、前記第2の領域を水平に保持する工程と、
前記第2の基板保持手段に保持され、鉛直軸周りに回転された基板の表面に、表面用の洗浄液を供給して当該表面を洗浄する工程と、
前記第2の基板保持手段に保持され、鉛直軸周りに回転された基板のベベル部に、ベベル部用の洗浄液を供給して当該ベベル部を洗浄する工程と、
前記基板を第2の基板保持手段に保持させて、鉛直軸周りに回転させながら、基板の裏面における前記第2の領域以外の領域を洗浄する工程と、を含み、
第1の基板保持手段により基板を保持して裏面を洗浄しているときにおける、第2の基板保持手段に対する当該第1の基板保持手段の横方向の相対位置は、基板を第1の基板保持手段から第2の基板保持手段に受け渡すときにおける前記横方向の相対位置とは異なる位置を含むことを特徴とする。
本発明に係る他の方法は、レジストが塗布され、その表面に液層を形成して液浸露光される前の基板を洗浄する洗浄方法において、
基板の裏面を保持する第1の基板保持手段と、この第1の基板保持手段に対して相対的に上下方向に移動可能であって、基板の裏面を保持する第2の基板保持手段と、を用い、
レジストが塗布され、液浸露光される前の基板を、この基板の表面を上にした状態で、この基板の裏面の第1の領域を第1の基板保持手段により保持し、第2の基板保持手段を第1の基板保持手段よりも下方側に位置させた状態で、基板の裏面における前記第1の領域とは重ならない第2の領域を洗浄する工程と、
前記第2の領域を洗浄する工程が行われている間、第2の基板保持手段の基板保持領域への洗浄液の付着を防止するために当該基板保持領域をカバー部材により覆った状態とする工程と、
次に前記カバー部材を退避させた後、前記第2の基板保持手段を前記第1の基板保持手段に対して相対的に上昇させ、前記基板を第1の基板保持手段から第2の基板保持手段により受け取って、前記第2の領域を水平に保持する工程と、
前記第2の基板保持手段に保持され、鉛直軸周りに回転された基板の表面に、表面用の洗浄液を供給して当該表面を洗浄する工程と、
前記第2の基板保持手段に保持され、鉛直軸周りに回転された基板のベベル部に、ベベル部用の洗浄液を供給して当該ベベル部を洗浄する工程と、
前記基板を第2の基板保持手段に保持させて、鉛直軸周りに回転させながら、基板の裏面における前記第2の領域以外の領域を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。
また本発明の記憶媒体は、レジストが塗布され、その表面に液層を形成して液浸露光される前の基板を洗浄する洗浄装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、前記プログラムは、前記洗浄方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする。
上述のシステムにおけるウエハWの流れの一例について説明する。先ず外部からウエハWが収納されたキャリアC1が載置部120に載置されると、開閉部121と共にキャリアC1の蓋体が外されて受け渡し手段A1によりウエハWが取り出される。そしてウエハWは、棚ユニットU1の一段をなす受け渡しユニットを介して主搬送手段A2に受け渡され、先ず疎水化処理ユニットにて、疎水化処理が行なわれる。続いてウエハWは反射防止膜形成ユニットBARCに搬送されて反射防止膜が形成された後、加熱ユニットにてベーク処理が行われる。
次いでウエハWは、塗布ユニットCOTにてその表面にレジスト膜が形成された後、加熱ユニットにてべーク処理が行われ、この後主搬送手段A3によりインターフェイス部B3へと搬送される。インターフェイス部B3では、第1の搬送アームA4→棚ユニットU6の受け渡しユニット→第2の搬送アームA5→洗浄ユニット100の経路にて洗浄ユニット100に受け渡され、当該洗浄ユニット100において、液浸露光前のウエハWに対して、その表面及びベベル部並びに裏面に対する洗浄処理が行われる。なお液浸露光用の保護膜をレジスト膜のウエハWに塗布する場合には、冷却ユニットにて冷却された後、処理部B2内における図示しないユニットにて保持膜用の薬液の塗布が行われる。
こうして洗浄されたウエハWは、露光部B4に搬入されて、ウエハWの表面に例えば純水の液膜を形成した状態で液浸露光が行われる。しかる後液浸露光を終えたウエハWは、露光部B4から取り出され、例えばインターフェイス部B3に設けられた洗浄装置100より、ウエハW表面の水滴の除去が行われ、その後棚ユニットU6の一段をなす加熱ユニットに搬入され、PEB処理が行われる。
続いてウエハWは第1の搬送アームA4によって加熱ユニットから取り出されて主搬送手段A3に受け渡され、この主搬送手段A3により現像ユニットDEVに搬入される。こうして所定の現像処理が行われた後、ウエハWは加熱ユニットにて加熱され、受け渡し手段A1を介してキャリア載置部B1の元のキャリアC1へと戻される。
この際、ウエハ表面の洗浄は、洗浄液ノズル61からウエハWの中心に向けて洗浄液Fを吐出した後、当該表面洗浄ノズル6を、例えば図11において左方向にスライド移動させ、こうしてガスノズル62の先端をウエハWの中心に位置させて、窒素ガスを例えば2秒程度吐出する(図13参照)。このようにウエハW表面の中心部に洗浄液Fを供給した後、窒素ガスを当該ウエハ表面の中心部に吹き付けると、洗浄液の中心に窒素ガスが吹き付けられ、その吹き付けられた領域は乾燥する。一方洗浄液ノズル61は洗浄液を吐出させながら、当該ノズル61をウエハWの中心から外縁に向けて徐々に移動させる。このようにすると、供給された洗浄液Fは回転の遠心力で外方に向かって流れていくので、一度乾燥した中心部が再び洗浄液Fによって濡れることがなく、洗浄液の乾燥が促進される。この例は、ガスノズル62も洗浄液ノズル61と共にスライド移動させるように構成されているが、ガスノズル62はウエハWの中心部にガスを吹きつける構成であればよいので、洗浄液ノズル61のみをスライド移動させるように構成してもよい。
100,110 洗浄装置
2 吸着パッド
2a 吸着孔
3 スピンチャック
3a 吸着孔
3b 軸部
5 ブラシ
5a 洗浄液ノズル
5b ブローノズル
6 表面洗浄ノズル
7 ベベル洗浄ノズル
8 裏面周縁洗浄ノズル
200 制御部
Claims (14)
- レジストが塗布され、その表面に液層を形成して液浸露光される前の基板を洗浄する洗浄装置において、
基板表面を上にした状態で、この基板の裏面の第1の領域を水平に保持する第1の基板保持手段と、
この第1の基板保持手段より基板を受け取って、前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に保持すると共に、この基板を鉛直軸周りに回転させる第2の基板保持手段と、
前記第2の基板保持手段により回転される基板の表面に、表面用の洗浄液を供給して当該表面を洗浄するための表面洗浄ノズルと、
前記第2の基板保持手段により回転される基板のベベル部に、ベベル部用の洗浄液を供給して当該ベベル部を洗浄するためのベベル洗浄ノズルと、
前記第1の基板保持手段又は第2の基板保持手段に保持された基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記第1の基板保持手段又は第2の基板保持手段に保持された基板の裏面に接触して当該裏面を洗浄する洗浄部材と、
前記第1の基板保持手段を前記第2の基板保持手段に対して相対的に横方向に移動させるための移動手段と、
前記第1の基板保持手段を前記第2の基板保持手段に対して相対的に上下方向に移動させるための昇降手段と、を備えることを特徴とする洗浄装置。 - レジストが塗布され、その表面に液層を形成して液浸露光される前の基板を洗浄する洗浄装置において、
基板表面を上にした状態で、この基板の裏面の第1の領域を水平に保持する第1の基板保持手段と、
前記第1の基板保持手段に対して相対的に昇降自在に設けられ、当該第1の基板保持手段より基板を受け取って、前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に保持すると共に、この基板を鉛直軸周りに回転させる第2の基板保持手段と、
前記第2の基板保持手段により回転される基板の表面に、表面用の洗浄液を供給して当該表面を洗浄するための表面洗浄ノズルと、
前記第2の基板保持手段により回転される基板のベベル部に、ベベル部用の洗浄液を供給して当該ベベル部を洗浄するためのベベル洗浄ノズルと、
前記第1の基板保持手段又は第2の基板保持手段に保持された基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記第1の基板保持手段又は第2の基板保持手段に保持された基板の裏面に接触して当該裏面を洗浄する洗浄部材と、
基板が第1の基板保持手段により保持された状態で裏面が洗浄されているときに、前記第2の基板保持手段の基板保持領域への洗浄液の付着を防止するために当該基板保持領域を覆う位置に置かれるカバー部材と、を備え、
前記第2の基板保持手段は、基板が第1の基板保持手段により保持された状態で裏面が洗浄されているときに、第1の基板保持手段よりも下方側に位置されることを特徴とする洗浄装置。 - 基板を第1の基板保持手段に保持させて、前記洗浄部材により前記第2の領域を含む基板の裏面を洗浄し、次いで基板を第1の基板保持手段から第2の基板保持手段に受け渡し、この第2の基板保持手段により基板を回転させて、前記洗浄部材により前記第2の領域以外の基板の裏面を洗浄するように、制御指令を出力する手段と、を備えることを特徴とする請求項1または2記載の洗浄装置。
- 前記制御指令を出力する手段は、前記洗浄部材により第2の領域以外の基板の裏面を洗浄しながら、表面洗浄手段及びベベル洗浄手段から夫々基板に向けて洗浄液を供給して、前記基板の表面及びベベル部の洗浄を行うように制御指令を出力することを特徴とする請求項3記載の洗浄装置。
- 前記第2の基板保持手段に保持され、回転される基板の裏面の周縁領域に、裏面周縁用の洗浄液を供給する裏面周縁洗浄手段をさらに備えることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一に記載の洗浄装置。
- 前記制御指令を出力する手段は、前記洗浄部材により第2の領域以外の基板の裏面を洗浄しながら、表面洗浄手段及びベベル洗浄手段並びに裏面周縁洗浄手段から夫々基板に向けて洗浄液を供給して、前記基板の表面及びベベル部並びに裏面ベベル部の洗浄を行うように制御指令を出力することを特徴とする請求項5記載の洗浄装置。
- 基板の表面にレジストを塗布する塗布ユニットと、
その表面に液層を形成して液浸露光された後の基板に現像液を供給して現像する現像ユニットと、
前記請求項1ないし請求項6のいずれか一に記載の洗浄装置と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。 - レジストが塗布され、その表面に液層を形成して液浸露光される前の基板を洗浄する洗浄方法において、
基板の裏面を保持する第1の基板保持手段と、この第1の基板保持手段に対して相対的に横方向及び上下方向に移動可能であって、基板の裏面を保持する第2の基板保持手段と、を用い、
レジストが塗布され、液浸露光される前の基板を、この基板の表面を上にした状態で、この基板の裏面の第1の領域を第1の基板保持手段により保持し、基板の裏面における前記第1の領域とは重ならない第2の領域を洗浄する工程と、
次いで前記第2の基板保持手段を前記第1の基板保持手段に対して相対的に上昇させ、前記基板を第1の基板保持手段から第2の基板保持手段により受け取って、前記第2の領域を水平に保持する工程と、
前記第2の基板保持手段に保持され、鉛直軸周りに回転された基板の表面に、表面用の洗浄液を供給して当該表面を洗浄する工程と、
前記第2の基板保持手段に保持され、鉛直軸周りに回転された基板のベベル部に、ベベル部用の洗浄液を供給して当該ベベル部を洗浄する工程と、
前記基板を第2の基板保持手段に保持させて、鉛直軸周りに回転させながら、基板の裏面における前記第2の領域以外の領域を洗浄する工程と、を含み、
第1の基板保持手段により基板を保持して裏面を洗浄しているときにおける、第2の基板保持手段に対する当該第1の基板保持手段の横方向の相対位置は、基板を第1の基板保持手段から第2の基板保持手段に受け渡すときにおける前記横方向の相対位置とは異なる位置を含むことを特徴とする洗浄方法。 - レジストが塗布され、その表面に液層を形成して液浸露光される前の基板を洗浄する洗浄方法において、
基板の裏面を保持する第1の基板保持手段と、この第1の基板保持手段に対して相対的に上下方向に移動可能であって、基板の裏面を保持する第2の基板保持手段と、を用い、
レジストが塗布され、液浸露光される前の基板を、この基板の表面を上にした状態で、この基板の裏面の第1の領域を第1の基板保持手段により保持し、第2の基板保持手段を第1の基板保持手段よりも下方側に位置させた状態で、基板の裏面における前記第1の領域とは重ならない第2の領域を洗浄する工程と、
前記第2の領域を洗浄する工程が行われている間、第2の基板保持手段の基板保持領域への洗浄液の付着を防止するために当該基板保持領域をカバー部材により覆った状態とする工程と、
次に前記カバー部材を退避させた後、前記第2の基板保持手段を前記第1の基板保持手段に対して相対的に上昇させ、前記基板を第1の基板保持手段から第2の基板保持手段により受け取って、前記第2の領域を水平に保持する工程と、
前記第2の基板保持手段に保持され、鉛直軸周りに回転された基板の表面に、表面用の洗浄液を供給して当該表面を洗浄する工程と、
前記第2の基板保持手段に保持され、鉛直軸周りに回転された基板のベベル部に、ベベル部用の洗浄液を供給して当該ベベル部を洗浄する工程と、
前記基板を第2の基板保持手段に保持させて、鉛直軸周りに回転させながら、基板の裏面における前記第2の領域以外の領域を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする洗浄方法。 - 前記基板の表面を洗浄する工程と、前記ベベル部を洗浄する工程と、前記基板の裏面における前記第2の領域以外の領域を洗浄する工程とは、互いに洗浄時間が重なるように行われることを特徴とする請求項8または9記載の洗浄方法。
- 前記第2の基板保持手段に保持され、回転された基板の裏面における周縁領域に裏面周縁用の洗浄液を供給して、当該周縁領域を洗浄する工程をさらに備えることを特徴とする請求項8ないし10のいずれか一項に記載の洗浄方法。
- 前記基板の表面を洗浄する工程と、前記基板の周縁を洗浄する工程と、前記基板における前記第2の領域以外の領域を洗浄する工程と、前記基板の裏面の周縁領域を洗浄する工程とは、互いに洗浄時間が重なるように行われることを特徴とする請求項11記載の洗浄方法。
- レジストが塗布され、その表面に液層を形成して液浸露光される後の基板を現像処理する塗布、現像方法において、レジストが塗布され、液浸露光される前の基板に対して請求項8ないし請求項12のいずれか一に記載の洗浄方法が行われることを特徴とする塗布、現像方法。
- レジストが塗布され、その表面に液層を形成して液浸露光される前の基板を洗浄する洗浄装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは、請求項8ないし請求項12に記載された洗浄方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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