JP5829092B2 - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents
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Description
まず、図1を用いて、本発明の第1の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムについて説明する。図1に示すように、液処理システムは、外部から被処理基板としての半導体ウエハ等の基板W(以下、ウエハWともいう)を収容したキャリアを載置するための載置台101と、キャリアに収容されたウエハWを取り出すための搬送アーム102と、搬送アーム102によって取り出されたウエハWを載置するための棚ユニット103と、棚ユニット103に載置されたウエハWを受け取り、当該ウエハWを液処理装置10内に搬送する搬送アーム104と、を備えている。図1に示すように、液処理システムには、複数(図1に示す態様では4個)の液処理装置10が設けられている。
次に、図16および図17により、本発明の第2の実施の形態による液処理装置を含む液処理システムについて説明する。
21 基板保持部
30 処理空間
31 処理空間形成体
32 天板
46 排出部
50 カップ外周筒
50m 側面開口
82 ノズル支持アーム
82a〜82c ノズル
88 アーム洗浄部
W ウエハ
Claims (14)
- 基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板を上方から覆い、前記基板保持部に保持された基板を覆う処理空間を形成する回転可能な天板と、
前記処理空間において前記基板保持部に保持された基板に対して薬液を供給する薬液ノズルと、
前記処理空間の雰囲気を置換するための置換ガスを当該処理空間に供給する置換ノズルと、
前記置換ノズルを支持し、前記処理空間内に進出した進出位置と前記処理空間から外方に退避した退避位置との間で水平方向に移動する置換ノズル支持アームと、を備え、
前記置換ノズルは、置換ガスを上方に吐出するように構成されていることを特徴とする液処理装置。 - 前記天板は、前記基板保持部に保持された基板を上方から覆う進出位置と、前記進出位置から水平方向に退避した位置である退避位置との間で移動するように構成され、
前記基板保持部に保持された基板の径方向周囲に、筒状のカップ外周筒が配設され、
前記カップ外周筒は、上昇位置と、前記上昇位置よりも下方に位置する下降位置との間で昇降自在に構成されると共に、上部に前記天板により塞がれる上部開口が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。 - 前記カップ外周筒の側面には、側面開口が形成されており、
前記置換ノズル支持アームは、前記カップ外周筒が前記上昇位置にあるときに当該カップ外周筒の前記側面開口を介して前記進出位置と前記退避位置との間で水平方向に移動するように構成されていることを特徴とする請求項2に記載の液処理装置。 - 前記処理空間において前記基板保持部に保持された基板に対してリンス液を供給するリンスノズルを更に備え、
前記カップ外周筒の側面には、前記側面開口が2つ形成されており、
前記リンスノズルを支持し、前記カップ外周筒が前記上昇位置にあるときに当該カップ外周筒の対応する前記側面開口を介して当該カップ外周筒内に進出した進出位置と前記カップ外周筒から外方に退避した退避位置との間で水平方向に移動するリンスノズル支持アームが設けられ、
前記置換ノズル支持アームの高さレベルは、前記リンスノズル支持アームの高さレベルよりも高くなっており、
前記置換ノズル支持アームと前記リンスノズル支持アームは、前記カップ外周筒内のそれぞれの前記進出位置に同時に進出可能になっていることを特徴とする請求項3に記載の液処理装置。 - 前記カップ外周筒の外方に、前記置換ノズル支持アームが前記進出位置から前記退避位置に移動するとき、または前記退避位置から前記進出位置に移動するときに、当該置換ノズル支持アームを洗浄するアーム洗浄部が設けられていることを特徴とする請求項2乃至4のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記置換ノズルにより前記処理空間に供給される置換ガスは、空気または窒素ガスであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記薬液ノズルにより基板に対して供給される薬液は、硫酸と過酸化水素水との混合液であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の液処理装置。
- 基板を水平に保持する回転可能な基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板を上方から覆い、前記基板保持部に保持された基板を覆う処理空間を形成する回転可能な天板と、
前記処理空間において前記基板保持部に保持された基板に対して薬液を供給する薬液ノズルと、
前記処理空間の雰囲気を置換するための置換ガスを当該処理空間に供給する置換ノズルと、
前記置換ノズルを支持し、前記処理空間内に進出した進出位置と前記処理空間から外方に退避した退避位置との間で水平方向に移動する置換ノズル支持アームと、を備え、
前記置換ノズルは、置換ガスを基板の回転方向に沿って水平方向に吐出するように構成されていることを特徴とする液処理装置。 - 基板を水平姿勢で保持する工程と、
保持された基板の上方を回転する天板で覆い、基板を覆う処理空間を形成する工程と、
前記処理空間において前記基板に薬液を供給することにより基板の薬液処理を行う工程と、
薬液処理が行われた前記処理空間に置換ガスを供給する置換ノズルを支持する置換ノズル支持アームを、前記処理空間の外方に退避した退避位置から前記処理空間内に進出した進出位置に水平方向に移動させる工程と、
前記処理空間内に進出した前記置換ノズル支持アームに支持された前記置換ノズルから当該処理空間に置換ガスを供給し、当該処理空間の雰囲気を置換する工程と、を備え、
前記処理空間の雰囲気を置換する工程において、前記置換ノズルは、置換ガスを上方に吐出することを特徴とする液処理方法。 - 基板を水平姿勢で保持する工程と、
保持された基板の上方を回転する天板で覆い、基板を覆う処理空間を形成する工程と、
前記処理空間において前記基板に薬液を供給することにより基板の薬液処理を行う工程と、
薬液処理が行われた前記処理空間に置換ガスを供給する置換ノズルを支持する置換ノズル支持アームを、前記処理空間の外方に退避した退避位置から前記処理空間内に進出した進出位置に水平方向に移動させる工程と、
前記処理空間内に進出した前記置換ノズル支持アームに支持された前記置換ノズルから当該処理空間に置換ガスを供給し、当該処理空間の雰囲気を置換する工程と、を備え、
前記処理空間の雰囲気を置換する工程において、前記置換ノズルは、置換ガスを回転する基板の回転方向に沿って水平方向に吐出することを特徴とする液処理方法。 - 前記処理空間において薬液処理が行われた基板にリンス液を供給することにより基板のリンス処理を行う工程を更に備え、
リンス処理を行う工程と、前記処理空間の雰囲気を置換する工程は、同時に行われることを特徴とする請求項9または10に記載の液処理方法。 - 前記処理空間の雰囲気を置換する工程の後、前記置換ノズル支持アームは、前記進出位置から前記退避位置に水平方向に移動し、この際、前記処理空間の外方に設けられたアーム洗浄部により前記置換ノズル支持アームが洗浄されることを特徴とする請求項9乃至11のいずれかに記載の液処理方法。
- 前記処理空間の雰囲気を置換する工程において前記処理空間に供給される置換ガスは、空気または窒素ガスであることを特徴とする請求項9乃至12のいずれかに記載の液処理方法。
- 基板の薬液処理を行う工程において基板に供給される薬液は、硫酸と過酸化水素水との混合液であることを特徴とする請求項9乃至13のいずれかに記載の液処理方法。
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