JP6439766B2 - 塗布、現像方法及び塗布、現像装置 - Google Patents

塗布、現像方法及び塗布、現像装置 Download PDF

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Description

本発明は、基板に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、露光後の当該レジスト膜を現像する塗布、現像方法及び塗布、現像装置に関する。
半導体装置の製造プロセスにおいては、基板である半導体ウエハ(以下、ウエハと記載する)の表面へのレジストの塗布によるレジスト膜の形成と、レジスト膜の露光と、露光後のレジスト膜の現像によるレジストパターンの形成と、からなるフォトリソグラフィ工程が行われる。近年、例えば極端紫外線(EUV)を用いて露光を行う場合のレジストパターンの解像度が高くなること、及びフォトリソグラフィ工程の後のエッチング工程において高いエッチング耐性を持つことから、金属を含有する無機系のレジストを用いてレジスト膜を形成することが検討されている。また、露光時により多くの二次電子を発生させて露光の高感度化を図るために、有機系のレジストにおいても金属を含有させることが検討されている。
ところで、半導体装置の製造工程におけるウエハの予定しない部位への金属の付着は半導体装置の電気特性に大きく影響するため、そのような金属の付着が起らないように厳しく管理されている。しかし、上記のように金属を含有するレジスト膜を現像するにあたり、溶解したレジストを含んだ現像液がウエハの表面から、ウエハの周端面及び裏面の周縁部へと回り込んでしまうことで、これらの部位が金属汚染されてしまう懸念がある。そして、このようにウエハの汚染された部位がエッチング装置などのウエハの処理装置やウエハの搬送機構に接触すると、これらの処理装置や搬送機構を介して当該ウエハの後に搬送及び処理されるウエハも金属汚染されることが考えられる。つまりクロスコンタミネーションが発生するおそれがある。なお、特許文献1にはウエハの周縁部に薬液を供給してリング状の膜を形成する技術について記載されているが、上記の問題を解決できるものでは無い。
特開2013−62436号公報
本発明はこのような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、基板の表面に形成された金属を含むレジスト膜を現像するにあたり、基板に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、露光後の当該レジスト膜を現像するにあたり、基板の周端面及び裏面側周縁部への金属の付着を抑制することができる技術を提供することである。
本発明の塗布、現像方法は、基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
前記レジスト膜が形成されていない前記基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記現像液に接することを防ぐ第1の保護膜を前記現像液が供給される前の基板に形成する保護膜形成モジュールと、
を備え、
前記保護膜形成モジュールは、前記レジストを前記基板に塗布する前に、当該基板の周端面及び裏面側周縁部にレジストが供給されることを防ぐための第2の保護膜を形成する第2の保護膜形成用の保護膜形成モジュールを含み、
前記レジスト膜を露光する前に、前記基板の裏面側周縁部に形成された当該第2の保護膜を限定的に除去する保護膜除去モジュールが設けられ、
前記保護膜形成モジュールは、現像液が前記基板の裏面側周縁部に供給される前に、当該裏面側周縁部に第3の保護膜を形成する第3の保護膜形成用の保護膜形成モジュールを含み、前記第1の保護膜は、前記基板の周端面に残留した前記第2の保護膜と、前記第3の保護膜と、により構成され、
前記第3の保護膜形成用の保護膜形成モジュールは、前記基板を回転させる回転機構と、
回転する前記基板の裏面側周縁部に処理液を供給する処理液供給部と、を備え前記第3の保護膜は当該処理液により当該基板の裏面側周縁部に形成される液膜であることを特徴とする。
本発明の他の塗布、現像方法は、基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光する工程と、
前記基板の表面に現像液を供給して前記レジスト膜を現像する現像工程と、
前記現像工程の前において、前記レジスト膜が形成されていない基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に前記現像液に接することを防ぐ第1の保護膜を形成する工程と、
を含み、
前記第1の保護膜は前記レジスト膜の露光後に形成され、
前記露光後、前記第1の保護膜の形成前に前記基板を加熱する工程を含むことを特徴とする。
本発明のさらに他の塗布、現像方法は、基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光する工程と、
前記基板の表面に現像液を供給して前記レジスト膜を現像する現像工程と、
前記現像工程の前において、前記レジスト膜が形成されていない基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に前記現像液に接することを防ぐ第1の保護膜を形成する工程と、
を含み、
前記第1の保護膜は前記レジスト膜の露光後に形成され、
当該第1の保護膜の形成後、前記現像工程を行うまでに、前記基板を加熱する工程を含むことを特徴とする。
本発明の他の塗布、現像方法は、基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光する工程と、
前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像工程と、
前記現像液が前記基板の周縁部に供給される前から、当該基板の表面から当該現像液が除去されるまでの間、前記レジスト膜が形成されていない基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記金属の付着防止液を当該基板の周に沿って供給する工程と、
を含むことを特徴とする。
本発明の塗布、現像装置は、 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
前記レジスト膜が形成されていない前記基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記現像液に接することを防ぐ第1の保護膜を前記現像液が供給される前の基板に形成する保護膜形成モジュールと、
を備え、
前記保護膜形成モジュールは、前記レジストを前記基板に塗布する前に、当該基板の周端面及び裏面側周縁部にレジストが供給されることを防ぐための第2の保護膜を形成する第2の保護膜形成用の保護膜形成モジュールを含み、
前記レジスト膜が形成された基板の裏面側周縁部に形成された前記第2の保護膜を、当該レジスト膜を露光する前に限定的に除去する保護膜除去モジュールが設けられ、
前記保護膜形成モジュールは、現像液が前記基板の裏面側周縁部に供給される前に、前記第2の保護膜が裏面側周縁部から限定的に除去された基板の当該裏面側周縁部に第3の保護膜を形成する第3の保護膜形成用の保護膜形成モジュールを含み、
前記第3の保護膜形成用の保護膜形成モジュールは、前記基板を回転させる回転機構と、
回転する前記基板の裏面側周縁部に処理液を供給する処理液供給部と、
を備え、
前記第3の保護膜は前記処理液により前記基板の裏面側周縁部に形成される液膜であり、前記第1の保護膜は、前記基板の周端面に残留した前記第2の保護膜と、前記第3の保護膜と、により構成されることを特徴とする。
本発明の他の塗布、現像装置は、基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
前記レジスト膜が形成されていない前記基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記現像液に接することを防ぐ保護膜を前記現像液が供給される前の基板に形成する保護膜形成モジュールと、
を備え、
前記保護膜は前記レジスト膜の露光後に形成され、
前記露光後、前記保護膜を形成する前の基板を加熱する加熱モジュールを備えることを特徴とする。
本発明の他の塗布、現像装置は、基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
前記レジスト膜が形成されていない前記基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記現像液に接することを防ぐ保護膜を前記現像液が供給される前の基板に形成する保護膜形成モジュールと、
を備え、
前記保護膜は前記レジスト膜の露光後に形成され、
当該保護膜の形成後、前記現像液を供給する前の基板を加熱する加熱モジュールを備えることを特徴とする。

本発明の他の塗布、現像装置は、基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
前記現像液が前記基板の周縁部に供給される前から、当該基板の表面から当該現像液が除去されるまでの間、前記レジスト膜が形成されていない基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記金属の付着防止液を当該基板の周に沿って供給する付着防止液供給部と、
を備えることを特徴とする。
本発明によれば、基板の周端面及び裏面側周縁部において、現像液が供給されることを防ぐための保護膜が形成された状態で、当該基板の表面に現像液を供給してレジスト膜を現像する。従って、現像処理中において、レジスト膜に含まれる金属が、基板の周端面及び裏面側周縁部に付着することを防ぐことができる。
また、本発明の他の発明によれば、現像液が基板の周端面及び裏面側周縁部に供給される前から現像液が基板から除去されるまでの間、当該基板の周端面及び裏面側周縁部へ、金属の付着防止液の供給が行われる。従って、現像処理中において、基板の周端面及び裏面側周縁部に、レジスト膜に含まれる金属が付着することを防ぐことができる。
本発明の第1の実施形態に係る塗布、現像装置の概略構成図である。 前記塗布、現像装置に設けられる現像モジュールの縦断側面図である。 前記塗布、現像装置に設けられる現像モジュールの縦断側面図である。 前記現像モジュールの平面図である。 前記塗布、現像装置に設けられる保護膜形成モジュールの縦断側面図である。 前記塗布、現像装置に設けられるレジスト膜形成モジュールの縦断側面図である。 ウエハの周縁部の縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記塗布、現像装置の具体例を示す横断平面図である。 前記塗布、現像装置の具体例を示す斜視図である。 前記塗布、現像装置の具体例を示す縦断側面図である。 本発明の第2の実施形態に係る塗布、現像装置の概略構成図である。 本発明の第3の実施形態に用いられる現像モジュールの縦断側面図である。 前記第3の実施形態に係るウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記第3の実施形態に係るウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記第3の実施形態におけるウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 本発明の第4の実施形態に係るウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記第4の実施形態におけるウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記ウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 本発明の第5の実施形態に用いられる現像モジュールの縦断側面図である。 前記第5の実施形態におけるウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 前記第5の実施形態におけるウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 第5の実施形態の変形例におけるウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 第5の実施形態の変形例におけるウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 第5の実施形態の変形例におけるウエハの処理工程を示す縦断側面図である。 本発明の第6の実施形態におけるウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 前記ウエハの処理工程を示す斜視図である。 本発明の第7の実施形態に用いられる保護膜形成モジュールの側面図である。 前記レジスト膜形成モジュールの変形例を示す縦断側面図である。 前記レジスト膜形成モジュールの変形例を示す縦断側面図である。 保護膜が除去されるウエハの縦断側面図である。 保護膜が形成されたウエハの縦断側面図である。 保護膜が形成されたウエハの縦断側面図である。 保護膜が形成されたウエハの縦断側面図である。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施の形態に係る塗布、現像装置1について、図1の概略構成図を参照して説明する。この塗布、現像装置1は、例えば直径が300mmの円形の基板であるウエハWを、搬送機構11によって各々個別の処理を行う複数のモジュール間を搬送し、ウエハWの表面への金属を含有するレジストの塗布によるレジスト膜の形成と、露光後のレジスト膜への現像液の供給による現像と、を行う。上記の金属を含有するレジストとは、不純物としてレジストに金属が混入しているという意味では無く、主成分としてレジストに金属が含まれるという意味である。なお、上記のレジスト膜の露光は、塗布、現像装置1に接続される露光装置12により行われる。
上記の搬送機構11はウエハWを搬送することができるように、当該ウエハWを側方から囲んで横方向の位置を規制する規制部と、ウエハWの裏面の周縁部を支持する支持部と、を備えるように構成される。また、ウエハWについてもさらに詳しく説明しておくと、ウエハWの表面側、裏面側には当該ウエハWの周端に向かって夫々下降、上昇する傾斜面、いわゆるベベルが形成されており、各ベベルはウエハWの垂直な側周面と共に、ウエハWの周端面を構成する。
レジストに含まれる金属がウエハWを介して上記の搬送機構11を汚染することを防ぐために、ウエハWの全周において、表面側のベベルよりも若干内側の位置から側周面を介して裏面側のベベルよりも若干内側の位置に亘る周縁部の領域に金属が付着しないように、上記のレジスト膜の形成及び現像が行われる。この周縁部の領域を金属付着防止領域と呼ぶことにして、より詳しく説明すると、レジストの塗布前において当該金属付着防止領域には、薬液が供給されることにより、レジストとの接触を防ぐための保護膜が形成される。つまり、金属付着防止領域が保護膜により被覆された状態でウエハWにレジストの塗布が行われて、レジスト膜が形成される。このレジスト膜において保護膜上に形成された部位は、レジストの溶剤が供給されることにより除去される。
ウエハWが露光装置12に設けられるステージに載置されて露光される際に、上記の保護膜が形成されていると、当該ステージにおけるウエハWの高さ位置が正常な位置からずれることで、ウエハWにおいて露光される位置が正常な位置からずれるおそれが有る。この露光位置のずれを防ぐために、露光が行われる前に、当該保護膜は保護膜除去用の溶剤が供給されることによって除去される。
そして、露光後、現像前において、上記の金属付着防止領域には再度、薬液が供給されることで保護膜が形成され、金属付着防止領域が保護膜により被覆された状態で、現像液が供給されてレジスト膜の現像が行われる。それによって、現像液に溶解したレジストに含まれる金属が当該金属付着防止領域に付着することが防止される。この現像後は、エッチングなどの後工程における処理の際に保護膜が形成されていることでウエハWが載置される位置が正常な位置からずれたり、保護膜からパーティクルが発生したりすることを防ぐために、保護膜除去用の溶剤が供給されることによって、当該保護膜は除去される。上記の各保護膜は現像液に溶解しない材質により構成され、例えばフェノール系樹脂、ナフタレン系樹脂ポリスチレン系樹脂、あるいはベンゼン系樹脂などを主成分とする。
このような処理を行うために塗布、現像装置1は、図1に示す保護膜形成モジュール13、加熱モジュール14〜16、レジスト膜形成モジュール17、現像モジュール2及び制御部100を備えている。図1では、実線の矢印でウエハWの搬送経路を示しており、キャリア18に格納された状態で塗布、現像装置1に搬送されたウエハWは、搬送機構11によって保護膜形成モジュール13→加熱モジュール14→レジスト膜形成モジュール17→加熱モジュール15→露光装置12→加熱モジュール16→現像モジュール2→キャリア18の順で搬送される
保護膜形成モジュール13は、レジスト膜の形成前に保護膜を形成するモジュールである。レジスト膜形成モジュール17は、レジスト膜の形成と、レジスト膜において保護膜上に形成された部位を含むウエハWの周縁部の不要な部位のレジスト膜の除去と、保護膜の除去と、を行う。現像モジュール2は、レジスト膜の露光後の保護膜の形成と、現像と、現像後の保護膜の除去と、を行う。
加熱モジュール14〜16は、ウエハWを載置して加熱する熱板を各々備えている。加熱モジュール14は、保護膜が形成された後のウエハWを加熱し、保護膜に残留する保護膜形成用の薬液を構成する溶媒を蒸発させる。加熱モジュール15は、レジスト膜の形成後、露光前のウエハWを加熱し、レジスト膜に残留する溶剤を蒸発させる。加熱モジュール16は、露光後のウエハWを加熱して、露光の際にレジスト膜中に生じた定在波を除去する、いわゆるポストエクスポージャーベーク(PEB)を行う。
続いて現像モジュール2について、縦断側面図である図2、図3と、平面図である図4とを参照して、さらに詳しく説明する。図2、図3は、後述する昇降自在な可動カップ30が上昇位置、下降位置に夫々位置した状態を夫々示している。図中21は、ウエハWの裏面中央部を吸着して当該ウエハWを水平に保持するスピンチャックであり、垂直な軸部21Aを介して回転機構22に接続されている。回転機構22は、スピンチャック21を鉛直軸周りに回転させる。図中23は昇降自在な3本の支持ピンであり、ウエハWの裏面を支持し、搬送機構11とスピンチャック21との間でウエハWを受け渡す。
図中24は円形のカップであり、スピンチャック21に保持されたウエハWの側方を囲むように設けられており、その上端部は内方側へ突出して突出部24Aを形成している。カップ24の底壁には各々起立した区画壁25A、25Bが、カップ24の外側に向かってこの順に、平面視同心円状に設けられている。そして、区画壁25A、25Bとカップ24の側壁とによって、3つの円環状の凹部26A、26B、26Cが、カップ24の外側に向かってこの順に、同心円状に形成されており、凹部26A、26B、26Cの底面には、排気口27A、排液口27B、排液口27Cが夫々開口している。
区画壁25A上には円形のリング板28が、軸部21Aに貫通されて水平に設けられている。このリング板28は、ウエハWからこぼれ落ちた液を当該リング板28の周端部に向けてガイドできるように、頂部がウエハWの下方に位置する縦断面視山型に構成されており、リング板28の周端部は下方へ引き出され、凹部26B内に進入するように形成されている。リング板28上には、保護膜形成用の薬液を吐出する下側保護膜形成用薬液ノズル41及び保護膜除去用の溶剤を吐出する下側保護膜除去用溶剤ノズル42が設けられている。なお、例えば図4に示すようにノズル41、42は周方向に近接して設けられているが、図2ではノズル41、42の両方を表示するために、ノズル41、42が、ウエハWの径方向に近接するように示している。これらの下側保護膜形成用薬液ノズル41、下側保護膜除去用溶剤ノズル42は、ウエハWの内方側から外方側へ向かって斜め上方に薬液、溶剤を夫々吐出する。
図中43は現像液ノズルであり、スリット状に形成された吐出口44から現像液を鉛直下方に吐出する。図中45は現像液供給源であり、貯留された現像液を現像液ノズル43へ供給する。図中46は、先端部にて現像液ノズル43を支持するアームである。アーム46の基端は、当該アーム46を水平移動且つ昇降させる駆動機構47に接続されている。駆動機構47によって、吐出口44の長さ方向に沿って移動すると共に、ウエハWの表面において現像液が吐出される位置が当該ウエハWの直径上を移動するように、上記の現像液ノズル43はアーム46に設けられている。また、駆動機構47によって、現像液ノズル43は、カップ24の内側と外側との間で移動することができる。
図中51は上側保護膜形成用薬液ノズルであり、保護膜形成用の薬液をウエハWの内方側から外方側に向かって斜め下方に吐出する。図中52は上側保護膜除去用溶剤ノズルであり、保護膜除去用の溶剤をウエハWの内方側から外方側に向かって斜め下方に吐出する。図中53は保護膜形成用の薬液の供給源であり、貯留された薬液を、上側保護膜形成用薬液ノズル51と、上記の下側保護膜形成用薬液ノズル41とに各々供給する。図中54は保護膜除去用の溶剤の供給源であり、貯留された溶剤を、上側保護膜除去用溶剤ノズル52と、上記の下側保護膜除去用溶剤ノズル42とに各々供給する。図中55は、先端部にて上側保護膜形成用薬液ノズル51及び上側保護膜除去用溶剤ノズル52を支持するアームである。アーム55の基端は当該アーム55を水平移動且つ昇降させる駆動機構56に接続されている。駆動機構56によって各ノズル51、52は、カップ24の内側と外側との間で移動することができる。
ところでこの第1の実施形態で使用される現像液、保護膜形成用の薬液及び保護膜除去用の溶剤は、有機溶媒を含む。後述の他の実施形態においては、これらの薬液の他に、有機溶媒である液膜形成用処理液、塩酸と過酸化水素水と水との混合液であるSC2、硫酸と過酸化水素水と水との混合液であるSPM及び純水も用いられる。SC2及びSPMは無機溶媒である。このカップ24は、有機溶媒の廃液と無機溶媒の廃液とが互いに混合されずにカップ24外へと排出されるようにするために、可動カップ30の位置によって廃液が進入する排液路が切り替えられるように構成されている。従って、この第1の実施形態ではウエハWの処理中に可動カップ30の位置が固定されるが、後述の他の実施形態ではウエハWに供給する液に応じて、可動カップ30の位置が移動する。有機溶媒がウエハWに供給されるときには図2に示す上昇位置に、無機溶媒及び純水がウエハWに供給されるときには、図3に示す下降位置に各々可動カップ30が位置する。
当該可動カップ30は、スピンチャック21に載置されたウエハWを囲むように、上下に間隔をおいて重ねて設けられた平面視円形の上側傾斜リング板31及び下側傾斜リング板32により構成されており、これら上側傾斜リング板31及び下側傾斜リング板32は、上方に向かうに従って開口径が小さくなるように傾斜している。下側傾斜リング板32は下方に向かう途中で屈曲され、その下端部は、垂直方向に伸びるように形成された円筒部33を構成し、当該円筒部33の内周面には、周方向に沿ってリング状の突起33Aが設けられている。図中30Aは、上側傾斜リング板31及び下側傾斜リング板32を上昇位置と下降位置との間で昇降させる昇降機構である。
図2に示すように可動カップ30が上昇位置に位置するときは、上側傾斜リング板31の上端とカップ24の突出部24Aとが近接し、下側傾斜リング板32の内周縁部の下面が、ウエハWから飛散する処理液を受けることができるように、当該ウエハWの表面の上方に位置する。また、円筒部33の突起33Aが、区画壁25Bの上方に位置する。図3に示すように、可動カップ30が下降位置に位置するときには、円筒部33は凹部26C内に位置し、突起33Aが区画壁25Bの外周面に近接する。また、上側傾斜リング板31の上端がウエハWの表面と同じ、または略同じ高さに位置する。
カップ24の上方には図示しないエア供給部が設けられ、下方に向けてエアを供給する。このエアの供給と上記のカップ24の排気口27Aからの排気とが、例えば現像モジュール2の稼働中、常時行われ、エア供給部から供給されたエアはカップ24へ向かう下降気流を形成し、当該排気口27Aから排気される。図2、図3中の実線の矢印は、カップ24内におけるエアの主な流れを示している。
可動カップ30が上昇位置に位置するとき、カップ24上からウエハW表面に供給されたエアは、リング板28と下側傾斜リング板32の下面との間に比較的大きく形成された空間へ流れ、突起33Aによって、リング板28の外周面と区画壁25Aの内周面との間に向けてガイドされて凹部26B内に導入される一方で、凹部26Bの外側の凹部26C内へ流れ込むことが抑制される。そして、凹部26B内へ流れ込んだエアは、区画壁25Aを乗り越えて凹部26Aの排気口27Aに流入して排気される。可動カップ30が下降位置に位置するとき、カップ24上からウエハW表面に供給されたエアは、カップ24の突出部24Aと上側傾斜リング板31の上面との間の比較的大きく形成された空間へと流れ、下側傾斜リング板32の円筒部33の外周面とカップ24の側壁の内周面との間を通過して凹部26C内に流入する。そして、区画壁25B、25Aを順に乗り越えて、排気口27Aに流入して排気される。
可動カップ30が上昇位置に位置するとき、ウエハWから飛散した各液が、凹部36Bの排液口37Bにガイドされる。図2にて点線の矢印により、カップ24内におけるこの液の流れを示している。具体的に説明すると、可動カップ30が上昇位置に配置されることで、当該液はリング板28と下側傾斜リング板32の下面との間へ飛散し、上記のエアの気流に押し流されて凹部26Bへと導入され、上記排液口27Bからカップ24外に排出される。
可動カップ30が下降位置に位置するとき、ウエハWから飛散した各液が、凹部26Cの排液口27Cにガイドされる。図3にて点線の矢印により、カップ24内におけるこの液の流れを示している。具体的に説明すると、可動カップ30が下降位置に配置されることで、当該液はカップ24の突出部24Aと上側傾斜リング板31の上面との間、及び下側傾斜リング板32と上側傾斜リング板31との間に飛散して、カップ24の側壁の内周面と円筒部33の外周面との間に導入される。そして、上記のエアの気流に押し流されて、凹部26Cへと導入され、上記排液口27Cからカップ24外に排出される。
次に保護膜形成モジュール13について、縦断側面図である図5を参照して説明する。図5中、現像モジュール2と同様に構成された箇所には、現像モジュール2の説明で用いた符号と同じ符号を付して示している。現像モジュール2との差異点として、保護膜形成モジュール13には、可動カップ30、現像液ノズル43、上側保護膜除去用溶剤ノズル52及び下側保護膜除去用溶剤ノズル42が設けられていないことが挙げられる。これらの差異点を除き、保護膜形成モジュール13は、現像モジュール2と同様に構成されている。
続いてレジスト膜形成モジュール17について、縦断側面図である図6を参照して説明する。この図6においても、現像モジュール2と同様に構成された箇所には、現像モジュール2の説明で用いた符号と同じ符号を付して示している。レジスト膜形成モジュール17のアーム46には、現像液ノズル43の代わりに、鉛直下方にレジストを吐出するレジストノズル61が設けられている。図中62はレジストの供給源であり、既述の金属を含有するレジストを貯留すると共に、当該レジストをレジストノズル61に供給する。
また、下側保護膜形成用薬液ノズル41の代わりに、レジストの溶剤を吐出する下側レジスト膜除去用溶剤ノズル49が設けられている。当該下側レジスト膜除去用溶剤ノズル49は、下側保護膜形成用薬液ノズル41と同様にウエハWの裏面の周縁部に、内方側から外方側に向かって液を吐出する。さらにアーム55には、上側保護膜形成用薬液ノズル51の代わりに、レジストの溶剤を吐出する上側レジスト膜除去用溶剤ノズル59が設けられている。当該上側レジスト膜除去用溶剤ノズル59は、上側保護膜形成用薬液ノズル51と同様にウエハWの表面の周縁部に、内方側から外方側に向かって液を吐出する。図中48はレジストの溶剤の供給源であり、貯留された溶剤を下側レジスト膜除去用溶剤ノズル49、上側レジスト膜除去用溶剤ノズル59に各々供給する。このような差異点を除き、レジスト膜形成モジュール17は、現像モジュール2と同様に構成されている。
図1に戻って、制御部100について説明する。この制御部100はコンピュータにより構成されており、不図示のプログラム格納部を有している。このプログラム格納部には、各モジュールでのウエハWの処理と、搬送機構11によるモジュール間におけるウエハWの搬送と、が行えるように、命令(ステップ群)が組まれたプログラムが格納されている。そして、当該プログラムによって制御部100から塗布、現像装置1の各部に制御信号が出力されることで、当該塗布、現像装置1の各部の動作が制御される。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスクまたはメモリーカードなどの記憶媒体に収納された状態でプログラム格納部に格納される。
ところで、図7のウエハWの周縁部の縦断側面図を用いて、上記の保護膜にて被覆される金属付着防止領域の一例を説明しておく。図中、金属付着防止領域を70として示している。また、図中71はレジスト膜であり、溶剤によりウエハWの周縁部を被覆する不要な部位が除去された状態を示している。図中72は現像モジュール2及び保護膜形成モジュール13において形成される保護膜である。ウエハWの表面において、ウエハWの側周面と金属付着防止領域70のウエハWの中心部側の端との距離L1は、例えば0.2mm〜0.8mmである。ウエハWの裏面において、ウエハWの側周面と金属付着防止領域70のウエハWの中心部側の端との距離L2は、例えば2.0mmである。また、レジスト膜71の周端とウエハWの側周面との距離L3は、例えば1.35mm〜1.65mmである。図中L4は、ウエハWの側周面と、ウエハWの表面における保護膜除去用の溶剤が供給される領域のウエハWの中心部側の端との距離であり、例えば0.85mm〜1.15mmである。
レジスト膜71に保護膜除去用の溶剤が供給されて変質しないように、上記のように距離L3>距離L4として設定されている。また、上記のように搬送機構11はウエハWの周端面と裏面周縁部とに接触してウエハWを搬送するため、距離L1については比較的小さく設定することができるので、距離L1<距離L2としている。このように距離L1を設定することで距離L4が大きくなることを抑え、より確実にレジスト膜71に保護膜形成用の溶剤が供給されることが抑制されるようにしている。
次に、図8〜図16のウエハWの斜視図と、図17〜図25のウエハWの縦断側面図とを参照して、上記の塗布、現像装置1にて行われるウエハWの処理について説明する。キャリア18から搬送されたウエハWは、保護膜形成モジュール13のスピンチャック21に載置される(図8、図17)。ウエハWが回転し、上側保護膜形成用薬液ノズル51からウエハWの表面の周縁部に、下側保護膜形成用薬液ノズル41からウエハWの裏面の周縁部に各々薬液73が供給される。各ノズル51、41からウエハWの外側へ向けて吐出されていること及びウエハWの回転の遠心力により、ウエハWの表面、裏面に各々供給された薬液73はウエハWの側周面へと流れ、当該側周面にて互いに合流し、金属付着防止領域70が薬液73により被覆される(図9、図18)。続いて上側保護膜形成用薬液ノズル51及び下側保護膜形成用薬液ノズル41からの薬液73の吐出が停止し、ウエハWに供給された薬液73は、ウエハWの回転及びカップ24の排気によって生じる気流に曝される。それによって、当該薬液73に含まれる有機溶媒が揮発して乾燥が進行し、当該薬液73から第2の保護膜である保護膜72が形成される。
然る後、ウエハWの回転が停止し、ウエハWは加熱モジュール14に搬送されて加熱され、保護膜72に残留する有機溶媒が蒸発する。その後、ウエハWはレジスト膜形成モジュール17に搬送され、スピンチャック21に載置されて回転する。当該ウエハWの中心部にレジストノズル61からレジスト74が吐出され(図10)、ウエハWの回転の遠心力によって当該ウエハWの周縁部へと展伸されて、ウエハWの表面全体がレジスト74により被覆される(図19)。そして、レジストノズル61からのレジスト74の吐出が停止し、ウエハWの表面のレジスト74が乾燥して、レジスト膜71が形成される。
然る後、上側レジスト膜除去用溶剤ノズル59からウエハWの表面の周縁部に、下側レジスト膜除去用溶剤ノズル49からウエハWの裏面の周縁部に、各々溶剤75が吐出される。各ノズル59、49からウエハWの外側へ向けて吐出されていること及びウエハWの回転の遠心力により、ウエハWの表面、裏面に各々供給された溶剤75はウエハWの側周面へと流れ、当該側周面から振り切られる。この溶剤75により、レジスト膜71において保護膜72上に形成された部位と、図6で説明したようにウエハWの表面において保護膜72の端部から若干ウエハWの中心部寄りに至る部位とが除去される(図11、図20)。
その後、上側レジスト膜除去用溶剤ノズル59及び下側レジスト膜除去用溶剤ノズル49からの溶剤75の吐出が停止し、上側保護膜除去用溶剤ノズル52からウエハWの表面の周縁部に、下側保護膜除去用溶剤ノズル42からウエハWの裏面の周縁部に、各々保護膜除去用の溶剤76が供給される。この溶剤76についても、溶剤75と同様にウエハWの表面、裏面からウエハWの側周面へと流れ、当該側周面から振り切られる。なお、ウエハWの表面側においては、図6で説明した領域に溶剤76が供給される。この溶剤76によって、保護膜72が溶解されて除去される(図12、図21)。
然る後、上側保護膜除去用溶剤ノズル52及び下側保護膜除去用溶剤ノズル42からの溶剤76の吐出が停止すると共にウエハWの回転が停止し、ウエハWは加熱モジュール15に搬送されて加熱され、レジスト膜71に含まれる有機溶媒が蒸発する。続いて、ウエハWは露光装置12に搬送されて、レジスト膜71が所定のパターンに沿って露光される。
露光後のウエハWは、加熱モジュール16に搬送されてPEBが行われた後、現像モジュール2に搬送されて、スピンチャック21に載置されて回転する。そして、保護膜形成モジュール13における処理と同様に、上側保護膜形成用薬液ノズル51及び下側保護膜形成用薬液ノズル41から保護膜形成用の薬液73が吐出される(図13、図22)。各ノズル51、41からの薬液73の吐出が停止すると、ウエハWに供給された薬液73が乾燥し、金属付着防止領域70を被覆する第1の保護膜である保護膜72が形成される。つまり、保護膜72はレジスト膜71が形成されていないウエハWの周縁部に形成される。
カップ24内の気流に曝されて保護膜72に含まれる有機溶媒が十分に揮発した後、ウエハWの周縁部上に位置する現像液ノズル43から当該ウエハWの周縁部に現像液77が吐出される。そして、現像液77が吐出される位置が現像液ノズル43の中心部へと移動するように現像液ノズル43が水平に移動し、ウエハWの中心部上で停止すると共にウエハWの表面全体が現像液に被覆される。この現像液により、レジスト膜71の現像が進行し、露光された領域に沿ってレジスト膜71の一部が溶解して、レジストパターンが形成される(図14、図23)。
その後、現像液ノズル43からの現像液77の吐出が停止し、ウエハWの回転により現像液77が振り切られてウエハWから除去されると、レジスト膜形成モジュール17で行われる処理と同様に、上側保護膜除去用溶剤ノズル52及び下側保護膜除去用溶剤ノズル42からウエハWに溶剤76が供給されて、保護膜72が除去される(図15、図24)。然る後、上側保護膜除去用溶剤ノズル52及び下側保護膜除去用溶剤ノズル42からの溶剤76の供給が停止し、ウエハWの回転が停止して(図16、図25)、ウエハWはキャリア18に戻される。
この塗布、現像装置1によれば、ウエハWの周端面と裏面側周縁部とを含む金属付着防止領域70が保護膜72に被覆された状態で、当該ウエハWの表面に形成されたレジスト膜71に現像液77が供給されて現像が行われる。従って、現像液77に溶解したレジストに含まれる金属が、金属付着防止領域70に付着することを防ぐことができる。さらに、金属付着防止領域70が保護膜72に被覆された状態で、当該ウエハWの表面に金属を含むレジスト74が供給されてレジスト膜71が形成されるので、より確実に金属付着防止領域70への金属の付着を防止することができる。
また、この塗布、現像装置1では、現像モジュール2においてウエハWがスピンチャック21に載置された状態のまま、保護膜72の形成、現像処理、保護膜72の除去が行われる。つまりスピンチャック21は、これらの処理に共通して用いられる載置部であり、これらの各処理を行うためにウエハWの搬送を行う手間を省くことができる。従って、スループットの向上を図ることができる。このように現像モジュール2は、保護膜形成モジュールとして兼用されるため、塗布、現像装置1における保護膜形成モジュールの設置数を抑えて、現像モジュール2の設置数を多くすることができる。そのように現像モジュール2の設置数を多くすることによって、スループットの向上を図ることができる。
この現像モジュール2において、例えばカップ24内に発光ダイオードなどの加熱部を設け、保護膜72を加熱することで当該保護膜72中の有機溶媒が速やかに除去されるようにしてもよい。また、保護膜形成モジュール13にて形成された保護膜72は、ウエハWが露光装置12へ搬入されるまでに除去すればよいので、例えば加熱モジュール15における加熱後に除去してもよい。
説明の便宜上、図1では塗布、現像装置1の概略構成を示したが、以下に塗布、現像装置1のより詳細な構成例について、平面図、斜視図、縦断側面図である図26、図27、図28を夫々参照して説明する。塗布、現像装置1は、キャリアブロックD1と、処理ブロックD2と、インターフェイスブロックD3と、を横方向に直線状に接続して構成されており、インターフェイスブロックD3が露光装置12に接続されている。以降の説明ではブロックD1〜D3の配列方向を前後方向とする。キャリアブロックD1は、キャリア18の載置台81と、開閉部82と、開閉部82を介してキャリア18からウエハWを搬送する受け渡しアーム83とを備えている。
処理ブロックD2は、ウエハWに液処理及び加熱処理を行う第1〜第6の単位ブロックE1〜E6が下から順に積層されて構成されている。各単位ブロックでは並行してウエハWの搬送及び処理が行われる。また、単位ブロックE1、E2が同じ単位ブロックであり、単位ブロックE3、E4が同じ単位ブロックであり、単位ブロックE5、E6が同じ単位ブロックである。ウエハWは同じ単位ブロックのうち、いずれか一方に選択されて搬送される。
単位ブロックのうち代表してCOT層E3を、図26を参照しながら説明する。キャリアブロックD1からインターフェイスブロックD3へ向かう搬送領域84の左右の一方側には棚ユニットUが配置され、他方側には保護膜形成モジュール13、レジスト膜形成モジュール17が前後に並べて設けられている。棚ユニットUは、加熱モジュール14、15を備えている。上記の搬送領域84には、このCOT層E3に設けられる各モジュールと、後述のタワーT1、T2においてCOT層E3と同じ高さに設けられる各モジュールと、にアクセスしてウエハWを受け渡す搬送アームF3が設けられている。
単位ブロックE1、E2は、レジスト膜形成モジュール17及び保護膜形成モジュール13の代わりに、反射防止膜を形成するための薬液をウエハWに塗布する反射防止膜形成モジュールが設けられること、及び棚ユニットUには反射防止膜形成後のウエハWを加熱する加熱モジュールが設けられることを除いて、単位ブロックE3と同様の構成である。単位ブロックE5、E6は、レジスト膜形成モジュール17及び保護膜形成モジュール13の代わりに、2つの現像モジュール2が設けられること、及び棚ユニットUには加熱モジュール16が設けられることを除いて、単位ブロックE3と同様の構成である。また、図27では各単位ブロックE1〜E6の搬送アームをF1〜F6として示している。
処理ブロックD2におけるキャリアブロックD1側には、各単位ブロックE1〜E6に跨って上下に伸びるタワーT1と、タワーT1に対してウエハWの受け渡しを行うための昇降自在な受け渡しアーム85とが設けられている。タワーT1は互いに積層された複数の受け渡しモジュールTRSを備えている。受け渡しモジュールTRSは、各ブロックに対してウエハWを受け渡すためにウエハWを一旦載置する。
インターフェイスブロックD3は、単位ブロックE1〜E6に跨って上下に伸びるタワーT2、T3、T4を備えており、タワーT2とタワーT3に対してウエハWの受け渡しを行うための昇降自在なインターフェイスアーム86と、タワーT2とタワーT4に対してウエハWの受け渡しを行うための昇降自在な受け渡し機構であるインターフェイスアーム87と、タワーT2と露光装置12の間でウエハWの受け渡しを行うためのインターフェイスアーム88が設けられている。なお、既述の搬送機構11は、インターフェイスアーム86〜88、搬送アームF1〜F6及び受け渡しアーム83、85により構成される。
タワーT2は、受け渡しモジュールTRS、露光処理前の複数枚のウエハWを格納して滞留させるバッファモジュール、露光処理後の複数枚のウエハWを格納するバッファモジュール、及びウエハWの温度調整を行う温度調整モジュールなどが互いに積層されて構成されているが、ここでは、受け渡しモジュールTRS以外のモジュールの図示は省略する。なお、タワーT3、T4にも夫々モジュールが設けられているが、ここでは説明を省略する。
この塗布、現像装置1におけるウエハWの搬送経路について説明する。ウエハWはキャリア18から受け渡しアーム83によって、タワーT1の受け渡しモジュールTRS0に搬送され、TRS0からウエハWは、単位ブロックE1、E2に振り分けられて搬送される。ウエハWを単位ブロックE1に受け渡す場合には、タワーT1の受け渡しモジュールTRSのうち、単位ブロックE1に対応する受け渡しモジュールTRS1(搬送アームF1によりウエハWの受け渡しが可能な受け渡しモジュール)に対して、TRS0からウエハWが受け渡される。またウエハWを単位ブロックE2に受け渡す場合には、タワーT1の受け渡しモジュールTRSのうち、単位ブロックE2に対応する受け渡しモジュールTRS2に対して、TRS0からウエハWが受け渡される。これらのウエハWの受け渡しは、受け渡しアーム85により行われる。
このように振り分けられたウエハWは、TRS1(TRS2)→反射防止膜形成モジュール→加熱モジュール→TRS1(TRS2)の順に搬送され、続いて受け渡しアーム85により単位ブロックE3に対応する受け渡しモジュールTRS3と、単位ブロックE4に対応する受け渡しモジュールTRS4とに振り分けられる。このようにTRS3、TRS4に振り分けられたウエハWは、図1で説明したように保護膜形成モジュール13→加熱モジュール14→レジスト膜形成モジュール17→加熱モジュール15の順で搬送され、タワーT2の受け渡しモジュールTRS31(TRS41)へ搬送される。
然る後、ウエハWは、インターフェイスアーム86、88により、露光装置12に搬送される。露光後のウエハWは、インターフェイスアーム87、88により単位ブロックE5、E6に対応するタワーT2の受け渡しモジュールTRS51、TRS61に夫々搬送される。然る後、ウエハWは図1で説明したように、加熱モジュール16→現像モジュール2の順で搬送され、レジストパターンが形成された後、タワーT1の受け渡しモジュールTRS5(TRS6)に搬送され、受け渡しアーム83を介してキャリア18に戻される。
(第2の実施形態)
以下、他の実施形態について、第1の実施形態との差異点を中心に説明する。図29は、第2の実施形態に係る塗布、現像装置91の概略構成を示しており、図29中の実線の矢印は、図1と同様にウエハWの搬送経路を示している。この塗布、現像装置91においては、露光装置12による露光後、加熱モジュール16によるPEBを行う前に保護膜72の形成を行う保護膜形成モジュール92が設けられている。この保護膜形成モジュール92は、既述の保護膜形成モジュール13と同様に構成されている。この保護膜形成モジュール92で保護膜72を形成するため、現像モジュール2においては保護膜72の形成は行われず、図14、図15で説明した現像及び保護膜72の除去のみが行われる。
この保護膜形成モジュール92は、図26〜図28で説明した塗布、現像装置1の単位ブロックE5、E6において、例えば前後に2つ設けられた現像モジュール2のうちの1つの代わりに設けられる。つまり、この塗布、現像装置91の各単位ブロックE5、E6には、現像モジュール2、保護膜形成モジュール92が前後に設けられる。そして、ウエハWは単位ブロックE5、E6内を保護膜形成モジュール92→加熱モジュール16→現像モジュール2の順で搬送される。
この第2の実施形態の塗布、現像装置91では、保護膜形成モジュール92で保護膜72を形成した後に加熱モジュール16でPEBを行うので、このPEBの際に保護膜72に含まれる有機溶媒を蒸発させることができる。従って、保護膜形成モジュール92において保護膜72を形成した後、保護膜72中に含まれる有機溶媒が揮発するようにウエハWを当該保護膜形成モジュール92のカップ24内に留めておく時間が長くなることを抑えることができる。その結果、スループットの向上を図ることができる。
(第3の実施形態)
第3の実施形態の塗布、現像装置におけるレジスト膜形成モジュール17においては、図6に示した上側保護膜除去用溶剤ノズル52が設けられておらず、下側保護膜除去用溶剤ノズル42から吐出される溶剤により、保護膜72のうちウエハWの裏面側に形成された部位のみが除去される。そして、現像モジュール2では保護膜72の形成が行われないため、図30に示すように上側保護膜形成用薬液ノズル51及び下側保護膜形成用薬液ノズル41が設けられていない。その代りに下側保護膜形成用薬液ノズル41と同様にウエハWの内方側から外方側へ、斜め上方に薬液を吐出する液膜形成用処理液ノズル93が設けられている。図中94は、この処理液を貯留すると共に、当該処理液を液膜形成用処理液ノズル93に供給する薬液供給源である。
以下、第3の実施形態の塗布、現像装置における処理について説明する。既述のように保護膜形成モジュール13にて保護膜72が形成され、さらにレジスト膜形成モジュール17においてレジスト膜71の形成及び周縁部における不要なレジスト膜71の除去が行われた後で、回転するウエハWの裏面に下側保護膜除去用溶剤ノズル42から、溶剤76が吐出される。ウエハWの裏面側のベベル及び側周面への溶剤76の回り込みが抑制されるようにウエハWの回転数が制御され、ウエハWの裏面における保護膜72が除去されて当該裏面が平坦になると(図31)、溶剤76の吐出とウエハWの回転とが停止する。上記のように溶剤76の回り込みが抑制されたことで、ウエハWの表面、表面側のベベル、側周面及び裏面側のベベルにおいて、保護膜72が残留した状態となっている。
このウエハWは、露光装置12における露光、PEBが順次行われた後で、現像モジュール2のスピンチャック21に搬送されて回転する。液膜形成用処理液ノズル93から当該ウエハWの裏面に処理液78が吐出され、吐出された処理液78は、ウエハWの裏面を周端へ向けて流れた後、ウエハWから振り切られる。ウエハWが回転していることで、ウエハWの裏面の全周において処理液78による液膜が形成される。それによって、金属付着防止領域70は、処理液78の液膜及び保護膜72により被覆された状態となる(図32)。
続いて、現像液ノズル43から現像液77がウエハWに供給される(図33)。処理液78及び保護膜72により、現像液77の金属付着防止領域70への接触が抑制された状態で現像が進行し、現像液ノズル43からの現像液77の供給が停止し、現像液77がウエハWから振り切られると、液膜形成用処理液ノズル93からの処理液78の吐出が停止し、液膜の形成が停止する。然る後、上側保護膜除去用溶剤ノズル52、下側保護膜除去用溶剤ノズル42から溶剤76が吐出されて、保護膜72が除去される(図34)。
この第3の実施形態の塗布、現像装置においては、露光装置12への搬送時には保護膜72のうちウエハWの裏面側に形成された部位を限定的に除去しているので、ウエハWが露光装置12のステージに載置されたときに、当該ウエハWの高さが保護膜72によって正常な高さからずれることを防ぐことができる。従って、ウエハWにおいて露光される位置が正常な位置からずれることを防ぐことができる。そして、この塗布、現像装置では、保護膜72が1回だけ形成されるため、塗布、現像装置において、保護膜72を形成することによるスループットの低下を抑制することができる。上記の処理液78としては保護膜72を溶解しない液であればよく、例えば有機溶媒が用いられる。
(第4の実施形態)
第4の実施形態の塗布、現像装置について説明する。この第4の実施形態においては、第3の実施形態と同様に露光装置12へウエハWを搬入する前に、ウエハWの裏面側の保護膜が限定的に除去される。この限定的な保護膜の除去が、より確実に行われるようにするために、金属付着防止領域70を被覆する保護膜の上側と下側とを互いに異なる材質により構成し、下側の保護膜を除去する際には、当該下側の保護膜を選択的に除去することができる溶剤をウエハWに供給する。なお、このように保護膜を異なる材質により構成するために、図5で説明した保護膜形成モジュール13における上側保護膜形成用薬液ノズル51、下側保護膜形成用薬液ノズル41は、互いに成分が異なる薬液が貯留された薬液の供給源に接続される。
この第4の実施形態の塗布、現像装置の処理について説明すると、先ず、保護膜形成モジュール13において、上側保護膜形成用薬液ノズル51から薬液73が、回転するウエハWの表面の周縁部に吐出され、当該ウエハWの裏面側のベベルに至るように回り込む(図35)。その後、下側保護膜形成用薬液ノズル41から薬液73とは成分が異なる薬液97がウエハWの裏面の周縁部に吐出され、ウエハWの裏面のベベルに向かう(図36)。上側保護膜形成用薬液ノズル51、下側保護膜形成用薬液ノズル41から夫々薬液73、薬液97の吐出が停止し、金属付着防止領域70を被覆する保護膜が形成される。薬液73、97から形成された保護膜を夫々、上側保護膜98、下側保護膜99とする
これら上側保護膜98及び下側保護膜99の形成後、ウエハWは加熱モジュール14にて加熱され、上側保護膜98及び下側保護膜99に残留する有機溶媒の除去が行われた後、レジスト膜形成モジュール17に搬送される。既述のようにウエハWが回転すると共にレジストノズル61からレジスト74が吐出され(図37)、レジスト膜71が形成される。そして、溶剤の供給により不要なレジスト膜71が除去された後、下側保護膜除去用溶剤ノズル42から下側保護膜99の溶剤101が吐出される(図38)。この溶剤101は、上側保護膜98及び下側保護膜99のうち、下側保護膜99を選択的に溶解して除去できるものが用いられる。
溶剤101により下側保護膜99が除去されて、溶剤101の吐出が停止した後は(図39)、第3の実施形態と同様に処理が行われる。従って、現像時において、下側保護膜99が除去されたウエハWの裏面には処理液78による液膜が形成される。この第4の実施形態においても、第3の実施形態と同様の効果が得られる。上記の下側保護膜99を形成する薬液97は、例えばネガ型のレジストやポジ型のレジストにより構成され、上記の下側保護膜99の溶剤101は、レジストのシンナーである。
(第5の実施形態)
第5の実施形態では、図40に示す現像モジュール2において、金属付着防止領域70が保護膜により被覆されていない状態で現像処理が行われ、現像後に金属付着防止領域70に洗浄液として、SC2、SPM、純水が例えばこの順に供給されることによって洗浄される。SC2及びSPMはウエハWに付着した金属を除去する金属除去液であり、純水はこれらSC2及びSPMをウエハWから除去するために用いられる。この第5の実施形態で用いられる現像モジュール2では、ウエハWの下方において、下側保護膜形成用薬液ノズル41及び下側保護膜除去用溶剤ノズル42の代わりに、下側SC2ノズル111、下側SPMノズル112、下側純水ノズル113が設けられており、各ノズル111〜113は、ノズル41、42と同様に、ウエハWの裏面の周縁部に、内方から外方に向かって液を各々吐出することができる。
また、アーム55には上側保護膜形成用薬液ノズル51及び上側保護膜除去用溶剤ノズル52の代わりに、上側SC2ノズル114、上側SPMノズル115、上側純水ノズル116が設けられており、各ノズル114〜116は、ノズル51、52と同様に、ウエハWの表面の周縁部にウエハWの内方から外方に向かって液を各々吐出することができる。図中117はSC2の供給源であり、貯留されたSC2をノズル111、114に供給する。図中118はSPMの供給源であり、貯留されたSPMをノズル112、115に供給する。図中119は純水の供給源であり、貯留された純水をノズル113、116に供給する。
この第5の実施形態における現像モジュール2における処理について説明する。先ず、ウエハWに現像液77が供給されて、現像される(図41)。既述のようにこの現像は、金属付着防止領域70が露出した状態で行われる。現像液77の供給が停止し、ウエハWの回転によって現像液77が振り切られた後、回転するウエハWの裏面、表面に夫々下側SC2ノズル111、上側SC2ノズル114からSC2が吐出される。ウエハWの裏面、表面に各々吐出されたSC2はウエハWの周端へ向けて流れて側周面で合流し、当該側周面から振り切られる。
このように金属付着防止領域70にSC2が供給され、現像によって当該金属付着防止領域70に付着した金属63は、このSC2と共にウエハWから除去される(図42)。下側SC2ノズル111及び上側SC2ノズル114からのSC2の吐出停止後、下側SPMノズル112及び上側SPMノズル115からSPMが吐出され、このSPMは、SC2と同様に金属付着防止領域70に供給されて、当該金属付着防止領域70に付着した金属63を除去する。
下側SPMノズル112及び上側SPMノズル115からのSPMの吐出停止後、下側純水ノズル113及び上側純水ノズル116から純水が吐出される。この純水は、SC2、SPMと同様に金属付着防止領域70に供給されて、金属付着防止領域70に残留しているSC2及びSPMを除去する。然る後、下側純水ノズル113及び上側純水ノズル116から純水の吐出が停止し、ウエハWの回転が停止して、現像モジュール2からウエハWが搬出される。このように第5の実施形態では、金属63が付着したウエハWの金属付着防止領域70に金属除去液であるSC2、SPMが供給されることで金属63が除去されるので、現像モジュール2から搬出されるウエハWの金属付着防止領域70に金属63が付着することを抑制することができる。
ところで、上記した金属付着防止領域70は搬送機構11への金属の付着を、より確実に防ぐために、表面側のベベル及び当該ベベルよりも若干中心側の領域も含むように設定されているが、少なくともウエハWの側周面、ウエハWの裏面のベベル及びウエハWの裏面の周縁部について、金属の付着を防止することができれば、上記の搬送機構11への金属の付着を防ぐことができる。そこで、上記のようにSC2、SPM及び純水を用いてウエハWを洗浄するにあたり、ウエハWの上側に設けられるノズル114〜116からは各液の吐出を行わず、ウエハWの回転数を調整することでウエハWの下側に設けられるノズル111〜113から吐出された各液が、当該ウエハWの側周面を介して表面側のベベルへ乗り上げるように液膜を形成し、当該液膜によって洗浄を行ってもよい。
図43、44はそのようにノズル111、112からSC2、SPMを夫々供給することで形成された液膜121、122を示している。図中、ウエハWの表面側のベベルにおいて液膜121、122が接する領域の上端を位置C1として示している。図45は、ノズル113から純水を供給することで形成された液膜123を示している。図中ウエハWの表面側のベベルにおいて、液膜123が接する領域の上端を位置C2として示している。位置C2は、位置C1よりも高い、即ち、ウエハWの中心部寄りの位置として設定されている。このように位置C1、位置C2が設定されていることで、SC2、SPMがレジスト膜71の端部に接してしまい、レジスト膜71を変質させてしまうことを防ぐことができる。また、ウエハWにおいてSC2及びSPMが供給された領域を含み、且つ当該領域よりも広い範囲に純水が供給されるので、確実にこれらSC2及びSPMをウエハWから除去することができる。なお、金属除去液としては、これらSC2、SPMに限られず、フッ酸などを用いてもよい。
(第6の実施形態)
第6の実施形態は、第5の実施形態と同じく金属付着防止領域70が保護膜により被覆されていない状態で現像処理が行われる。この現像処理には第5の実施形態で説明した現像モジュール2と略同様の構成の現像モジュールが用いられる。ただし、ノズル114、ノズル111は、レジスト膜71を溶解しない有機溶媒の供給源に接続され、当該有機溶媒を吐出する。
この現像モジュール2における処理を説明すると、金属の付着防止液供給部であるノズル111及びノズル114から回転するウエハWに有機溶媒65が吐出され、有機溶媒65がウエハWの周に沿って供給されて、金属付着防止領域70が当該有機溶媒65の液膜により被覆される(図46)。その後、現像液ノズル43からウエハWの表面周縁部に現像液77が吐出され(図47)、現像液ノズル43が移動し、ウエハWの表面において現像液77が供給される位置がウエハWの中心部に向けて移動する(図48)。溶解したレジストを含む現像液77は、ウエハWの周縁部の金属付着防止領域70へ向けて流れるが、当該金属付着防止領域70には現像液77が供給される前に有機溶媒65が供給されているため、当該現像液77はこの有機溶媒65によって希釈され、ウエハWから飛散したりこぼれ落ちたりすることで除去される。このように希釈されることによって、現像液77に含まれる金属が金属付着防止領域70に付着することが抑制される。
現像液77が供給される位置がウエハWの中心部に位置すると、現像液ノズル43の移動が停止する(図49)。然る後、現像液ノズル43からの現像液77の吐出が停止し、ウエハWから現像液77が振り切られて除去される。その後、ノズル111及びノズル114からの有機溶媒65の吐出が停止し、有機溶媒65による液膜の形成が停止する。この有機溶媒65もウエハWから振り切られて除去されると、ウエハWの回転が停止し、現像モジュール2からウエハWが搬出される。
この第6の実施形態によれば、上記のようにウエハWの金属付着防止領域70に現像液の供給が開始されるより前から、ウエハWから現像液が除去されるまで、金属付着防止領域に有機溶媒65が供給される。従って、現像処理中に金属が金属付着防止領域70に付着することが抑制される。なお、現像液77がウエハWに供給されて金属付着防止領域70に至ったときに、当該現像液77が至った部位の金属付着防止領域70に、当該現像液77よりも先に当該金属付着防止領域70に有機溶媒65が供給され、当該現像液77が希釈されればよい。従って、現像液77の供給開始直後、現像液77が金属付着防止領域70に至ったとき、有機溶媒65による液膜はウエハWの全周に亘るようには形成されておらず、ウエハWの周縁部においてこの現像液77が至った部位にのみ形成されていてもよい。
ところで、この第6の実施形態において、ウエハWの周縁部よりも先に中心部に現像液77を供給してもよい。しかし、そのように処理すると、現像液77がレジストを溶解しながらウエハWの周縁部へ向けて広がることで金属付着防止領域70上の現像液77と有機溶媒65との混合液中における金属の濃度が比較的大きくなるため、当該金属付着防止領域70に金属が付着しやすくなってしまう。図46〜図49で説明した処理では現像液77が供給される位置を、ウエハWの周縁部側から中心部側に移動させているので、レジスト膜71は周縁部側から中心部側に向けて次第に溶解し、金属付着防止領域70上の混合液の金属の濃度を低く抑えることができる。従って、より確実に金属付着防止領域70への金属の付着を抑制することができる。なお、金属の付着防止液としては、レジストが溶解した現像液を希釈できるものであればよく、上記の有機溶媒65の他に例えば現像液であってもよい。
(第7の実施形態)
図50は、ガス処理を行うことで保護膜を形成する保護膜形成モジュール131を示している。この保護膜形成モジュール131について、保護膜形成モジュール13との差異点を説明すると、保護膜形成モジュール131は、スピンチャック21に載置されたウエハWの周縁部を囲むように、ウエハWの中心部側に向かって開口した側面視コ字型の処理部132を備えている。図中133、134は、処理部132の上部、下部に、ウエハWの表面、裏面に夫々開口するように設けられたガスの吐出口である。図中135は、処理部132においてウエハWの側周面に対向するように形成された排気口であり、図中136は排気口135に接続される排気機構である。ガスの吐出口133、134には、例えばウエハWの表面を疎水化処理する疎水化ガスを貯留し、これらガス吐出口133、134に供給する疎水化ガス供給源が接続されている。疎水化ガスは、例えばHMDS(ヘキサメチレンジシラン)ガスである。図中138は、ウエハWがスピンチャック21に対して受け渡されることを妨げないように、処理部132をコ字型の開口方向に沿って移動させる駆動機構である。
ウエハWの回転と、ガス吐出口133、134からの疎水化ガスの吐出と、排気口125からの排気とが並行して行われ、金属付着防止領域70がHMDSガスに曝される。図中点線の矢印は、このガスの流れを示している。金属付着防止領域70の表面に存在する水酸基は、このHMDSガスによって−O−Si(CH)3、即ちシリル基となる。水酸基に比べてシリル基は、レジスト中に含まれる金属と結合し難い。つまり、疎水化処理によって、ウエハWの表面にはシリル基からなる保護膜が形成される。
第7の実施形態では、保護膜形成モジュール13による保護膜の形成の代わりに、この保護膜形成モジュール131による保護膜の形成が行われる。この保護膜の形成後は、第1の実施形態で説明したように、ウエハWは各モジュールを搬送されて処理を受ける。ところで、このシリル基からなる保護膜は、既述の各実施形態の保護膜形成モジュール13において薬液73の液膜が乾燥することで形成される保護膜72に比べて極めて薄い。従って、この第7の実施形態では、このシリル基の保護膜は除去されず、ウエハWは保護膜が形成された状態のまま各モジュールを搬送され、キャリア18に戻される。従って、現像モジュール2では保護膜72の形成を行わなくてよい。
疎水化ガスによって保護膜を形成する保護膜形成モジュールとしては、上記の構成例には限られない。例えば処理容器と、当該処理容器の天井に設けられ、ウエハWの表面全体に疎水化ガスを吐出するガスシャワーヘッドと、ウエハWの中央部を支持するステージと、を備える構成とし、ウエハWの裏面周縁部及び側周面については、表面から周り込んだ疎水化ガスにより処理されるようにする。この疎水化ガスによる処理後は、レジスト膜形成モジュール17でレジスト膜の形成と、レジスト膜の不要な部位の除去とを行う。従って、本発明において保護膜は、ウエハWの周縁部に局所的に形成されることには限られない。
ところで、ウエハWの表面には、有機物が付着している場合が有る。この有機物を除去した方が、より確実に疎水化ガスによるウエハWの表面の疎水化を行うことができる。そこで、塗布、現像装置1において、ウエハWの表面にUV(紫外線)を照射するUV照射モジュールを設け、当該UV照射モジュールで処理を行った後で、ウエハWを上記の保護膜形成モジュール131に搬送して処理を行うようにしてもよい。UV照射モジュール及び保護膜形成モジュール131は、例えば図26で説明した塗布、現像装置1におけるタワーT1または棚ユニットUに設けられる。なお、HMDSを液体の状態でウエハWに供給し、乾燥させることで保護膜を形成してもよい。
(レジスト膜形成モジュールの変形例)
図51にはレジスト膜形成モジュール17の変形例を示している。このレジスト膜形成モジュール17は、保護膜除去用の溶剤の供給源54と、上側保護膜除去用溶剤ノズル52及び下側保護膜除去用溶剤ノズル42と、を接続する流路を加熱するヒーター141を備えており、当該流路を流通中に溶剤76が加熱され、上側保護膜除去用溶剤ノズル52及び下側保護膜除去用溶剤ノズル42からカップ24内の雰囲気よりも高い温度の溶剤76が吐出される。このように加熱された溶剤76を供給することで、保護膜72の除去を速やかに行うことができるため、塗布、現像装置1のスループットの向上を図ることができる。なお、流路を流通中の溶剤76を加熱することには限られず、溶剤の供給源54を構成する、溶剤を貯留するタンクにヒーターを設け、溶剤76が供給源54において貯留されている間に加熱されるようにしてもよい。
図52にはレジスト膜形成モジュール17のさらに他の変形例を示している。このレジスト膜形成モジュール17のカップ24内には、保護膜72を除去するためのブラシ142が設けられている。保護膜の除去部であるブラシ142は、例えばカップ24の側壁を貫通する接続部143を介してカップ24の外側に設けられた駆動機構134に接続されている。この駆動機構144によって、ブラシ142は、スピンチャック21に載置されるウエハWの直径の延長線に沿って移動することができる。
この図52のレジスト膜形成モジュール17において、下側保護膜除去用溶剤ノズル42及び上側保護膜除去用溶剤ノズル52から溶剤76が吐出される際には、ブラシ142が回転するウエハWの側周面に押し当てられ、保護膜72を擦り取る(図53)。保護膜72の除去を行わないときには、レジスト膜71の形成やスピンチャック21へのウエハWの受け渡しを妨げないように、ブラシ142はカップ24の側壁の近くに配置される。このようにノズル42、52からの溶剤の供給と、ブラシ142による擦動とが並行して行われることで速やかに保護膜72を除去することができる。
図51、図52に示したブラシ142及びヒーター141は、既述の各実施形態に適用することができる。また、レジスト膜形成モジュール17に設けられることに限られず、現像モジュール2にも設けることができる。
(第1の実施形態の変形例)
次に、第1の実施形態における処理の第1の変形例について説明する。レジスト膜形成モジュール17にて、図18、図19に示したレジスト膜71の形成、不要なレジスト膜71の除去を行った後、下側保護膜除去用溶剤ノズル42及び上側保護膜除去用溶剤ノズル52から保護膜72に溶剤76を吐出する。このとき保護膜72の表面(上層側)のみが除去され、保護膜72の下層側がウエハWに残留した状態で溶剤76の吐出を停止する。つまり、依然として金属付着防止領域70は、薄層化された保護膜72に被覆された状態となっている(図54)。露光装置12への搬入時は保護膜72が薄層化されているので、ウエハWにおいて露光される位置が正常な位置からずれることを抑えることができる。そして、現像モジュール2では新たに保護膜72の形成を行わず、この残留した保護膜72を用いて現像処理が行われ、現像処理後は、第1の実施形態と同様に保護膜72が除去される。
さらに、第1の実施形態における第2の変形例を説明する。保護膜形成モジュール13において、上側保護膜形成用薬液ノズル51及び下側保護膜形成用薬液ノズル41の組を2つ設け、各組は互いに異なる種類の薬液を吐出するように構成する。そして、先ず一方の組からウエハWに薬液を吐出して保護膜72と同様の保護膜(便宜上、下層保護膜145とする)を形成する。その後、他方の組からウエハWに薬液を吐出して下層保護膜145上に積層される保護膜(上層保護膜146とする)を形成する。このように下層保護膜145及び上層保護膜146が形成された状態でレジスト74の塗布を行い(図55)、続いてウエハWの周縁部の不要なレジスト膜71の除去を行う。
その後、下側保護膜除去用溶剤ノズル42及び上側保護膜除去用溶剤ノズル52から上層保護膜146に溶剤76を吐出する(図56)。例えば溶剤76は、上層保護膜146及び下層保護膜145のうち上層保護膜146のみを選択的に溶解させるものが用いられる。以降は、第1の実施形態と同様にウエハWが搬送されて処理が行われる。現像モジュール2においては、保護膜の形成は行われず、下層保護膜145を用いて現像が行われ、現像後に下層保護膜145が除去される。この第2の変形例においても露光装置12への搬入時は保護膜72が薄層化されているので、露光される位置が正常な位置からずれることを抑えることができる。
ところで、上記のように少なくともウエハWの側周面、ウエハWの裏面のベベル及びウエハWの裏面の周縁部について、金属の付着を防止することができればよいので、これらの領域のみを被覆するように保護膜72を形成するようにしてもよい。従って、上側保護膜形成用薬液ノズル51からは薬液73の吐出を行わず、下側保護膜形成用薬液ノズル41のみから薬液73の吐出を行い、当該薬液73が回転するウエハWの裏面周縁部から側周面に至るように液膜を形成し、当該液膜を乾燥させることで保護膜72を形成してもよい。
また、レジスト膜71を形成する前には保護膜72を形成しなくてもよい。例えばウエハWを回転させずにレジストを吐出した状態のレジストノズル61を移動させることでウエハWへのレジストの塗布が行われるようにする。金属付着防止領域70にレジスト74が供給されないようにレジストノズル61を移動させることで、保護膜72の形成が不要となる。さらに、現像処理においては既述のような現像液ノズル43を用いることには限られない。例えば、ウエハWの直径をカバーする細長の吐出口を備えるノズルを、吐出口から現像液の吐出を行いながら、静止したウエハWの表面上を一端から他端へと移動させることで、ウエハWの表面に現像液の液膜を形成するようにしてもよい。なお、既述した各実施形態は互いに組み合わせたり、適宜変更したりすることができる。例えば、ウエハWの周縁部に疎水化処理ガスを供給して保護膜を形成した後、さらに薬液73を供給して保護膜72を形成してもよい。
W ウエハ
1 塗布、現像装置
13 保護膜形成モジュール
17 レジスト膜形成モジュール
100 制御部
2 現像モジュール
41 下側保護膜形成用薬液ノズル
42 下側保護膜除去用溶剤ノズル
43 現像ノズル
51 上側保護膜形成用薬液ノズル
52 上側保護膜除去用溶剤ノズル
71 レジスト膜
72 保護膜

Claims (14)

  1. 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光する工程と、
    前記基板の表面に現像液を供給して前記レジスト膜を現像する現像工程と、
    前記現像工程の前において、前記レジスト膜が形成されていない基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に前記現像液に接することを防ぐ第1の保護膜を形成する工程と、
    前記レジストを前記基板に塗布する前に、当該基板の周端面及び裏面側周縁部にレジストが供給されることを防ぐための第2の保護膜を形成する工程と、
    前記レジスト膜を露光する前に、前記第2の保護膜を除去する工程と、
    を含み、
    前記第2の保護膜を除去する工程は、前記基板の裏面側周縁部に形成された当該第2の保護膜を限定的に除去する工程を含み、
    前記現像液が前記基板の裏面側周縁部に供給される前に、当該裏面側周縁部に第3の保護膜を形成し、
    前記第1の保護膜は、前記基板の周端面に残留した前記第2の保護膜と、前記第3の保護膜と、により構成され、
    前記第3の保護膜は、回転する前記基板の裏面側周縁部に供給される処理液により形成される液膜であることを特徴とする塗布、現像方法。
  2. 前記第1の保護膜を除去する工程を含むことを特徴とする請求項記載の塗布、現像方法。
  3. 前記第1の保護膜または前記第2の保護膜を除去する工程は、
    保護膜の溶剤を加熱する工程と、
    加熱した前記保護膜の溶剤を前記基板に供給する工程と、
    を含むことを特徴とする請求項1または2記載の塗布、現像方法。
  4. 前記第1の保護膜または前記第2の保護膜を除去する工程は、
    保護膜を擦ることにより除去する除去部を、回転する前記基板の第1の保護膜または第2の保護膜に当接させる工程を含むことを特徴とする請求項ないしのいずれか一つに記載の塗布、現像方法。
  5. 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光する工程と、
    前記基板の表面に現像液を供給して前記レジスト膜を現像する現像工程と、
    前記現像工程の前において、前記レジスト膜が形成されていない基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に前記現像液に接することを防ぐ第1の保護膜を形成する工程と、
    を含み、
    前記第1の保護膜は前記レジスト膜の露光後に形成され、
    前記露光後、前記第1の保護膜の形成前に前記基板を加熱する工程を含むことを特徴とする塗布、現像方法。
  6. 前記現像工程及び前記第1の保護膜の形成工程は、これらの工程で共通の載置部に前記基板が載置されて行われることを特徴とする請求項に記載の塗布、現像方法。
  7. 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光する工程と、
    前記基板の表面に現像液を供給して前記レジスト膜を現像する現像工程と、
    前記現像工程の前において、前記レジスト膜が形成されていない基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に前記現像液に接することを防ぐ第1の保護膜を形成する工程と、
    を含み、
    前記第1の保護膜は前記レジスト膜の露光後に形成され、
    当該第1の保護膜の形成後、前記現像工程を行うまでに、前記基板を加熱する工程を含むことを特徴とする塗布、現像方法。
  8. 前記第1の保護膜または前記第2の保護膜を形成する工程は、前記基板を疎水化処理する工程を含むことを特徴とする請求項1ないしのいずれか一つに記載の塗布、現像方法。
  9. 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光する工程と、
    前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像工程と、
    前記現像液が前記基板の周縁部に供給される前から、当該基板の表面から当該現像液が除去されるまでの間、前記レジスト膜が形成されていない基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記金属の付着防止液を当該基板の周に沿って供給する工程と、
    を含むことを特徴とする塗布、現像方法。
  10. 前記現像工程は、
    前記基板を回転させると共に当該基板において前記現像液が供給される位置を当該基板の周縁部から中心部へ向けて移動させることで、前記基板の表面を前記現像液で被覆する工程を含むことを特徴とする請求項に記載の塗布、現像方法。
  11. 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
    露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
    前記レジスト膜が形成されていない前記基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記現像液に接することを防ぐ第1の保護膜を前記現像液が供給される前の基板に形成する保護膜形成モジュールと、
    を備え、
    前記保護膜形成モジュールは、前記レジストを前記基板に塗布する前に、当該基板の周端面及び裏面側周縁部にレジストが供給されることを防ぐための第2の保護膜を形成する第2の保護膜形成用の保護膜形成モジュールを含み、
    前記レジスト膜が形成された基板の裏面側周縁部に形成された前記第2の保護膜を、当該レジスト膜を露光する前に限定的に除去する保護膜除去モジュールが設けられ、
    前記保護膜形成モジュールは、現像液が前記基板の裏面側周縁部に供給される前に、前記第2の保護膜が裏面側周縁部から限定的に除去された基板の当該裏面側周縁部に第3の保護膜を形成する第3の保護膜形成用の保護膜形成モジュールを含み、
    前記第3の保護膜形成用の保護膜形成モジュールは、前記基板を回転させる回転機構と、
    回転する前記基板の裏面側周縁部に処理液を供給する処理液供給部と、
    を備え、
    前記第3の保護膜は前記処理液により前記基板の裏面側周縁部に形成される液膜であり、前記第1の保護膜は、前記基板の周端面に残留した前記第2の保護膜と、前記第3の保護膜と、により構成されることを特徴とする塗布、現像装置。
  12. 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
    露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
    前記レジスト膜が形成されていない前記基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記現像液に接することを防ぐ保護膜を前記現像液が供給される前の基板に形成する保護膜形成モジュールと、
    を備え、
    前記保護膜は前記レジスト膜の露光後に形成され、
    前記露光後、前記保護膜を形成する前の基板を加熱する加熱モジュールを備えることを特徴とする塗布、現像装置。
  13. 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
    露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
    前記レジスト膜が形成されていない前記基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記現像液に接することを防ぐ保護膜を前記現像液が供給される前の基板に形成する保護膜形成モジュールと、
    を備え、
    前記保護膜は前記レジスト膜の露光後に形成され、
    当該保護膜の形成後、前記現像液を供給する前の基板を加熱する加熱モジュールを備えることを特徴とする塗布、現像装置。
  14. 基板の表面に金属を含有するレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成モジュールと、
    露光された後の前記レジスト膜を現像するために前記基板の表面に現像液を供給する現像モジュールと、
    前記現像液が前記基板の周縁部に供給される前から、当該基板の表面から当該現像液が除去されるまでの間、前記レジスト膜が形成されていない前記基板の周縁部であって、少なくとも周端面及び裏面側周縁部に、前記金属の付着防止液を当該基板の周に沿って供給する付着防止液供給部と、
    を備えることを特徴とする塗布、現像装置。
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