TWI806788B - 光罩清潔設備、光罩翻轉機構及光罩清潔方法 - Google Patents
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Abstract
本發明之光罩清潔設備是適用於清潔一光罩,該光罩清潔設備的內部設有一清洗區與一光罩翻轉區,該光罩具有一第一面與一第二面,且於第一面上設有一圖案與一光罩保護膜,光罩保護膜覆蓋該圖案,光罩清潔設備包括一種光罩翻轉機構、一運送機構及至少一清洗機構。其中,光罩翻轉機構是位於光罩翻轉區內,光罩翻轉機構適用於翻轉光罩。此外,運送機構適用於運輸光罩,以使光罩在光罩翻轉區及該清洗區間進行移動。清洗機構是位於清洗區內,且清洗機構用於清洗該光罩。
Description
本發明是關於一種光罩清潔設備、光罩翻轉機構及光罩清潔方法,特別是指一種用來清除光罩保護膜上的污染物之光罩清潔設備、光罩翻轉機構及光罩清潔方法。
在半導體製程中,是包括一曝光製程,其是先將一具有圖案之光罩置於晶圓之上方,再利用一曝光光源將光罩上的圖案照射於一晶圓上。之後,將該晶圓浸入一顯影液中,在晶圓上顯現光罩的圖案。
該光罩上會有一層光罩保護膜,該光罩保護膜位於光罩上具有圖案的一面,以避免光罩上的圖案受到污染物刮傷。此外,由於該光罩保護膜會因靜電而附著污染物,例如:細微的顆粒,所以需要對該光罩保護膜進行清潔,才不會影響到半導體製程的良率。然而,現今的半導體製程越來越精細化,已進入到奈米時代,導致光罩保護膜也需朝向薄型化。因此,倘若只清潔光罩保護膜,而沒有清潔光罩的另外一面,位於該光罩的另外一面的污染物便容易隨著空氣流動而附著於光罩保護膜上,或進入到光罩保護膜與光罩之間。
舉例來說,TWI576657公開了一種光罩清潔設備以及光罩清潔方法,其透過超音波裝置及靜電消除控制器讓光罩上的光罩保護膜與污染物進行分離,再經由噴氣裝置及液體清潔裝置對光罩保護膜進行清洗。然而,若要對沒有光罩保護膜的另外一面進行清洗,則需要將光罩從光罩清潔設備退出,並以手動的方式將光罩翻面後,再將其送入至光罩清潔設備中進行清洗。再舉例來說,TWI760133所揭露的光罩清潔設備,其便包含了一運輸裝置,其可將光罩運送到光罩清潔設備的主殼體外,以供生產者將光罩翻面。然而,手動將光罩翻面除了效率較低外,於光罩清潔設備外進行光罩翻轉也可能帶來新的汙染物。
因此,如何改善上述的問題,便是本領域具有通常知識者值得去思量地。
本發明之目的在於提供一光罩清潔設備,該光罩清潔設備有助於清潔光罩的第一面與第二面。
本發明之光罩清潔設備是適用於清潔一光罩,該光罩清潔設備的內部設有一清洗區與一光罩翻轉區,該光罩具有一第一面與一第二面,且於該第一面上設有一圖案與一光罩保護膜,該光罩保護膜覆蓋該圖案,該光罩清潔設備包括一種光罩翻轉機構、一運送機構及至少一清洗機構。其中,光罩翻轉機構是位於光罩翻轉區內,光罩翻轉機構適用於翻轉該光罩。此外,運送機構適用於運輸該光罩,以使光罩在光罩翻轉區及該清洗區間進行移動。清洗機構是位於該清洗區內,該清洗機構用於清洗該光罩。
在上所述之光罩清潔設備中,光罩翻轉機構包括一第一夾臂、一第二夾臂及一翻轉部。其中,第一夾臂包括一第一夾持部,第二夾臂包括一第二夾持部,且該第一夾臂與該第二夾臂可相對於彼此進行移動。此外,翻轉部是連結第一夾臂及第二夾臂,該翻轉部可將該第一夾臂及該第二夾臂進行翻轉。第二夾臂是可相對於第一夾臂進行水平移動,而翻轉部是連結第一夾臂及第二夾臂。
在上所述之光罩清潔設備,其中該光罩翻轉機構還包括一升降機構,升降機構連結光罩翻轉機構的翻轉部。
在所述之光罩清潔設備中,運送機構包括一滑軌及一光罩乘載台,滑軌是連接光罩翻轉區與清洗區。此外,光罩乘載台是以可移動的方式組裝在該滑軌上,且光罩乘載於光罩乘載台上。
在所述之光罩清潔設備中,清洗機構包括風刀裝置、靜電中和裝置或超音波共振裝置至少之一種。
本發明另一目的在於提供一光罩翻轉機構,該光罩翻轉機構有助於清潔光罩的第一面與第二面。
本發明一種光罩翻轉機構是適用於翻轉一光罩,該光罩具有一第一面與一第二面,且於第一面上設有一圖案與一光罩保護膜,光罩保護膜覆蓋該圖案,該光罩翻轉機構包括一第一夾臂、一第二夾臂及一翻轉部,第一夾臂是包括一第一夾持部,而第二夾臂是包括一第二夾持部。此外,翻轉部是連結第一夾臂及第二夾臂,該翻轉部可將第一夾臂及第二夾臂進行翻轉。其中,第一夾臂與第二夾臂可相對於彼此進行移動,以使該第一夾持部與該第二夾持部夾持該光罩。
在上所述之光罩翻轉機構中,翻轉部包括一旋轉部及一支撐部,支撐部是連結旋轉部,旋轉部是可將該支撐部進行翻轉。
在上所述之光罩翻轉機構中,第一夾臂是位於該支撐部的其中一側,且第二夾臂是位於支撐部的另一側。
在上所述之光罩翻轉機構中,支撐部包括一本體、一第一伸縮件及一第二伸縮件。第一伸縮件的其中一端是連結本體,第一伸縮件的另一端是連結第一夾臂。此外,第二伸縮件的其中一端是連結本體,第二伸縮件的另一端是連結該第二夾臂。
在上所述之光罩翻轉機構還包括一第一無塵軟墊與一第二無塵軟墊,其中第一無塵軟墊與該第二無塵軟墊是分別設置在該第一夾持部與該第二夾持部上,且當該光罩翻轉機構夾持該光罩時,第一無塵軟墊與該第二無塵軟墊是與該光罩相接觸。
在上所述之光罩翻轉機構中,第一夾持部與該第二夾持部之間的距離小於該第一夾臂與該第二夾臂之間的平均距離。
在上所述之光罩翻轉機構中,第一夾持部與該第二夾持部彼此相平行。
在上所述之光罩翻轉機構中,於該第一夾臂或該第二夾臂上設有至少一壓力感測器。
本發明再一目的在於提供一光罩清潔方法,該光罩清潔方法有助於清潔光罩的第一面與第二面。
本發明一種光罩清潔方法是使用如上所述之光罩翻轉機構進行一光罩的清潔,於該光罩的第一面設置有一光罩保護膜,該光罩清潔方法包括下列步驟:首先,將該光罩第二面朝上移入一清洗區。之後,在該清洗區清洗該光罩的第二面。接著,將光罩移出該清洗區。之後,經由該光罩翻轉機構翻轉該光罩,以使該光罩的第一面朝上。再來,將該光罩移入清洗區。之後,清洗位於該光罩的第一面的光罩保護膜。接著,將該光罩移出該清洗區。然後,經由光罩翻轉機構翻轉該光罩,以使光罩的第一面朝下。
在上所述之光罩清潔方法中,光罩透過一運送機構移入及移出該清洗區。
本發明具有下述優點:能徹底清潔光罩的第一面與第二面。
為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下。
請參閱圖1A至圖1D,圖1A所繪示為本實施例之光罩清潔設備1的示意圖。圖1B所繪示為本實施例之光罩翻轉機構10的示意圖,圖1C所繪示為光罩翻轉機構10的立體圖,圖1D所繪示為光罩8的示意圖。
本實施例之光罩清潔設備1是適用於清潔一光罩8,光罩清潔設備1的真空內部是設有一清洗區61與一光罩翻轉區62,光罩8是具有一第一面81與一第二面82,且於第一面81上是設有一圖案與一光罩保護膜8M,光罩保護膜8M是覆蓋該圖案。光罩清潔設備1還包括一種光罩翻轉機構10、一運送機構9及一清洗機構5。在本實施例中,光罩翻轉機構10是位於光罩翻轉區62內,光罩翻轉機構10是適用於翻轉光罩8,更具體來說,光罩翻轉機構10是包括一翻轉部11、一第一夾臂14及一第二夾臂15,翻轉部11是包括一旋轉部12及一支撐部13,而支撐部13是包括一本體130、一第一伸縮件131及一第二伸縮件132。該第一伸縮件131和第二伸縮件132可利用習知技術之汽缸、液壓缸或者馬達控制其伸縮。其中,翻轉部11是用以將第一夾臂14及第二夾臂15進行翻轉。具體來說,支撐部13的本體130是連結旋轉部12,第一夾臂14與第二夾臂15是彼此相對向。此外,翻轉部11的旋轉部12設有推動件可推動將支撐部13舉起或放下以及旋轉,以帶動第一夾臂14及第二夾臂15同時進行舉起或放下以及翻轉。另外一實施例,光罩翻轉機構10還包括一升降機構4,旋轉部12僅具有旋轉功能,升降機構4是連結光罩翻轉機構10的旋轉部12,升降機構4設有推動元件例如馬達等來推動升降,升降機構4係連接光罩旋轉部12用以將光罩翻轉機構10升降到某一高度。這樣一來,上升到一定高度的光罩翻轉機構10便具有足夠的空間進行翻轉,以及可下降高度至可放置光罩8於運送機構9上或者夾取於運送機構9上之光罩8。
請參閱圖2A,圖2A所繪示為第一夾臂14朝著第二夾臂15移動的示意圖。第一夾臂14是連結於支撐部13其中一側,第一夾臂14包括一第一夾持部14C,而第二夾臂15是連結於支撐部13的另一側,第二夾臂15是包括一第二夾持部15C,且第一夾持部14C與第二夾持部15C是彼此相平行。詳細來說,第一伸縮件131的其中一端是連結本體130,而第一伸縮件131的另一端是連結第一夾臂14。因此,第一夾臂14可透過第一伸縮件131相對於第二夾臂15進行移動。
請參閱圖2B,圖2B所繪示為第二夾臂15朝著第一夾臂14移動的示意圖。第二伸縮件132的其中一端也是連結本體130,第二伸縮件132的另一端則是連結第二夾臂15。同理,第二夾臂15也可透過第二伸縮件132相對於第二夾臂15進行移動。換句話說,第一夾臂14與第二夾臂15可相對於彼此進行移動。如此一來,第一夾臂14的第一夾持部14C及第二夾臂15的第二夾持部15C便能穩固夾持著光罩8(請參閱圖3A及圖3B)。
此外,第一夾臂14設第一夾持部14C,第二夾臂15設第二夾持部15C,第一夾持部14C與第二夾持部15C之間的距離是小於第一夾臂14與第二夾臂15之間的平均距離。因此,當第一夾持部14C及第二夾持部15C夾持著光罩8時,第一夾臂14非屬於第一夾持部14C的部分與第二夾臂15非屬於第二夾持部15C的部分是沒有觸碰到光罩8。
請參閱圖4A及圖4B,圖4A所繪示為另一實施例之光罩翻轉機構20的示意圖。光罩翻轉機構20與光罩翻轉機構10的差異在於:光罩翻轉機構20還包括一第一無塵軟墊24P及一第二無塵軟墊25P。其中,第一無塵軟墊24P與第二無塵軟墊25P是分別設置在第一夾持部14C與第二夾持部15C可與光罩8接觸的一側上,第一無塵軟墊24P與第二無塵軟墊25P的材質例如為抗靜電泡棉或無塵室專用泡棉。
在本實施例中,當第一夾持部14C夾持著光罩8時,第一無塵軟墊24P會與光罩8相接觸。同理,當第二夾持部15C持著光罩8時,第二無塵軟墊25P與光罩8相接觸。因此,光罩翻轉機構20夾持光罩8時,便能避免光罩8受到損傷。
圖4C所繪示為再一實施例之光罩翻轉機構30的示意圖。光罩翻轉機構30係於光罩翻轉機構10增加設置壓力感測器31,即光罩翻轉機構30的第一夾臂14的第一夾持部14C上是設有一壓力感測器31。由於當夾持光罩8的力道太緊時,被摩擦或撞擊的光罩8也會產生污染物。因此,透過壓力感測器31偵測並控制第一夾臂14及第二夾臂15夾持光罩8的力道,便能避免夾持光罩8的力道過大,防止產生污染物。在本實施例中,壓力感測器31是位於第一夾臂14上。然而,在其他的實施例中,壓力感測器31也能位於第二夾臂15上,同樣能偵測第一夾臂14及第二夾臂15夾持光罩8的力道。或者,也能在第一夾臂14與第二夾臂15各自設有一個壓力感測器31,更能準確偵測出夾持光罩8的力道。
請參閱圖1A,運送機構9是適用於運輸光罩8,以使光罩8在光罩翻轉區62及清洗區61間進行移動。詳細來說,運送機構9是包括一滑軌91及一光罩乘載台92,滑軌91是連接光罩翻轉區62與清洗區61。此外,光罩乘載台92設於推動元件例如馬達等以可移動的方式連結滑軌91,光罩乘載台92是用以乘載光罩8。這樣一來,運送機構9便能用送光罩8,且光罩翻轉機構10只需在光罩翻轉區62內對光罩8進行翻轉作業即可。
此外,清洗機構5是位於清洗區61內,清洗機構5是用於清洗光罩8,清洗機構5例如為風刀裝置、靜電中和裝置或超音波共振裝置。在本實施例中,清洗機構5是以風刀裝置作為範例。另外,在其他的實施例中,光罩清潔設備1也能同時包括多種不同型態的清洗機構5,例如同時具有風刀裝置、靜電中和裝置及超音波共振裝置。
上述內容中之升降機構4和光罩翻轉機構10、運送機構9、清洗機構5等均連結控制電路,利用控制電路進行自動化操作,使光罩8可以在清洗區61與光罩翻轉區62移動,以及在清洗區61清洗和在光罩翻轉區62翻轉。
上述內容主要是揭露光罩清潔設備1及光罩翻轉機構10的結構為主,下方將配合圖5來說明如何經由光罩清潔設備1的光罩翻轉機構10清潔光罩8。
請參閱圖5,圖5所繪示為本實施例之光罩清潔方法的流程圖。光罩清潔方法是包括下列步驟:
首先,請參閱圖1A、圖6及步驟S1,將光罩8移入清洗區61。具體來說,將光罩8第二面82朝上於清潔設備1從外部透過運送機構9進入真空內部先經光罩翻轉區62再移入到清洗區61內。
之後,請參閱圖7A及步驟S2,在清洗區61清洗光罩8的第二面82。具體來說,在未翻轉光罩8的情況下,光罩8的第一面81是朝下,所以光罩8的第二面82會朝向上方,故清洗機構5 (風刀裝置、靜電中和裝置及超音波共振裝置)能先針對光罩8的第二面82進行清潔。
接著,請參閱步驟S3,將光罩8移出清洗區61。詳細來說,當清潔完光罩8的第二面82後,運送機構9再將光罩8從清洗區61移動到光罩翻轉區62內。
然後,請參閱圖7B及步驟S4,經由光罩翻轉機構10翻轉光罩8,以使光罩8的第一面81朝上。具體來說,在光罩翻轉區62內光罩翻轉機構10的第一夾臂14及第二夾臂15夾持光罩8的兩側,藉由旋轉部12舉起或藉由升降機構4將光罩8從光罩乘載台92移離上升至可翻轉高度,再透過旋轉部12在光罩翻轉區62內翻轉支撐部13,以帶動光罩8同時進行翻轉,隨後旋轉部12或升降機構4將光罩8放置於光罩乘載台92上,以使光罩8的第一面81朝上。
再來,請參閱步驟S5,將光罩8移入清洗區61。詳細來說,第一夾臂14及第二夾臂15會先藉由旋轉部12或升降機構4上升從光罩8上移開。之後,運送機構9將光罩8從光罩翻轉區62移入到清洗區61內。這樣一來,清洗區61內的光罩8的第一面81便是朝上。
之後,請參閱步驟S6,清洗位於光罩8的第一面81的光罩保護膜8M。其中,當光罩8被移入到清洗區61後,清洗機構5(風刀裝置、靜電中和裝置及超音波共振裝置)再針對光罩保護膜8M進行清潔。因此,相較於只清潔一面的作法,本實施例之光罩清潔方法能有效清潔光罩8的第一面81與光罩8的第二面82,亦可避免位於光罩8第二面82的污染物附著於光罩保護膜8M上,也避免污染物進入到光罩保護膜8M與光罩8之間。
接著,請參閱步驟S7,將該光罩8移出清洗區61。詳細來說,當清潔完光罩保護膜8M後,運送機構9再將光罩8從清洗區61移動到光罩翻轉區62內。
然後,請參閱圖7C及步驟S8,經由光罩翻轉機構10翻轉光罩8,以使光罩8的第一面81朝下。具體來說,光罩翻轉機構10的第一夾臂14及第二夾臂15再次夾持光罩8的兩側,藉由旋轉部12舉起或藉由升降機構4將光罩8從光罩乘載台92移離上升至可翻轉高度,再透過旋轉部12翻轉支撐部13帶動光罩8同時進行翻轉,隨後旋轉部12或升降機構4將光罩8放置於光罩乘載台92上,以使光罩8的第一面81朝下。這樣一來,光罩8便恢復到清洗前的狀態。
本案實施例可以依需要增加清洗次數,例如重複S1至S8步驟一次或者多次,以增加清光罩清潔效果。此外,也能只單獨重複步驟S1至S3,亦即依序進行S1-S2-S3-S4-S5-S6-S7-S8-S1-S2-S3步驟,加強清潔光罩8的第二面82清潔效果。
請參閱圖8,光罩翻轉機構10是連結一機械手臂70,光罩翻轉機構10經由第一夾臂14及第二夾臂15夾持光罩8的兩側,而機械手臂70用以帶動光罩翻轉機構10將光罩8夾持移開乘載台92,並翻轉光罩8後再放回乘載台92上。詳細來說,機械手臂70可取代如圖1A中的升降機構4,機械手臂70同樣能上升級下降光罩翻轉機構10的高度,上升到一定高度的光罩翻轉機構10便具有足夠的空間進行翻轉,以及可下降高度來放置光罩8於運送機構9上或者夾取於運送機構9上之光罩8。
另一實施例是機械手臂70可以在清洗區和翻轉區移動,這樣一來,光罩翻轉機構10便能同時帶動光罩8移入到清洗區61內。同理,光罩翻轉機構10透過機械手臂70也能將光罩8從清洗區61移出。
綜上所述,本發明之光罩清潔設備、光罩翻轉機構及光罩清潔方法有助於清潔光罩8的第一面81及光罩8的第二面82。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1:光罩清潔設備
4:升降機構
5:清洗機構
61:清洗區
62:光罩翻轉區
70:機械手臂
8:光罩
8M:光罩保護膜
81:第一面
82:第二面
9:運送機構
91:滑軌
92:光罩乘載台
10、20、30:光罩翻轉機構
11:翻轉部
12:旋轉部
13:支撐部
130:本體
131:第一伸縮件
132:第二伸縮件
14:第一夾臂
14C:第一夾持部
15:第二夾臂
15C:第二夾持部
24P:第一無塵軟墊
25P:第二無塵軟墊
31:壓力感測器
S1~S8:步驟
圖1A所繪示為本實施例之光罩清潔設備1的示意圖。
圖1B所繪示為本實施例之光罩翻轉機構10的示意圖。
圖1C所繪示為光罩翻轉機構10的立體圖。
圖1D所繪示為光罩8的示意圖。
圖2A所繪示為第一夾臂14朝著第二夾臂15移動的示意圖。
圖2B所繪示為第二夾臂15朝著第一夾臂14移動的示意圖。
圖3A所繪示為光罩翻轉機構10夾持光罩8的示意圖。
圖3B所繪示為光罩翻轉機構10夾持光罩8的立體圖。
圖4A所繪示為另一實施例之光罩翻轉機構20的示意圖。
圖4B所繪示為光罩翻轉機構20夾持光罩8的示意圖。
圖4C所繪示為再一實施例之光罩翻轉機構30的示意圖。
圖5所繪示為本實施例之光罩清潔方法的流程圖。
圖6所繪示為運送機構9輸送光罩8的示意圖。
圖7A所繪示為光罩保護膜8M的第一面朝下的示意圖。
圖7B所繪示為第一夾臂14及第二夾臂15使光罩保護膜8M的第一面朝上的示意圖。
圖7C所繪示為第一夾臂14及第二夾臂15使光罩保護膜8M的第一面朝下的示意圖。
圖8所繪示為機械手臂70連結光罩翻轉機構10的示意圖。
1:光罩清潔設備
4:升降機構
5:清洗機構
61:清洗區
62:光罩翻轉區
8:光罩
9:運送機構
91:滑軌
92:光罩乘載台
10:光罩翻轉機構
12:旋轉部
Claims (14)
- 一種光罩清潔設備,適用於清潔一光罩,該光罩清潔設備的內部設有一清洗區與一光罩翻轉區,該光罩具有一第一面與一第二面,且於該第一面上設有一圖案與一光罩保護膜,該光罩保護膜覆蓋該圖案,該光罩清潔設備包括: 一光罩翻轉機構,位於該光罩翻轉區內,該光罩翻轉機構適用於翻轉該光罩; 一運送機構,用於運輸該光罩,以使該光罩在該光罩翻轉區及該清洗區間進行移動;及 至少一清洗機構,位於該清洗區內,該清洗機構用於清洗該光罩。
- 如請求項1所述之光罩清潔設備,其中該光罩翻轉機構包括: 一第一夾臂,包括一第一夾持部; 一第二夾臂,包括一第二夾持部;及 一翻轉部,連結該第一夾臂及該第二夾臂,該翻轉部可將該第一夾臂及該第二夾臂進行翻轉; 其中,該第一夾臂與該第二夾臂可相對於彼此進行移動。
- 如請求項2所述之光罩清潔設備,其中該光罩翻轉機構還包括一升降機構,該升降機構連結該光罩翻轉機構的該翻轉部。
- 如請求項1所述之光罩清潔設備,其中該運送機構包括: 一滑軌,連接該光罩翻轉區與該清洗區;及 一光罩乘載台,以可移動的方式組裝在該滑軌上,且該光罩乘載於該光罩乘載台上。
- 如請求項1所述之光罩清潔設備,其中該清洗機構包括風刀裝置、靜電中和裝置或超音波共振裝置至少之一種。
- 一種光罩翻轉機構,適用於翻轉一光罩,該光罩具有一第一面與一第二面,且於該第一面上設有一圖案與一光罩保護膜,該光罩保護膜覆蓋該圖案,該光罩翻轉機構包括: 一第一夾臂,包括一第一夾持部; 一第二夾臂,包括一第二夾持部;及 一翻轉部,連結該第一夾臂及該第二夾臂,該翻轉部可將該第一夾臂及該第二夾臂進行翻轉; 其中,該第一夾臂與該第二夾臂可相對於彼此進行移動,以使該第一夾持部與該第二夾持部夾持該光罩。
- 如請求項6所述之光罩翻轉機構,其中該翻轉部包括: 一旋轉部;及 一支撐部,連結該旋轉部,其中該旋轉部可將該支撐部進行翻轉。
- 如請求項7所述之光罩翻轉機構,其中該第一夾臂位於該支撐部的其中一側,且該第二夾臂位於該支撐部的另一側。
- 如請求項7所述之光罩翻轉機構,其中該支撐部包括: 一本體; 一第一伸縮件,其中一端連結該本體,該第一伸縮件的另一端連結該第一夾臂;及 一第二伸縮件,其中一端連結該本體,該第二伸縮件的另一端連結該第二夾臂。
- 如請求項6所述之光罩翻轉機構,還包括一第一無塵軟墊與一第二無塵軟墊,其中該第一無塵軟墊與該第二無塵軟墊是分別設置在該第一夾持部與該第二夾持部上,且當該光罩翻轉機構夾持該光罩時,該第一無塵軟墊與該第二無塵軟墊是與該光罩相接觸。
- 如請求項6所述之光罩翻轉機構,其中該第一夾持部與該第二夾持部之間的距離小於該第一夾臂與該第二夾臂之間的平均距離。
- 如請求項6所述之光罩翻轉機構,其中於該第一夾臂或該第二夾臂上設有至少一壓力感測器。
- 一種光罩清潔方法,使用如請求項7項所述之光罩翻轉機構進行一光罩的清潔,該光罩具有一第一面與一第二面,且於該第一面上設有一圖案與一光罩保護膜,該光罩清潔方法包括: 將該光罩第二面朝上移入一清洗區內; 在該清洗區清洗該光罩的第二面; 將該光罩移出該清洗區; 經由該光罩翻轉機構翻轉該光罩,以使該光罩的第一面朝上; 將該光罩移入該清洗區; 清洗位於該光罩的第一面的該光罩保護膜; 將該光罩移出該清洗區;及 經由該光罩翻轉機構翻轉該光罩,以使該光罩的第一面朝下。
- 如請求項13所述之光罩清潔方法,其中該光罩透過一運送機構移入及移出該清洗區。
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