JP3850951B2 - 基板搬送装置及び基板搬送方法 - Google Patents

基板搬送装置及び基板搬送方法 Download PDF

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は,例えば半導体ウェハやLCDガラス基板などといった基板をカセットと処理部との間で搬送する基板搬送装置と方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に,液晶ディスプレイの製造工程においては,ガラス基板の如き基板上に回路や電極パターン等を形成するために,フォトリソグラフィが利用されている。このフォトリソグラフィでは,基板の洗浄,乾燥,基板上へのレジスト膜の形成,レジスト膜の露光,現像などといった一連の処理が行われる。そして,これら各処理を行う処理装置においては,カセットステーションに載置されたカセット内から取り出した基板をアームに載せた状態で処理部に一枚ずつ搬送し,各基板に対して洗浄等の処理を順次行う。また,各処理部における処理を終了した基板を,再びアームに載せた状態で搬送し,カセット内に戻している。
【0003】
このような基板の搬送を行うアームの上面において,例えば洗浄前に基板を支持する部分と洗浄後に基板を支持する部分が同じであると,洗浄前の基板を載せた際に基板裏面に付いていた汚染物質がアーム上面を介して支持部に付着し,洗浄後の基板をアーム上に載せて搬送する際に洗浄済みの基板の裏面に汚染物質を再付着させてしまうという問題がある。そこで,この問題を解決する手段として,例えば,特開平5−152266号の基板搬送装置が開示されている。即ち,この特開平5−152266号の基板搬送装置では,カセット内から洗浄前の基板を取り出して洗浄部まで搬送する基板取出アームと,洗浄部において洗浄済みの基板をカセット内に戻す処理済み基板収納アームを別々の機構に構成し,汚染物質の再付着を防いでいる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところが,この特開平5−152266号の基板搬送装置のように基板取出アームと処理済み基板収納アームを洗浄の前後で切り換えるように構成したものは,アーム全体が切り替え動作に伴って旋回等するため,アームを動かすための相当に広いスペースが必要であり,装置スペースの有効利用が図れないという問題がある。また,この従来の基板搬送装置のように基板取出アームと処理済み基板収納アームを別々の機構に構成したものは,結局は取出用と収納用のアームが別々に必要であり,更に,取出用と収納用のアームを切り替える駆動機構も比較的大型であって,構造が複雑になるといった欠点がある。
【0005】
従って,本発明の目的は,簡単な構造でありながら基板への汚染物質の再付着等を確実に防ぐことができる基板搬送装置と方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために,本発明は,アームを移動させ,該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置において,アームに設けられ基板を吸着するための第一の吸着パッドと,前記アームの前記第一の吸着パッドに並設され,基板を吸着する第二の吸着パッドと,前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間に設けられた突起と,を備え,前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドは,前記第一の吸着パッドのみで基板を吸着する状態と,前記第二の吸着パッドのみで基板を吸着する状態とに切り換え可能であり,前記第一の吸着パッド又は第二の吸着パッドのいずれか一方に基板を吸着した際に,当該基板の吸着した一方の吸着パッドが弾性によって収縮してその吸着パッドの上面の高さが低くなり,前記突起が前記基板の下面を相対的に突き上げて,吸着してない他方の吸着パットの上面が前記基板の下面と離れ非接触になることを特徴とする。
【0007】
本発明によれば,カセット内から処理前の基板を取り出して処理部まで搬送する際には,例えば第一の吸着パッドのみによって基板の下面を吸着した状態にする。また,処理部において処理済みの基板をカセット内に戻す際には,例えば第二の吸着パッドのみによって基板の下面を吸着した状態にする。このように処理前の基板と処理後の基板を同じアームの上面において別々の吸着パッドで吸着して支持することによって,簡単に汚染物質の再付着を防ぐことができるようになる。なお,第一の吸着パッドと第二の吸着パッドは吸着する基板に追従するような柔軟な構成とすることが好ましい。
【0008】
上記基板搬送装置において,前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを一対ずつ複数箇所に配置してもよい。また,突起を,第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの上面と同じ高さに設けてもよい。また,前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドが,アームの中心線に対して対称の位置にそれぞれ一対ずつ配置され,各対をなす第一の吸着パッドと第二の吸着パッドにおいて,アームの中心線に対して第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方が他方の外側に配置されていてもよい。
【0009】
参考例として,アームを移動させ,該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送方法において,アームの上面に基板を吸着するための第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを上面が同じ高さとなるように配置し,処理部に対して基板を搬入させる場合は,第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方のみで基板を吸着し,処理部から基板を搬出する際には,第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの他方のみで基板を吸着するようにしてもよい。
【0010】
また,別の参考例として,アームを移動させ,該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置において,前記アームを回転自在に設けると共に,基板を吸着するための第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方をアームの表面に配置し,他方をアームの裏面に配置するようにしてもよい
【0011】
上記基板搬送装置にあっては,カセット内から処理前の基板を取り出して処理部まで搬送する際には,例えばアームの表面を上に向けて第一の吸着パッドのみによって基板の下面を吸着した状態にする。また,処理部において処理済みの基板をカセット内に戻す際には,例えばアームの裏面を上に向けて第二の吸着パッドのみによって基板の下面を吸着した状態にする。このように処理前の基板と処理後の基板を同じアームの上面において別々の吸着パッドで吸着して支持することによって,簡単に汚染物質の再付着を防ぐことができるようになる。
【0012】
別の参考例として,アームを移動させ,該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送方法において,前記アームを回転自在に設けると共に,基板を吸着するための第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方をアームの表面に配置し,他方をアームの裏面に配置し,処理部に対して基板を搬入させる場合は,アームの表裏面の一方を上にして第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方のみで基板を吸着し,処理部から基板を搬出する際には,アームの表裏面の一方を下にして第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの他方のみで基板を吸着することを特徴とする。
別の参考例によれば,アームを移動させ,該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置において,前記アームには,基板を吸着するための第一の吸着パッドと第二の吸着パッドが設けられ,第一の吸着パッドと第二の吸着パッドは,前記第一の吸着パッドのみで基板を吸着した状態と,前記第二の吸着パッドのみで基板を吸着した状態とに切り換えられる構成となっている基板搬送装置が提供される。
前記第一の吸着パッドと前記第二の吸着パッドは,対をなすように配置され,当該対をなす第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間には,これら第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの上面と略同じ高さの突起を設けてもよい。
前記第一及び第二の吸着パッドのうち,基板を吸着したいずれか一方の吸着パッドは,弾性によって収縮し,他方の吸着パッドよりも高さが低くなるようにしてもよい。
別の観点による発明によれば,基板を保持するアームと,このアームに設けられ基板を吸着するための第一及び第二の吸着パッドと,当該第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間に設けられた突起とを備えた基板処理装置を用いて基板を処理部に対して搬入出する基板搬送方法であって,処理前の基板を第一の吸着パッドに吸着しつつ,当該基板が第二の吸着パッドから離れ非接触になるように前記突起が前記基板を突き上げた状態で,当該基板を前記処理部に搬入する工程と,処理後の基板を前記第二の吸着パッドに吸着しつつ,当該基板が前記第一の吸着パッドから離れ非接触になるように前記突起が前記基板を突き上げた状態で,当該基板を前記処理部から搬出する工程と,を有することを特徴とする基板搬送方法が提供される。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下,本発明の好ましい実施の形態を被処理体としての基板Wを洗浄する洗浄装置1に基いて説明する。図1は,半導体ウェハやLCDガラス基板などといった基板Wを洗浄するための洗浄装置1の平面図である。この洗浄装置1は,本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置2を備えており,基板搬送装置2の両側には,カセットステーション3と洗浄部4が対向して配置されている。
【0014】
カセットステーション3には,図示しない搬送ロボットなどによって搬入されたカセットCが載置されている。このカセットCの内部には,複数枚の基板Wが,水平になった姿勢で所定の間隔を空けて並列に整列された状態で収納されている。基板Wは,例えば円板形状からなる半導体ウェハや矩形状をなすLCDガラス基板などである。
【0015】
洗浄部4の中央には,搬送路10が形成されており,この搬送路10に沿って主搬送アーム11が移動する構成になっている。図示の例では,搬送路10の一方側に純水もしくは,アンモニア水溶液,過酸化水素水溶液,フッ化水素水溶液などの各種薬液を用いて基板Wを洗浄するためのスクラバユニット15,16が配置されている。また,搬送路10の他方側には,基板Wを乾燥処理するための乾燥ユニット12,13,14が配置されている。そして,主搬送アーム11が搬送路10に沿って移動しながら基板Wを各ユニット12〜16に所定の順序で搬送することにより基板Wに対する各洗浄処理が行われるようになっている。
【0016】
基板搬送装置2は,ベース20の前面に取り付けられたアーム21を備えている。次に述べるように,基板搬送装置2において,ベース20は図1に示すXY方向に移動し,かつ,鉛直方向に昇降すると共に,鉛直軸を中心に回転するように構成されている。そして,このベース20の移動に従って,カセットステーション3に載置されたカセットC内から洗浄前の基板Wを取り出し,その基板Wをアーム21上に載せながら搬送して,洗浄部4の主搬送アーム11に受け渡すと共に,洗浄部4において既に洗浄された基板Wを主搬送アーム11から受け取ってアーム21上に載せながら搬送し,カセットステーション3のカセットC内に戻す構成になっている。
【0017】
ベース20は,図2に示す姿勢においてベース20をX軸方向に水平移動させてアーム21をカセットCに対して前進および後退させる進退機構22と,この進退機構22の下面を回転自在かつ昇降自在に支持することによってアーム21を回転および昇降させる回転昇降機構23と,この回転昇降機構23の下方を支持してY軸方向に設けられたレール24に沿って走行することによってアーム21を横方向に移動させる横移動機構25とによって支持されている。そして,これら進退機構22,回転昇降機構23および横移動機構25の協働によって,カセットステーション3に載置されたカセットC内にアーム21を嵌入させた状態でアーム21を上昇させることにより,カセットC内から洗浄前の基板Wを取り出すことができるようになっている。そして,こうして取り出した基板Wをアーム21上に載せながら搬送し,基板搬送装置2の後方において待機している洗浄部4の主搬送アーム11に受け渡すようになっている。また,洗浄部4において既に洗浄された基板WをカセットC内に戻す場合には,主搬送アーム11がアーム21上に基板Wを載せた後,基板Wをアーム21上に載せながら搬送し,カセットステーション3のカセットC内に戻すようになっている。
【0018】
アーム21の上面には,例えば三箇所に配置された第一の吸着パッド31と第二の吸着パッド32がそれぞれ設けられている。具体的な構成は後述するが,これら第一の吸着パッド31と第二の吸着パッド32は,アーム21の上面において第一の吸着パッド31だけによって基板Wの下面を吸着した状態と,アーム21の上面において第二の吸着パッド32だけによって基板Wの下面を吸着した状態とに切り替えられる構成になっている。
【0019】
ここで図3は,特に円板形状をなす半導体ウェハの如き基板Wの搬送に適したアーム21の斜視図である。図示のように,このアーム21は,ベース20の前面に取り付けられた一枚の板部材35によって構成されており,その上面には,三箇所ずつに配置された第一の吸着パッド31と第二の吸着パッド32がそれぞれ設けられている。また,板部材35の先端部と基端部には半導体ウェハの如き基板Wの周縁を位置決めするためのガイド36,37が設けられている。そして,このガイド36,37の間で位置決めした基板Wの下面を,板部材35の上面において第一の吸着パッド31のみで吸着した状態と,第二の吸着パッド32のみで吸着支持する状態とに切り替えられる構成になっている。
【0020】
また,図4は,特に矩形状をなすLCDガラス基板の如き基板Wの搬送に適したアーム21の斜視図である。図示のように,このアーム21は,ベース20の前面に取り付けられた二本のアーム部材38によって構成されており,その上面には,それぞれ三箇所ずつに配置された第一の吸着パッド31と第二の吸着パッド32が,合計で六箇所ずつに設けられている。そして,これら二本のアーム部材38の上面において,基板Wの下面を第一の吸着パッド31のみで吸着した状態と,第二の吸着パッド32のみで吸着した状態とに切り替えられる構成になっている。
【0021】
このように,アーム21の形状は,例えば一枚の板部材35や二本のアーム部材38などといったように,自由に構成することが可能である。また,第一の吸着パッド31と第二の吸着パッド32は,基板Wの下面を安定して支持できるように,何れもアーム21上面の少なくとも三箇所以上に配置されていれば良い。
【0022】
さて,図1に示した洗浄装置1においては,先ず,搬送ロボットなどによって搬入されたカセットCがカセットステーション3に載置される。このカセットCの内部には,まだ洗浄されていない基板Wが,複数段に並列に整列された姿勢で収納されている。
【0023】
次に,基板搬送装置2のアーム21によって,このカセットCの内部から基板Wを取り出す作業が開始する。先ず,図2で説明した進退機構22,回転昇降機構23および横移動機構25の協働によってアーム21を移動させ,カセットステーション3に載置されたカセットC内にアーム21を嵌入させた後,アーム21を上昇させる。こうして,カセットC内に収納されていた基板Wを下からすくい上げ,基板Wの下面を第一の吸着パッド31のみによって吸着して支持する。そして,こうしてアーム21上に受け取った基板WをカセットC内から取り出す。
【0024】
次に,こうして取り出した基板Wの下面をアーム21上において第一の吸着パッド31のみによって吸着した状態を維持しながら,進退機構22,回転昇降機構23および横移動機構25の協働によって搬送し,基板Wを基板搬送装置2の後方において待機している洗浄部4の主搬送アーム11に受け渡す。こうして受け渡された基板Wは,主搬送アーム11の移動によって洗浄部4の各ユニット12〜16に所定の順序で搬送され,基板Wに対する各洗浄処理が行われる。そして,洗浄部4における洗浄処理の終了した基板Wは,洗浄部4の主搬送アーム11に載せられた姿勢で,基板搬送装置2の後方において待機した状態となる。
【0025】
次に,こうして洗浄部4における洗浄処理を終了した基板WをカセットC内に戻す際には,先ず,図2で説明した進退機構22,回転昇降機構23および横移動機構25の協働によって移動させられたアーム21上に主搬送アーム11が基板Wを載せた後,基板Wをアーム21上に載せながら搬送し,カセットステーション3のカセットC内に戻す。そして,以上の工程を繰り返すことによって,カセットC内に収納された基板Wに対する洗浄処理をすべて終了すると,搬送ロボットなどによってカセットCはカセットステーション3から搬出される。
【0026】
かくして,この実施の形態の基板搬送装置2によれば,カセットステーション3に載置されたカセットCと洗浄部4の主搬送アーム11との間で基板Wを搬送するに際し,洗浄前の基板Wは第一の吸着パッド31のみによって吸着し,洗浄後の基板Wは第二の吸着パッド32のみによって吸着しているので,例え洗浄前の基板W下面から汚染物質が第一の吸着パッド31に付着したとしても,それが洗浄後の基板Wに再付着する心配がない。なお,この実施の形態の基板搬送装置2において,洗浄前の基板Wを第二の吸着パッド32のみによって吸着してカセットCから主搬送アーム11に搬送し,洗浄後の基板Wを第一の吸着パッド31のみによって吸着して主搬送アーム11からカセットCに搬送するように構成しても,同様に汚染物質の再付着を防止できるようになる。
【0027】
以下に,本発明の基板搬送装置2において好適に採用される第一の吸着パッド31と第二の吸着パッド32の具体的な構成について説明する。
【0028】
図5は,先に図4で説明した如き二本のアーム部材38からなるアーム21の上面の六箇所に第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52をアーム21の中心線21’に対して左右対称の位置にそれぞれ一対ずつ配置した実施の形態の平面図を示している。各対をなす第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52は,いずれもアーム21の中心線21’に対して,図示の例では第一の吸着パッド51の外側に第二の吸着パッド52が配置されている。なお,図示の形態ではアーム21の上面の六箇所に第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52をそれぞれ配置しているが,これら第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52の配置個数は任意に変更できる。また,アーム21の中心線21’に対して,第一の吸着パッド51の内側に第二の吸着パッド52を配置しても良い。この実施の形態では,図6に示されるように,それぞれ対をなしている第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52の上面が何れも同じ高さとなるように配置されている。更に,各対をなす第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52の間には,これら第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52の上面と略同じ高さを有する突起53が設けられている。
【0029】
そして,この実施の形態にあっては,洗浄前の基板Wをアーム21上に載せて搬送する際には,図7に示すように,第一の吸着パッド51のみによって基板Wの下面を吸着するようになっている。また,洗浄後の基板Wを搬送する際には,図8に示すように,第二の吸着パッド52のみによって基板Wの下面を吸着するようになっている従って,洗浄前の基板Wから第一の吸着パッド51に付着した汚染物質を洗浄後の基板Wに再付着させることを防止できるようになる。なお,洗浄前の基板Wを搬送する際には第二の吸着パッド52のみを吸着させ,洗浄後の基板Wを搬送する際には第一の吸着パッド51のみを吸着させるように構成しても良い。
【0030】
更に,この実施の形態にあっては,洗浄前の基板Wをアーム21上に載せて搬送するに際して,アーム21の上面において内側に配置されている第一の吸着パッド51のみで基板Wの下面を吸着すると,図7に示すように,吸着に伴って第一の吸着パッド51の上面の高さがその弾性によって収縮して低くなり,第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52の間に設けられた突起53の上面が第一の吸着パッド51の外側において基板Wの下面を相対的に突き上げた状態となる。これにより,洗浄前の基板Wを搬送するに際しては,図7に示されるように,基板Wの中心が低く外側が高くなるように基板Wが反った形状となって,第一の吸着パッド51よりも外側に配置されている第二の吸着パッド52の上面から基板W下面が離れた状態となる。また,洗浄後の基板Wをアーム21上に載せて搬送するに際して,アーム21の上面において外側に配置されている第二の吸着パッド52のみで基板Wの下面を吸着すると,図8に示すように,吸着に伴って第二の吸着パッド52の上面の高さがその弾性によって収縮して低くなり,第一の吸着パッド51と第二の吸着パッド52の間に設けられた突起53の上面が第二の吸着パッド52の内側において基板Wの下面を相対的に突き上げた状態となる。これにより,洗浄後の基板Wを搬送するに際しては,図8に示されるように,基板Wの中心が高く外側が低くなるように先とは逆に基板Wが反った形状となって,第二の吸着パッド52よりも内側に配置されている第一の吸着パッド51の上面から基板W下面が離れた状態となる。
【0031】
このように,図6に示した実施の形態によれば,洗浄の前後において基板Wの下面に第一の吸着パッド51のみが接触する状態と第二の吸着パッド52のみが接触する状態とに切り替えることにより,洗浄前の基板Wから第一の吸着パッド51に付着した汚染物質を洗浄後の基板Wに再付着させることを確実に防止できるようになる。なお,洗浄前の基板Wは第二の吸着パッド52のみによって吸着し,洗浄後の基板Wは第一の吸着パッド51のみによって吸着するように構成しても良い。
【0032】
ここで図9に示す基板搬送装置100は,先に図4で説明したアーム21と同様に,ベース101の前面に取り付けられた二本のアーム部材102によって構成されたアーム103を備えている。各アーム部材102は,ベース101内に配設されたアクチュエータ104によってそれぞれ回転駆動される構成になっている。また,アーム部材102の表裏面には,表面側に第一の吸着パッド105がそれぞれ三箇所に配置されており,裏面側にも第二の吸着パッド106がそれぞれ三箇所に配置されている。
【0033】
そして,この図9に示す基板搬送装置100にあっては,洗浄前の基板Wをアーム103上に載せて搬送する際には,例えば図10(a)に示すように,アーム部材102の表面側を上方に向けた姿勢とし,第一の吸着パッド105を上にする。そして,基板Wの下面を第一の吸着パッド105によって吸着する。一方,洗浄後の基板Wを搬送する際しては,図10(b)に示すように,予めアクチュエータ104の回転駆動によってアーム部材102を回転させてアーム部材102の表裏面をひっくり返す。こうして,図10(c)に示すように,アーム部材102の裏面側を上方に向けた姿勢とし,第二の吸着パッド106を上にし,基板Wの下面を第二の吸着パッド106によって吸着する。このように,洗浄の前後においてアーム部材102を反転させて基板Wの下面を第一の吸着パッド105と第二の吸着パッド106で切り替えて吸着することにより,洗浄前の基板Wから第一の吸着パッド105に付着した汚染物質を洗浄後の基板Wに再付着させることを防止できるようになる。
【0034】
なお,洗浄前の基板Wを第二の吸着パッド106のみによって吸着し,洗浄後の基板Wは第一の吸着パッド105のみによって吸着するように構成しても,同様に汚染物質の再付着を防止できる。
【0035】
以上,本発明の実施の形態を基板Wを洗浄する洗浄装置1に基づいて説明したが,本発明の基板搬送装置は,洗浄以外の例えば基板の乾燥やレジスト膜の塗布などといった他の処理を行う各種の処理装置に適用することも可能である。
【0036】
【発明の効果】
本発明によれば,アーム自体を動かすことなく吸着パッドを切り替えることにより,処理前の基板と処理後の基板を別々の吸着パッドによって支持することができる。従って,比較的簡単な構造でありながら処理後の基板に対する汚染物質の再付着などといった問題を確実に解決できるといった特徴がある。また,基板搬送装置を小型に構成できるので,スペースの有効利用を図ることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】洗浄装置の平面図である。
【図2】本発明の実施の形態にかかる基板搬送装置の斜視図である。
【図3】半導体ウェハの如き基板の搬送に適したアームの斜視図である。
【図4】LCDガラス基板の如き基板の搬送に適したアームの斜視図である。
【図5】アームの上面に第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを上面が同じ高さとなるように配置した構成の実施の形態を示す平面図である。
【図6】図5におけるA−A断面矢視図である。
【図7】図5の実施の形態における洗浄前の基板を搬送する状態の説明図である。
【図8】図5の実施の形態における洗浄後の基板を搬送する状態の説明図である。
【図9】アームが反転するように構成された基板搬送装置の平面図である。
【図10】図9の基板搬送装置の動作説明図である。
【符号の説明】
W 基板
C カセット
2 基板搬送装置
3 カセットステーション
4 洗浄部
21 アーム
31 第一の吸着パッド
32 第二の吸着パッド

Claims (7)

  1. アームを移動させ,該アーム上に載せた状態で処理部に対して基板を搬入出させる基板搬送装置において,
    アームに設けられ基板を吸着するための第一の吸着パッドと,
    前記アームの前記第一の吸着パッドに並設され,基板を吸着する第二の吸着パッドと,
    前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間に設けられた突起と,を備え,
    前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドは,前記第一の吸着パッドのみで基板を吸着する状態と,前記第二の吸着パッドのみで基板を吸着する状態とに切り換え可能であり,
    前記第一の吸着パッド又は第二の吸着パッドのいずれか一方に基板を吸着した際に,当該基板の吸着した一方の吸着パッドが弾性によって収縮してその吸着パッドの上面の高さが低くなり,前記突起が前記基板の下面を相対的に突き上げて,吸着してない他方の吸着パットの上面が前記基板の下面と離れ非接触になることを特徴とする,基板搬送装置。
  2. 前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを上面が同じ高さとなるように配置したことを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
  3. 前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドを一対ずつ複数箇所に配置することを特徴とする請求項1又は2のいずれかに記載の基板搬送装置。
  4. 前記突起を,前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの上面と同じ高さに設けたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板搬送装置。
  5. 前記第一の吸着パッドと第二の吸着パッドが,アームの中心線に対して対称の位置にそれぞれ一対ずつ配置され,各対をなす第一の吸着パッドと第二の吸着パッドにおいて,アームの中心線に対して第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの一方が他方の外側に配置されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板搬送装置。
  6. 前記第一及び第二の吸着パッドのうち,基板を吸着したいずれか一方の吸着パッドは,弾性によって収縮し,他方の吸着パッドよりも高さが低くなることを特徴とする,請求項1〜5のいずれかに記載の基板搬送装置。
  7. 基板を保持するアームと,このアームに設けられ基板を吸着するための第一及び第二の吸着パッドと,当該第一の吸着パッドと第二の吸着パッドの間に設けられた突起とを備えた基板処理装置を用いて基板を処理部に対して搬入出する基板搬送方法であって,
    処理前の基板を第一の吸着パッドに吸着しつつ,当該基板が第二の吸着パッドから離れ非接触になるように前記突起が前記基板を突き上げた状態で,当該基板を前記処理部に搬入する工程と,
    処理後の基板を前記第二の吸着パッドに吸着しつつ,当該基板が前記第一の吸着パッドから離れ非接触になるように前記突起が前記基板を突き上げた状態で,当該基板を前記処理部から搬出する工程と,を有することを特徴とする,基板搬送方法。
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