JP2001242300A - 電子ビーム照射装置 - Google Patents
電子ビーム照射装置Info
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
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- G—PHYSICS
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- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
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-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/188—Differential pressure
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子ビームの散乱を効果的に回避し、しかも
大掛かりな真空チェンバを設けることを回避することが
できるようにした電子ビーム照射装置を提供する。 【解決手段】 電子ビーム２が照射される被電子ビーム
照射体３を支持する支持部４と、被電子ビーム照射体に
対して微小間隔をもって対向し、被電子ビーム照射体３
に電子ビーム２を照射する電子ビーム出射孔５を有する
電子ビーム照射ヘッド６とを具備して成る。そして、そ
の電子ビーム照射ヘッド６には、電子ビーム出射孔５に
連通する電子ビームの通路２０が設けられると共に、こ
の電子ビーム出射孔５を中心にその周囲に、被電子ビー
ム照射体との対向面に開口する１つ以上のリング状気体
吸引溝６１，６２が形成され、電子ビーム通路２０とリ
ング状気体吸引溝６１，６２には真空ポンプが連結され
て、電子ビーム通路が高真空度に保持される構成とす
る。
大掛かりな真空チェンバを設けることを回避することが
できるようにした電子ビーム照射装置を提供する。 【解決手段】 電子ビーム２が照射される被電子ビーム
照射体３を支持する支持部４と、被電子ビーム照射体に
対して微小間隔をもって対向し、被電子ビーム照射体３
に電子ビーム２を照射する電子ビーム出射孔５を有する
電子ビーム照射ヘッド６とを具備して成る。そして、そ
の電子ビーム照射ヘッド６には、電子ビーム出射孔５に
連通する電子ビームの通路２０が設けられると共に、こ
の電子ビーム出射孔５を中心にその周囲に、被電子ビー
ム照射体との対向面に開口する１つ以上のリング状気体
吸引溝６１，６２が形成され、電子ビーム通路２０とリ
ング状気体吸引溝６１，６２には真空ポンプが連結され
て、電子ビーム通路が高真空度に保持される構成とす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム照射装
置、例えば光記録媒体、光磁気記録媒体、相変化記録媒
体、磁気記録媒体等を射出成型、２Ｐ法（Photopolymer
ization 法) 等によって形成する場合の原盤製造におい
て、レジストに対する電子ビームのパターン照射等に用
いる電子ビーム描画等に用いる照射装置に係わる。
置、例えば光記録媒体、光磁気記録媒体、相変化記録媒
体、磁気記録媒体等を射出成型、２Ｐ法（Photopolymer
ization 法) 等によって形成する場合の原盤製造におい
て、レジストに対する電子ビームのパターン照射等に用
いる電子ビーム描画等に用いる照射装置に係わる。
【０００２】近年、光ディスク、光磁気ディスク、相変
化ディスク等の各種情報記録媒体において、一層の高密
度が求められており、この記録媒体におけるデータ記録
のピットやトラック溝などのグルーブの微細形成が求め
られている。これに伴って、上述した原盤等の製造にお
いても、より微細凹凸パターンの形成が求められる。こ
のような原盤等の作製においては、基板上に塗布形成し
たレジスト層に、レーザ光をパターン露光し、現像する
ことによってレジスト層に微細パターンを形成し、この
上に例えばニッケルメッキを施して、微細パターンの反
転パターンを有するスタンパー、あるいはスタンパーを
作製するマスタースタンパーもしくはマザースタンパー
を形成する。
化ディスク等の各種情報記録媒体において、一層の高密
度が求められており、この記録媒体におけるデータ記録
のピットやトラック溝などのグルーブの微細形成が求め
られている。これに伴って、上述した原盤等の製造にお
いても、より微細凹凸パターンの形成が求められる。こ
のような原盤等の作製においては、基板上に塗布形成し
たレジスト層に、レーザ光をパターン露光し、現像する
ことによってレジスト層に微細パターンを形成し、この
上に例えばニッケルメッキを施して、微細パターンの反
転パターンを有するスタンパー、あるいはスタンパーを
作製するマスタースタンパーもしくはマザースタンパー
を形成する。
【０００３】このような方法において、例えば基板の、
基板面に沿う回転と、基板面に沿う例えば一方向の移行
によってレーザ光スポットと基板との相対的移行によっ
て、スポットをレジスト層上にスパイラル状、または同
心円上に走査しつつ、記録信号によってレーザ光を変調
して露光することによって記録パターンの露光がなされ
る。
基板面に沿う回転と、基板面に沿う例えば一方向の移行
によってレーザ光スポットと基板との相対的移行によっ
て、スポットをレジスト層上にスパイラル状、または同
心円上に走査しつつ、記録信号によってレーザ光を変調
して露光することによって記録パターンの露光がなされ
る。
【０００４】しかしながら、このようなレーザ光による
露光方法による場合、レーザ波長による光学的限界によ
るスポット径に制約があり、充分な微細パターンの形成
に問題が生じている。これに対し、電子ビームを用いる
場合、より微細パターン化を行うことができる。ところ
が、この電子ビーム露光による場合は、この電子ビーム
が、気体分子と衝突して散乱することがないように、真
空チェンバ内での作業が必要となり装置が大型となる。
また、上述した基板の回転、移行駆動機構や、信号配線
の真空シールなど構造が複雑化し、装置の高価格化、こ
れに伴う例えば上述した原盤、ひいては記録媒体のコス
ト高を招来する。
露光方法による場合、レーザ波長による光学的限界によ
るスポット径に制約があり、充分な微細パターンの形成
に問題が生じている。これに対し、電子ビームを用いる
場合、より微細パターン化を行うことができる。ところ
が、この電子ビーム露光による場合は、この電子ビーム
が、気体分子と衝突して散乱することがないように、真
空チェンバ内での作業が必要となり装置が大型となる。
また、上述した基板の回転、移行駆動機構や、信号配線
の真空シールなど構造が複雑化し、装置の高価格化、こ
れに伴う例えば上述した原盤、ひいては記録媒体のコス
ト高を招来する。
【０００５】これに対し、このような大掛かりな真空チ
ェンバの使用を回避できる装置が、例えば特開平１１−
２８８５２９号公報、特開平１１−３２８７５０号公報
等で提案された。これらで提案された装置においては、
電子光学鏡筒内に、電子銃、コンデンサ電子レンズ、偏
向手段、フォーカス調整手段等が配置されてなる電子ビ
ームコラム内のみを真空に保持できるように電子ビーム
を透過することのできる隔膜を設け、電子ビームは、電
子ビームコラムと、レジスト層を有する基板の配置部と
の間の、ビームの短い通路においてのみヘリウムが供給
された空間を通過するようになされ、大気中に基板の配
置部、すなわちその回転、移行機構部等が配置されるよ
うにして、高真空に保持する部分の縮小化を図って、装
置の小型簡易化を図るようにしたものである。
ェンバの使用を回避できる装置が、例えば特開平１１−
２８８５２９号公報、特開平１１−３２８７５０号公報
等で提案された。これらで提案された装置においては、
電子光学鏡筒内に、電子銃、コンデンサ電子レンズ、偏
向手段、フォーカス調整手段等が配置されてなる電子ビ
ームコラム内のみを真空に保持できるように電子ビーム
を透過することのできる隔膜を設け、電子ビームは、電
子ビームコラムと、レジスト層を有する基板の配置部と
の間の、ビームの短い通路においてのみヘリウムが供給
された空間を通過するようになされ、大気中に基板の配
置部、すなわちその回転、移行機構部等が配置されるよ
うにして、高真空に保持する部分の縮小化を図って、装
置の小型簡易化を図るようにしたものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した隔膜によっ
て、一部の空間を真空室とする構成による場合、その隔
膜は、電子ビームを透過し易い材料、および厚さの選定
がなされるものの、電子ビームは、この隔膜や、その電
子ビーム照射面すなわちレジスト層に達する空間でのガ
ス分子との衝突によって散乱が発生することから、より
微細なパターンの形成の達成を阻害する。
て、一部の空間を真空室とする構成による場合、その隔
膜は、電子ビームを透過し易い材料、および厚さの選定
がなされるものの、電子ビームは、この隔膜や、その電
子ビーム照射面すなわちレジスト層に達する空間でのガ
ス分子との衝突によって散乱が発生することから、より
微細なパターンの形成の達成を阻害する。
【０００７】本発明は、このような電子ビームの散乱を
効果的に回避し、しかも大掛かりな真空チェンバを設け
ることを回避することができるようにした電子ビーム照
射装置を提供する。すなわち、本発明による電子ビーム
照射装置においては、例えば上述した原盤の作製におい
て、基板上のレジスト層に対し微細パターンの形成を可
能にし、しかも装置の簡易化、小型化、取扱の簡便化を
図って、信頼性の向上、コストの低減化を図る。
効果的に回避し、しかも大掛かりな真空チェンバを設け
ることを回避することができるようにした電子ビーム照
射装置を提供する。すなわち、本発明による電子ビーム
照射装置においては、例えば上述した原盤の作製におい
て、基板上のレジスト層に対し微細パターンの形成を可
能にし、しかも装置の簡易化、小型化、取扱の簡便化を
図って、信頼性の向上、コストの低減化を図る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明による電子ビーム
照射装置は、電子ビームが照射される被電子ビーム照射
体を支持する支持部と、被電子ビーム照射体に対して微
小間隔をもって対向し、被電子ビーム照射体に電子ビー
ムを照射する電子ビーム出射孔を有する電子ビーム照射
ヘッドとを具備して成る。そして、その電子ビーム照射
ヘッドには、電子ビーム出射孔に連通する電子ビームの
通路が設けられると共に、この電子ビーム出射孔を中心
にその周囲に、被電子ビーム照射体との対向面に開口す
る１つ以上のリング状気体吸引溝が形成され、電子ビー
ム通路とリング状気体吸引溝には排気手段すなわち真空
ポンプが連結されて、電子ビーム通路が高真空度に保持
される構成とする。
照射装置は、電子ビームが照射される被電子ビーム照射
体を支持する支持部と、被電子ビーム照射体に対して微
小間隔をもって対向し、被電子ビーム照射体に電子ビー
ムを照射する電子ビーム出射孔を有する電子ビーム照射
ヘッドとを具備して成る。そして、その電子ビーム照射
ヘッドには、電子ビーム出射孔に連通する電子ビームの
通路が設けられると共に、この電子ビーム出射孔を中心
にその周囲に、被電子ビーム照射体との対向面に開口す
る１つ以上のリング状気体吸引溝が形成され、電子ビー
ム通路とリング状気体吸引溝には排気手段すなわち真空
ポンプが連結されて、電子ビーム通路が高真空度に保持
される構成とする。
【０００９】すなわち、本発明構成においては、被電子
ビーム照射体に対する電子ビーム出射孔に連通する電子
ビームの通路を排気してこの電子ビーム通路を真空に保
持するものであるが、この電子ビーム出射孔の周囲に、
リング状気体吸引溝を設けて此処から、電子ビーム照射
ヘッドと、被電子ビーム照射体との間の微小間隔部の、
特に電子ビーム出射孔近傍の気体を排除する構成とする
ことによって、電子ビーム出射孔に入り込む気体と、こ
の電子ビーム出射孔と被電子ビーム照射体との間の空間
の気体を有効に排除する効果を奏する。このようにし
て、電子ビーム照射ヘッド内の電子ビーム通路を高真空
に保持でき、しかもこの電子ビーム出射孔から導出され
て被電子ビーム照射体に向かう飛翔通路においても高い
真空下に保持できる。したがって、電子ビームの、前述
した隔膜による散乱、更に電子ビームの飛翔中の気体分
子との衝突による散乱を効果的に回避できる。
ビーム照射体に対する電子ビーム出射孔に連通する電子
ビームの通路を排気してこの電子ビーム通路を真空に保
持するものであるが、この電子ビーム出射孔の周囲に、
リング状気体吸引溝を設けて此処から、電子ビーム照射
ヘッドと、被電子ビーム照射体との間の微小間隔部の、
特に電子ビーム出射孔近傍の気体を排除する構成とする
ことによって、電子ビーム出射孔に入り込む気体と、こ
の電子ビーム出射孔と被電子ビーム照射体との間の空間
の気体を有効に排除する効果を奏する。このようにし
て、電子ビーム照射ヘッド内の電子ビーム通路を高真空
に保持でき、しかもこの電子ビーム出射孔から導出され
て被電子ビーム照射体に向かう飛翔通路においても高い
真空下に保持できる。したがって、電子ビームの、前述
した隔膜による散乱、更に電子ビームの飛翔中の気体分
子との衝突による散乱を効果的に回避できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は、本発明による電子ビーム
照射装置の一実施形態の一例の概略構成図を示す。この
電子ビーム照射装置においては、いわゆる電子ビームコ
ラム１と、電子ビーム２が照射される被電子ビーム照射
体３を支持する支持部４と、被電子ビーム照射体３に対
して微小間隔ｄをもって対向し、被電子ビーム照射体３
に電子ビームを照射する電子ビーム出射孔５を有する電
子ビーム照射ヘッド６とを有して成る。
照射装置の一実施形態の一例の概略構成図を示す。この
電子ビーム照射装置においては、いわゆる電子ビームコ
ラム１と、電子ビーム２が照射される被電子ビーム照射
体３を支持する支持部４と、被電子ビーム照射体３に対
して微小間隔ｄをもって対向し、被電子ビーム照射体３
に電子ビームを照射する電子ビーム出射孔５を有する電
子ビーム照射ヘッド６とを有して成る。
【００１１】電子ビームコラム１は、例えば電子銃１１
と、これより放出された電子ビームを収束するコンデン
サ電子レンズ１２と、電子ビーム変調手段１３と、中央
にアパーチャ１４を有する制限板１５と、偏向手段１６
と、フォーカス調整手段１７と、対物電子レンズ１８と
を有する。電子ビーム変調手段１３は、例えば相対向す
る偏向電極板より成り、これら間に所要の電圧を印加す
ることによって電子ビームを偏向して、制限板１５のア
パーチャを透過させたり、制限板１５によって遮断する
ことによってオン・オフ変調を行うようになされてい
る。また、偏向手段１６は、これによって例えば電子ビ
ームを、被電子ビーム照射体において往復微小移動させ
るいわゆるウォブリングさせるための偏向を行う。この
偏向手段１６も、例えば相対向する偏向電極板より成
り、これら電極間にウォブリング信号を入力する。
と、これより放出された電子ビームを収束するコンデン
サ電子レンズ１２と、電子ビーム変調手段１３と、中央
にアパーチャ１４を有する制限板１５と、偏向手段１６
と、フォーカス調整手段１７と、対物電子レンズ１８と
を有する。電子ビーム変調手段１３は、例えば相対向す
る偏向電極板より成り、これら間に所要の電圧を印加す
ることによって電子ビームを偏向して、制限板１５のア
パーチャを透過させたり、制限板１５によって遮断する
ことによってオン・オフ変調を行うようになされてい
る。また、偏向手段１６は、これによって例えば電子ビ
ームを、被電子ビーム照射体において往復微小移動させ
るいわゆるウォブリングさせるための偏向を行う。この
偏向手段１６も、例えば相対向する偏向電極板より成
り、これら電極間にウォブリング信号を入力する。
【００１２】また、フォーカス調整手段１７と、対物電
子レンズ１８は、それぞれ例えば電磁コイルより構成さ
れて、これらフォーカス調整手段１７および対物電子レ
ンズ１８によって、電子ビーム２が、電子ビーム照射ヘ
ッド６を通じて、被電子ビーム照射体３上にフォーカシ
ングされるようになされている。この場合、フォーカス
調整手段１７には、例えばフォーカシングサーボ信号が
印加される。
子レンズ１８は、それぞれ例えば電磁コイルより構成さ
れて、これらフォーカス調整手段１７および対物電子レ
ンズ１８によって、電子ビーム２が、電子ビーム照射ヘ
ッド６を通じて、被電子ビーム照射体３上にフォーカシ
ングされるようになされている。この場合、フォーカス
調整手段１７には、例えばフォーカシングサーボ信号が
印加される。
【００１３】また、上述した電子ビームコラム１として
は、例えば低真空対応走査型電子顕微鏡で用いられてい
るコラムのように、電子ビームの発射側では、幾分低真
空度とされるものの、電子銃１１側で高真空度する真空
度に勾配を有する構成とすることもでき、この場合に
は、より安定して電子ビーム照射を行うことができる。
は、例えば低真空対応走査型電子顕微鏡で用いられてい
るコラムのように、電子ビームの発射側では、幾分低真
空度とされるものの、電子銃１１側で高真空度する真空
度に勾配を有する構成とすることもでき、この場合に
は、より安定して電子ビーム照射を行うことができる。
【００１４】一方、電子ビーム照射ヘッド６は、例えば
図２にその一例の概略断面図を示し、図３にその正面図
を示すように、電子ビーム出射孔５に連通する電子ビー
ム通路２０を有する例えばセラミックもしくは金属より
成るブロック２１を有してなる。また、このブロック２
１には、その電子ビーム出射孔５を中心にその周囲に、
被電子ビーム照射体３との対向面に開口する１つ以上、
図２の例においては、第１および第２のリング状気体吸
引溝６１および６２が、電子ビーム出射孔５を中心に同
心的に形成される。
図２にその一例の概略断面図を示し、図３にその正面図
を示すように、電子ビーム出射孔５に連通する電子ビー
ム通路２０を有する例えばセラミックもしくは金属より
成るブロック２１を有してなる。また、このブロック２
１には、その電子ビーム出射孔５を中心にその周囲に、
被電子ビーム照射体３との対向面に開口する１つ以上、
図２の例においては、第１および第２のリング状気体吸
引溝６１および６２が、電子ビーム出射孔５を中心に同
心的に形成される。
【００１５】そして、ブロック２１の、これら第１およ
び第２のリング状気体吸引溝６１および６２の外周に、
電子ビーム照射ヘッド６の静圧浮上手段２２すなわちい
わゆる静圧軸受が設けられる。ブロック２１、すなわち
電子ビーム照射ヘッド６は、電子ビームコラム１の固定
部４０に、ベローズ等の伸縮結合手段４１によって連結
されて、この伸縮結合手段４１の伸縮によって電子ビー
ム照射ヘッド６が、矢印ａに示す軸心方向に移動可能に
保持される。そして、この電子ビーム照射ヘッド６が移
動可能にされたことによって、電子ビーム照射ヘッド６
と被電子ビーム照射体３との間隔が、後述するように静
圧浮上手段２２の動作によって常時例えば被電子ビーム
照射体３の厚さむら等に依存することなく一定の間隔に
保持できるようになされる。この場合、この伸縮結合手
段４１内は機密的に構成され、かつこの伸縮結合手段４
１内を通じて、電子ビームコラム１からの電子ビーム２
が、何ら阻害されることなく、電子ビーム通路２０に通
ずるようになされる。
び第２のリング状気体吸引溝６１および６２の外周に、
電子ビーム照射ヘッド６の静圧浮上手段２２すなわちい
わゆる静圧軸受が設けられる。ブロック２１、すなわち
電子ビーム照射ヘッド６は、電子ビームコラム１の固定
部４０に、ベローズ等の伸縮結合手段４１によって連結
されて、この伸縮結合手段４１の伸縮によって電子ビー
ム照射ヘッド６が、矢印ａに示す軸心方向に移動可能に
保持される。そして、この電子ビーム照射ヘッド６が移
動可能にされたことによって、電子ビーム照射ヘッド６
と被電子ビーム照射体３との間隔が、後述するように静
圧浮上手段２２の動作によって常時例えば被電子ビーム
照射体３の厚さむら等に依存することなく一定の間隔に
保持できるようになされる。この場合、この伸縮結合手
段４１内は機密的に構成され、かつこの伸縮結合手段４
１内を通じて、電子ビームコラム１からの電子ビーム２
が、何ら阻害されることなく、電子ビーム通路２０に通
ずるようになされる。
【００１６】そして、例えば電子ビーム通路２０、第１
および第２の気体吸引溝６１および６２に、それぞれ排
気手段すなわち真空ポンプを連結する。この場合、電子
ビーム通路２０に連結する排気手段５０は、高い真空度
が得られる、例えばクライオポンプ、ターボ分子ポン
プ、イオンスパッタポンプ等の例えば１０-8 [Pa] の真
空能力を有する排気手段５０を用い、電子ビーム通路２
０を１×１０-4 [Pa] 程度に真空引きする。そして、中
心側、すなわち電子ビーム出射孔５に近接する気体吸引
溝ほど高い真空度に排気ができる排気手段を連結する。
すなわち、第１の気体吸引溝６１には、例えば１×１０
-1 [Pa] 程度の真空度に、第２の気体吸引溝６２には、
例えば５×１０3 [Pa] 程度の真空度が得られる排気手
段５１および５２を連結する。
および第２の気体吸引溝６１および６２に、それぞれ排
気手段すなわち真空ポンプを連結する。この場合、電子
ビーム通路２０に連結する排気手段５０は、高い真空度
が得られる、例えばクライオポンプ、ターボ分子ポン
プ、イオンスパッタポンプ等の例えば１０-8 [Pa] の真
空能力を有する排気手段５０を用い、電子ビーム通路２
０を１×１０-4 [Pa] 程度に真空引きする。そして、中
心側、すなわち電子ビーム出射孔５に近接する気体吸引
溝ほど高い真空度に排気ができる排気手段を連結する。
すなわち、第１の気体吸引溝６１には、例えば１×１０
-1 [Pa] 程度の真空度に、第２の気体吸引溝６２には、
例えば５×１０3 [Pa] 程度の真空度が得られる排気手
段５１および５２を連結する。
【００１７】また、静圧浮上手段２２すなわち静圧軸受
は、被電子ビーム照射体３との対向部にリング状に構成
される。例えば、ブロック２１の被電子ビーム照射体３
との対向面に開口し、外側の気体吸引溝、図示の例では
第２の気体吸引溝６２の更に外周に、電子ビーム出射孔
５を中心とするリング状に形成される。この静圧軸受す
なわち静圧浮上手段２２は、例えば上述したリング状の
圧縮気体通路２２ａと、この開口を埋込むように配置し
た通気パッド２２ｂが配置された構成とし得る。
は、被電子ビーム照射体３との対向部にリング状に構成
される。例えば、ブロック２１の被電子ビーム照射体３
との対向面に開口し、外側の気体吸引溝、図示の例では
第２の気体吸引溝６２の更に外周に、電子ビーム出射孔
５を中心とするリング状に形成される。この静圧軸受す
なわち静圧浮上手段２２は、例えば上述したリング状の
圧縮気体通路２２ａと、この開口を埋込むように配置し
た通気パッド２２ｂが配置された構成とし得る。
【００１８】リング状圧縮気体通路２２ａに、圧縮気体
供給源５３が連結され、圧縮気体を例えば５×１０5
[Pa] で供給する。この気体は、例えば窒素（Ｎ）もし
くは不活性ガスで軽量原子のヘリウム（Ｈｅ），ネオン
（Ｎｅ），アルゴン（Ａｒ）を用いることが望ましい。
このガスは、後述するように、電子ビーム通路２０に入
り込むことはないが、不測の事態が生じて、この気体が
電子ビーム通路２０に入り込んだ場合においても、電子
銃１１の電子放出カソード材を劣化させることがないよ
うにすることが望ましい。
供給源５３が連結され、圧縮気体を例えば５×１０5
[Pa] で供給する。この気体は、例えば窒素（Ｎ）もし
くは不活性ガスで軽量原子のヘリウム（Ｈｅ），ネオン
（Ｎｅ），アルゴン（Ａｒ）を用いることが望ましい。
このガスは、後述するように、電子ビーム通路２０に入
り込むことはないが、不測の事態が生じて、この気体が
電子ビーム通路２０に入り込んだ場合においても、電子
銃１１の電子放出カソード材を劣化させることがないよ
うにすることが望ましい。
【００１９】また、パッド２２ｂは、静圧軸受面積当た
りの負荷容量が高く、剛性が高くとれる多孔質パッドに
よることが望ましい。
りの負荷容量が高く、剛性が高くとれる多孔質パッドに
よることが望ましい。
【００２０】上述の電子ビーム照射ヘッド６において、
各部の寸法を例示すると、例えば電子ビーム出射孔５の
直径は１０μｍ〜２００μｍ程度、電子ビーム出射孔５
の中心から第１のリング状気体吸引溝６１までの距離Ｄ
1 は約２．５ｍｍ、第１のリング状気体吸引溝６１の幅
Ｗ1 は４ｍｍ〜５ｍｍ程度、第１および第２のリング状
気体吸引溝６１および６２間の間隔Ｄ2 は約２ｍｍ、第
２のリング状気体吸引溝６２の幅Ｗ2 は約２ｍｍ、第２
のリング状気体吸引溝６２と静圧浮上手段２２との間の
間隔Ｄ3 は約２ｍｍ、静圧浮上手段２２の幅Ｗ3 は５ｍ
ｍ〜１０ｍｍ程度、静圧浮上手段２２からブロック２１
の周面まで距離（幅）Ｄ4 は約２ｍｍ程度に選定するこ
とができる。
各部の寸法を例示すると、例えば電子ビーム出射孔５の
直径は１０μｍ〜２００μｍ程度、電子ビーム出射孔５
の中心から第１のリング状気体吸引溝６１までの距離Ｄ
1 は約２．５ｍｍ、第１のリング状気体吸引溝６１の幅
Ｗ1 は４ｍｍ〜５ｍｍ程度、第１および第２のリング状
気体吸引溝６１および６２間の間隔Ｄ2 は約２ｍｍ、第
２のリング状気体吸引溝６２の幅Ｗ2 は約２ｍｍ、第２
のリング状気体吸引溝６２と静圧浮上手段２２との間の
間隔Ｄ3 は約２ｍｍ、静圧浮上手段２２の幅Ｗ3 は５ｍ
ｍ〜１０ｍｍ程度、静圧浮上手段２２からブロック２１
の周面まで距離（幅）Ｄ4 は約２ｍｍ程度に選定するこ
とができる。
【００２１】そして、図示しないが、例えば電子ビーム
コラム１との連結側端部近傍、あるいは電子ビーム照射
ヘッド６の電子ビームコラム１との連結側端部近傍等
に、電子ビーム通路を開閉するゲートバルブを設ける得
る。
コラム１との連結側端部近傍、あるいは電子ビーム照射
ヘッド６の電子ビームコラム１との連結側端部近傍等
に、電子ビーム通路を開閉するゲートバルブを設ける得
る。
【００２２】一方、被電子ビーム照射体３の支持部４
は、例えば真空チャック、あるいは静電チャックによる
吸着手段２３を有するターンテーブル構成とする。そし
て、このターンテーブルは、スピンドル軸２４によっ
て、被電子ビーム照射体３の板面の中心軸を中心に回転
することができるようになされると共に、矢印ｂに示す
ように、回転中心軸と直交する面に沿う直線方向に移動
できる構成とする。この回転および直線移動によって、
被電子ビーム照射体３の照射面が、電子ビーム２に対し
て移行し、電子ビーム２が被電子ビーム照射体３の照射
面に対して、スパイラル状あるいは同心円上に走査する
ことができるようになされる。
は、例えば真空チャック、あるいは静電チャックによる
吸着手段２３を有するターンテーブル構成とする。そし
て、このターンテーブルは、スピンドル軸２４によっ
て、被電子ビーム照射体３の板面の中心軸を中心に回転
することができるようになされると共に、矢印ｂに示す
ように、回転中心軸と直交する面に沿う直線方向に移動
できる構成とする。この回転および直線移動によって、
被電子ビーム照射体３の照射面が、電子ビーム２に対し
て移行し、電子ビーム２が被電子ビーム照射体３の照射
面に対して、スパイラル状あるいは同心円上に走査する
ことができるようになされる。
【００２３】そして、この直線方向の移動を行う駆動手
段としては、電子ビームへの影響を回避するように、磁
気フリー駆動が可能な超音波リニアモータ、磁気シール
ド型ボイスコイルモータ等を用いることが望ましい。ま
た、この駆動は、１０ナノメートル以下の分解能を持つ
リニアスケールからのフィードバック制御による駆動を
行うようにすることが望ましい。
段としては、電子ビームへの影響を回避するように、磁
気フリー駆動が可能な超音波リニアモータ、磁気シール
ド型ボイスコイルモータ等を用いることが望ましい。ま
た、この駆動は、１０ナノメートル以下の分解能を持つ
リニアスケールからのフィードバック制御による駆動を
行うようにすることが望ましい。
【００２４】また、スピンドル軸は、静圧空気軸受によ
って軸受けされた構成とすることが望ましく、このよう
にして、滑らかな回転ができるようにして、回転（速
度）精度を高めることができ、電子ビーム２の照射パタ
ーン精度を向上させることができる。
って軸受けされた構成とすることが望ましく、このよう
にして、滑らかな回転ができるようにして、回転（速
度）精度を高めることができ、電子ビーム２の照射パタ
ーン精度を向上させることができる。
【００２５】また、このスピンドルの駆動モータについ
ても、電子ビームに影響を与えることがないように、駆
動部が磁気シールドされたブラシレスモータを用いて、
直接回転駆動構成とすることが望ましい。
ても、電子ビームに影響を与えることがないように、駆
動部が磁気シールドされたブラシレスモータを用いて、
直接回転駆動構成とすることが望ましい。
【００２６】被電子ビーム照射体３は、例えば図４Ａに
示すように、全体として高い平板性と、表面平滑性にす
ぐれた基板３１上に、レジスト３２が塗布されて成る。
例えば記録媒体製造用原盤を構成する場合は、ガラス基
板、石英基板、シリコンウエハー等の基板３１にフォト
レジスト３２が形成される。そして、このレジスト３２
に対して、電子ビーム２をパターン照射することによっ
て、その後のレジスト３２に対する現像によってパター
ン化できる潜像を形成する。
示すように、全体として高い平板性と、表面平滑性にす
ぐれた基板３１上に、レジスト３２が塗布されて成る。
例えば記録媒体製造用原盤を構成する場合は、ガラス基
板、石英基板、シリコンウエハー等の基板３１にフォト
レジスト３２が形成される。そして、このレジスト３２
に対して、電子ビーム２をパターン照射することによっ
て、その後のレジスト３２に対する現像によってパター
ン化できる潜像を形成する。
【００２７】また、本発明装置において、電子ビーム照
射ヘッド６と被電子ビーム照射体３の表面（すなわち電
子ビーム照射面）との間隔ｄは、例えば５μｍ程度に狭
小な間隔とされる。
射ヘッド６と被電子ビーム照射体３の表面（すなわち電
子ビーム照射面）との間隔ｄは、例えば５μｍ程度に狭
小な間隔とされる。
【００２８】上述の本発明装置によって、被電子ビーム
照射体３に電子ビームの描画を行う場合について説明す
る。先ず、支持部４上すなわちターンテーブル上に被電
子ビーム照射体３を載置し、吸着手段２３によって保持
する。この状態で、電子ビーム照射ヘッド６を、被電子
ビーム照射体３の電子ビーム照射面、すなわちレジスト
の塗布面に近づける。このとき、静圧浮上手段２２は動
作状態とされて通気パッド２２ｂから気体噴出がなされ
た状態にあるが、第１および第２のリング状気体吸引溝
６１および６２においては、気体吸引動作を行わない状
態として置く。このようにして、静圧浮上手段２２から
の噴出気体が、被電子ビーム照射体３の電子ビーム照射
面に吹きつけられることによって、電子ビーム照射ヘッ
ド６が、この照射面に衝突ないしは接触することが回避
された状態で、電子ビーム照射ヘッド６を、被電子ビー
ム照射体３の電子ビーム照射面に対し、その間隔が、上
述した間隔ｄより大とするが、これに近い粗調整状態で
接近させる。
照射体３に電子ビームの描画を行う場合について説明す
る。先ず、支持部４上すなわちターンテーブル上に被電
子ビーム照射体３を載置し、吸着手段２３によって保持
する。この状態で、電子ビーム照射ヘッド６を、被電子
ビーム照射体３の電子ビーム照射面、すなわちレジスト
の塗布面に近づける。このとき、静圧浮上手段２２は動
作状態とされて通気パッド２２ｂから気体噴出がなされ
た状態にあるが、第１および第２のリング状気体吸引溝
６１および６２においては、気体吸引動作を行わない状
態として置く。このようにして、静圧浮上手段２２から
の噴出気体が、被電子ビーム照射体３の電子ビーム照射
面に吹きつけられることによって、電子ビーム照射ヘッ
ド６が、この照射面に衝突ないしは接触することが回避
された状態で、電子ビーム照射ヘッド６を、被電子ビー
ム照射体３の電子ビーム照射面に対し、その間隔が、上
述した間隔ｄより大とするが、これに近い粗調整状態で
接近させる。
【００２９】この状態で、第１および第２のリング状気
体吸引溝６１および６２の吸引動作、すなわち真空排気
の調整を行って、静圧浮上手段２２による正の気体圧力
と、第１および第２のリング状気体吸引溝６１および６
２による負の圧力の差動によって間隔ｄが所定の狭小間
隔、例えば５μｍとなるように設定する。そして、リン
グ状気体吸引溝６１および６２の真空度が、所定の値ま
で上がった後、電子ビームコラム１等に設けたゲートバ
ルブを開け、電子ビーム出射孔５から電子ビーム２を被
電子ビーム照射体３上に照射する。
体吸引溝６１および６２の吸引動作、すなわち真空排気
の調整を行って、静圧浮上手段２２による正の気体圧力
と、第１および第２のリング状気体吸引溝６１および６
２による負の圧力の差動によって間隔ｄが所定の狭小間
隔、例えば５μｍとなるように設定する。そして、リン
グ状気体吸引溝６１および６２の真空度が、所定の値ま
で上がった後、電子ビームコラム１等に設けたゲートバ
ルブを開け、電子ビーム出射孔５から電子ビーム２を被
電子ビーム照射体３上に照射する。
【００３０】そして、被電子ビーム照射体３の回転およ
び直線移行を行うことにより、電子ビーム２を、被電子
ビーム照射体３上に、すなわちレジストに、スパイラル
状あるいは円上の軌跡をもって照射する。このとき目的
とする電子ビームの照射パターンに応じた変調信号を電
子ビーム変調手段１３に印加することによって、電子ビ
ームをオン・オフして目的とする照射パターンをスパイ
ラル状あるいは円上に形成する。そして、このとき、こ
の軌跡をウォブリングさせる場合には、上述した偏向手
段１６に、所要のウォブリング信号を印加することによ
って、所望の電子ビームウォブリングを行うことができ
る。
び直線移行を行うことにより、電子ビーム２を、被電子
ビーム照射体３上に、すなわちレジストに、スパイラル
状あるいは円上の軌跡をもって照射する。このとき目的
とする電子ビームの照射パターンに応じた変調信号を電
子ビーム変調手段１３に印加することによって、電子ビ
ームをオン・オフして目的とする照射パターンをスパイ
ラル状あるいは円上に形成する。そして、このとき、こ
の軌跡をウォブリングさせる場合には、上述した偏向手
段１６に、所要のウォブリング信号を印加することによ
って、所望の電子ビームウォブリングを行うことができ
る。
【００３１】このとき、本発明構成においては、被電子
ビーム照射体３に対する電子ビーム出射孔５に連通する
電子ビームの通路２０が排気手段５０によって排気され
て真空状態にあり、一方、静圧浮上手段２２から気体噴
出がなされているが、両者間すなわち電子ビーム出射孔
５の周囲には、リング状気体吸引溝６１および６２が形
成されていることから、この気体が、これらリング状気
体吸引溝６１および６２によって吸引され、電子ビーム
出射孔５に至ることが回避される。すなわち、静圧浮上
手段２２からの気体は、まず、第２のリング状気体吸引
溝６２によって多くが吸収されるが、更に上述の構成で
は、第１のリング状気体吸引溝６１で吸収される。そし
て、このとき、電子ビーム照射ヘッド６と、被電子ビー
ム照射体３との間隔ｄが、狭小であることから、第２の
リング状気体吸引溝６２と第１のリング状気体吸引溝６
１との間の通気コンダクタンスは小さく、更に第２のリ
ング状気体吸引溝６２と電子ビーム出射孔５との間隔Ｄ
1 を必要に応じて上述したように例えば５ｍｍ程度に大
きくして置くことによって、また第１のリング状気体吸
引溝６１の真空度を大きくしたことによって、これら第
２のリング状気体吸引溝６２と電子ビーム出射孔５との
間のコンダクタンスは、極めて小さくされることから、
電子ビーム出射孔５へのガス分子が洩れ込みは殆ど回避
される。
ビーム照射体３に対する電子ビーム出射孔５に連通する
電子ビームの通路２０が排気手段５０によって排気され
て真空状態にあり、一方、静圧浮上手段２２から気体噴
出がなされているが、両者間すなわち電子ビーム出射孔
５の周囲には、リング状気体吸引溝６１および６２が形
成されていることから、この気体が、これらリング状気
体吸引溝６１および６２によって吸引され、電子ビーム
出射孔５に至ることが回避される。すなわち、静圧浮上
手段２２からの気体は、まず、第２のリング状気体吸引
溝６２によって多くが吸収されるが、更に上述の構成で
は、第１のリング状気体吸引溝６１で吸収される。そし
て、このとき、電子ビーム照射ヘッド６と、被電子ビー
ム照射体３との間隔ｄが、狭小であることから、第２の
リング状気体吸引溝６２と第１のリング状気体吸引溝６
１との間の通気コンダクタンスは小さく、更に第２のリ
ング状気体吸引溝６２と電子ビーム出射孔５との間隔Ｄ
1 を必要に応じて上述したように例えば５ｍｍ程度に大
きくして置くことによって、また第１のリング状気体吸
引溝６１の真空度を大きくしたことによって、これら第
２のリング状気体吸引溝６２と電子ビーム出射孔５との
間のコンダクタンスは、極めて小さくされることから、
電子ビーム出射孔５へのガス分子が洩れ込みは殆ど回避
される。
【００３２】このようにして、電子ビーム照射ヘッド６
内の電子ビーム通路を高真空に保持でき、しかもこの電
子ビーム出射孔から導出されて被電子ビーム照射体に向
かう飛翔通路においても高い真空下に保持できる。
内の電子ビーム通路を高真空に保持でき、しかもこの電
子ビーム出射孔から導出されて被電子ビーム照射体に向
かう飛翔通路においても高い真空下に保持できる。
【００３３】上述した本発明装置を用いて、例えば微細
凹凸パターンを有する記録媒体を、例えば射出成型ある
いは２Ｐ法によって構成するための原盤およびスタンパ
ーを作製する場合を、図４を参照して説明する。先ず図
４Ａに示すように、全体として高い平板性と、表面平滑
性にすぐれた基板３１が用意され、その平滑面に、レジ
スト３２が所要の厚さに均一に塗布される。この基板３
１は、ガラス基板、石英基板、シリコンウエハー等の基
板等によって構成され、レジスト３２は、例えばポジ型
あるいはネガ型のフォトレジストによって構成すること
ができる。
凹凸パターンを有する記録媒体を、例えば射出成型ある
いは２Ｐ法によって構成するための原盤およびスタンパ
ーを作製する場合を、図４を参照して説明する。先ず図
４Ａに示すように、全体として高い平板性と、表面平滑
性にすぐれた基板３１が用意され、その平滑面に、レジ
スト３２が所要の厚さに均一に塗布される。この基板３
１は、ガラス基板、石英基板、シリコンウエハー等の基
板等によって構成され、レジスト３２は、例えばポジ型
あるいはネガ型のフォトレジストによって構成すること
ができる。
【００３４】このレジスト３２に対して、前述した本発
明装置を用いて、上述した手順によって、目的とする微
細凹凸パターンに対応するパターンに電子ビーム照射を
行い、その後現像処理して電子ビームが照射された部
分、もしくは非照射部分を除去してレジスト３２に微細
パターン７１を形成する。このようにしてレジスト３２
の微細パターン７１による微細凹凸パターンを有する原
盤７２を得る。
明装置を用いて、上述した手順によって、目的とする微
細凹凸パターンに対応するパターンに電子ビーム照射を
行い、その後現像処理して電子ビームが照射された部
分、もしくは非照射部分を除去してレジスト３２に微細
パターン７１を形成する。このようにしてレジスト３２
の微細パターン７１による微細凹凸パターンを有する原
盤７２を得る。
【００３５】図４Ｃに示すように、この原盤７２上に、
Ｎｉメッキ等を施し、これを原盤７２から隔離して図４
Ｄに示すように、微細凹凸パターン７３を有するスタン
パー７４を作製する。そして、これによって射出成型あ
るいは２Ｐ法等によって図示しないが、微細凹凸パター
ンを有する記録媒体を得る。
Ｎｉメッキ等を施し、これを原盤７２から隔離して図４
Ｄに示すように、微細凹凸パターン７３を有するスタン
パー７４を作製する。そして、これによって射出成型あ
るいは２Ｐ法等によって図示しないが、微細凹凸パター
ンを有する記録媒体を得る。
【００３６】上述した例では、原盤によってスタンパー
を転写作製した場合であるが、複数のスタンパーを転写
複製するマスタースタンパーを作製することも、またこ
のマスタースタンパーを転写作製するマザースタンパー
を得ることもできる。また、ある場合は、基板３１が記
録媒体自体を構成する基板であってこの上に上述した方
法によってパターン化されたレジスト３２を形成し、こ
れをマスクとして基板に、例えばＲＩＥ（反応性イオン
エッチング）エッチングを行って記録媒体を直接的に形
成することもできるし、同様に、スタンパー、マスター
スタンパー、マザースタンパーを直接的に形成する場合
に適用することもできる。
を転写作製した場合であるが、複数のスタンパーを転写
複製するマスタースタンパーを作製することも、またこ
のマスタースタンパーを転写作製するマザースタンパー
を得ることもできる。また、ある場合は、基板３１が記
録媒体自体を構成する基板であってこの上に上述した方
法によってパターン化されたレジスト３２を形成し、こ
れをマスクとして基板に、例えばＲＩＥ（反応性イオン
エッチング）エッチングを行って記録媒体を直接的に形
成することもできるし、同様に、スタンパー、マスター
スタンパー、マザースタンパーを直接的に形成する場合
に適用することもできる。
【００３７】尚、上述した本発明装置の例では、排気手
段５０〜５２を設けた場合であるが、共通の排気手段に
よって構成することもできるし、更には図示しないが、
電子ビームコラム１に設けられる排気手段を共用する構
成とすることもできる。そのほか、本発明装置は、図示
の例に限らず、種々の変更を行うことができる。
段５０〜５２を設けた場合であるが、共通の排気手段に
よって構成することもできるし、更には図示しないが、
電子ビームコラム１に設けられる排気手段を共用する構
成とすることもできる。そのほか、本発明装置は、図示
の例に限らず、種々の変更を行うことができる。
【００３８】また、上述した例では、主としてレジスト
に対する電子ビームのパターン照射を行う場合に適用す
る電子ビーム照射装置について説明したが、本発明は、
この例に限られるものではなく、電子ビーム照射装置を
具備する各種装置、例えば反射型走査電子顕微鏡等に適
用することもできる。
に対する電子ビームのパターン照射を行う場合に適用す
る電子ビーム照射装置について説明したが、本発明は、
この例に限られるものではなく、電子ビーム照射装置を
具備する各種装置、例えば反射型走査電子顕微鏡等に適
用することもできる。
【００３９】
【発明の効果】上述したように本発明装置によれば、被
電子ビーム照射体に対する電子ビーム出射孔５に連通す
る電子ビームの通路２０を排気してこの電子ビーム通路
を真空に保持するものであるが、この電子ビーム出射孔
５の周囲に、リング状気体吸引溝を設けて此処から、電
子ビーム照射ヘッドと、被電子ビーム照射体との間の微
小間隔部の、特に電子ビーム出射孔近傍の気体を排除す
る構成としたことによって、電子ビーム出射孔５に入り
込む気体と、この電子ビーム出射孔５から出た電子ビー
ム通路、すなわち被電子ビーム照射体との間の空間の気
体を有効に排除することができる。
電子ビーム照射体に対する電子ビーム出射孔５に連通す
る電子ビームの通路２０を排気してこの電子ビーム通路
を真空に保持するものであるが、この電子ビーム出射孔
５の周囲に、リング状気体吸引溝を設けて此処から、電
子ビーム照射ヘッドと、被電子ビーム照射体との間の微
小間隔部の、特に電子ビーム出射孔近傍の気体を排除す
る構成としたことによって、電子ビーム出射孔５に入り
込む気体と、この電子ビーム出射孔５から出た電子ビー
ム通路、すなわち被電子ビーム照射体との間の空間の気
体を有効に排除することができる。
【００４０】したがって、電子ビーム照射ヘッドと被電
子ビーム照射体との微小間隔の保持を、機械的手法によ
らないすなわち非接触方法の気体を用いた静圧浮上手段
によ方法とした場合においても、電子ビーム照射ヘッド
６内の電子ビーム通路２０を高真空に保持でき、しかも
この電子ビーム出射孔から導出されて被電子ビーム照射
体に向かう飛翔通路においても高い真空下に保持でき
る。
子ビーム照射体との微小間隔の保持を、機械的手法によ
らないすなわち非接触方法の気体を用いた静圧浮上手段
によ方法とした場合においても、電子ビーム照射ヘッド
６内の電子ビーム通路２０を高真空に保持でき、しかも
この電子ビーム出射孔から導出されて被電子ビーム照射
体に向かう飛翔通路においても高い真空下に保持でき
る。
【００４１】したがって、本発明装置によれば、電子ビ
ームの、前述した隔膜による散乱、更に電子ビームの飛
翔中の気体分子との衝突による散乱を効果的に回避で
き、安定して微細パターンの電子ビーム照射を行うこと
ができる。したがって、目的とする電子ビーム照射によ
って得る製品、例えば上述した原盤作製、あるいは記録
媒体作製の電子ビーム描画装置として用いるときは、高
密度記録化、原盤作製のコストの低減化、これによる記
録媒体のコストの低減化を図ることができるものであ
る。
ームの、前述した隔膜による散乱、更に電子ビームの飛
翔中の気体分子との衝突による散乱を効果的に回避で
き、安定して微細パターンの電子ビーム照射を行うこと
ができる。したがって、目的とする電子ビーム照射によ
って得る製品、例えば上述した原盤作製、あるいは記録
媒体作製の電子ビーム描画装置として用いるときは、高
密度記録化、原盤作製のコストの低減化、これによる記
録媒体のコストの低減化を図ることができるものであ
る。
【００４２】また、本発明装置によれば、大きな空間に
対する真空保持を必要としないことから、大型、高性能
の排気手段すなわち真空ポンプの使用を回避できること
から、簡易、小型、廉価に装置を構成することができ
る。
対する真空保持を必要としないことから、大型、高性能
の排気手段すなわち真空ポンプの使用を回避できること
から、簡易、小型、廉価に装置を構成することができ
る。
【図１】本発明による電子ビーム照射装置の一例の概略
構成図である。
構成図である。
【図２】本発明による電子ビーム照射装置の一例の要部
の概略断面図である。
の概略断面図である。
【図３】本発明による電子ビーム照射装置の一例の電子
ビーム照射ヘッドの下面図である。
ビーム照射ヘッドの下面図である。
【図４】Ａ〜Ｄは、本発明装置を適用して記録媒体製造
用原盤を製造する製造工程図である。
用原盤を製造する製造工程図である。
１・・・電子ビームコラム、２・・・電子ビーム、３・
・・被電子ビーム照射体、４・・・被電子ビーム照射体
の支持部、５・・・電子ビーム出射孔、６・・・電子ビ
ーム照射ヘッド、１１・・・電子銃、１２・・・コンデ
ンサ電子レンズ、１３・・・電子ビーム変調手段、１４
・・・アパーチャ、１５・・・制限板、１６・・・偏向
手段、１７・・・フォーカス調整手段、１８・・・対物
電子レンズ、２０・・・通路、２１・・・ブロック、２
２・・・静圧浮上手段、２２ａ・・・リング状圧縮気体
供給路、２２ｂ・・・通気パッド、３１・・・基板、３
２・・・レジスト、４０・・・固定部、４１・・・伸縮
接合機構、５０，５１，５２・・・排気手段、５３・・
・圧縮気体供給源、６１・・・第１のリング状気体吸引
溝、６２・・・第２のリング状気体吸引溝、７１・・・
微細パターン、７２・・・原盤、７３・・・微細凹凸パ
ターン、７４・・・スタンパー
・・被電子ビーム照射体、４・・・被電子ビーム照射体
の支持部、５・・・電子ビーム出射孔、６・・・電子ビ
ーム照射ヘッド、１１・・・電子銃、１２・・・コンデ
ンサ電子レンズ、１３・・・電子ビーム変調手段、１４
・・・アパーチャ、１５・・・制限板、１６・・・偏向
手段、１７・・・フォーカス調整手段、１８・・・対物
電子レンズ、２０・・・通路、２１・・・ブロック、２
２・・・静圧浮上手段、２２ａ・・・リング状圧縮気体
供給路、２２ｂ・・・通気パッド、３１・・・基板、３
２・・・レジスト、４０・・・固定部、４１・・・伸縮
接合機構、５０，５１，５２・・・排気手段、５３・・
・圧縮気体供給源、６１・・・第１のリング状気体吸引
溝、６２・・・第２のリング状気体吸引溝、７１・・・
微細パターン、７２・・・原盤、７３・・・微細凹凸パ
ターン、７４・・・スタンパー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ２１Ｋ 5/00 Ｇ２１Ｋ 5/00 Ａ Ｈ０１Ｊ 37/09 Ｈ０１Ｊ 37/09 Ａ 37/30 37/30 Ａ 37/305 37/305 Ｂ (72)発明者 武田 実 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 山本 真伸 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 増原 慎 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 柏木 俊行 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 5C033 BB01 5C034 AA02 AA04 BB06 BB10 5D075 EE03 GG16 GG20 5D121 AA02 BB40
Claims (5)
- 【請求項１】 電子ビームが照射される被電子ビーム照
射体を支持する支持部と、 上記被電子ビーム照射体に対して微小間隔をもって対向
し、上記被電子ビーム照射体に電子ビームを照射する電
子ビーム出射孔を有するヘッドとを具備し、 該電子ビーム照射ヘッドに、上記電子ビーム出射孔に連
通する電子ビームの通路を中心にその周囲に、上記被電
子ビーム照射体との対向面に開口する１つ以上のリング
状気体吸引溝が形成され、 上記電子ビーム通路と上記リング状気体吸引溝には排気
手段が連結されて、上記電子ビーム通路が高真空度に保
持されるようにしたことを特徴とする電子ビーム照射装
置。 - 【請求項２】 上記リング状気体吸引溝が、上記電子ビ
ーム出射孔を中心に、２つ以上配置され、中心側に位置
するリング状気体吸引溝を、より高い排気とすることを
特徴とする請求項１に記載の電子ビーム照射装置。 - 【請求項３】 上記電子ビーム照射ヘッドの、上記被電
子ビーム照射体に対する微小間隔の保持を、静圧浮上型
構成としたことを特徴とする請求項１に記載の電子ビー
ム照射装置。 - 【請求項４】 上記電子ビーム照射ヘッドの、上記被電
子ビーム照射体に対する微小間隔の保持を、窒素もしく
は不活性ガスを用いた静圧浮上型構成としたことを特徴
とする請求項１に記載の電子ビーム照射装置。 - 【請求項５】 上記被電子ビーム照射体が、レジストが
塗布された記録媒体製造用原盤を構成する基板、あるい
はスタンパーを構成する基板、または記録媒体を構成す
る基板であることを特徴とする請求項１に記載の電子ビ
ーム照射装置。
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