JP2002260296A - 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法 - Google Patents

電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法

Info

Publication number
JP2002260296A
JP2002260296A JP2001054741A JP2001054741A JP2002260296A JP 2002260296 A JP2002260296 A JP 2002260296A JP 2001054741 A JP2001054741 A JP 2001054741A JP 2001054741 A JP2001054741 A JP 2001054741A JP 2002260296 A JP2002260296 A JP 2002260296A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
master
beam irradiation
focusing
slide table
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001054741A
Other languages
English (en)
Inventor
Jun Sasaki
純 佐々木
Yuichi Aki
祐一 安芸
Yoshihisa Miura
佳久 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2001054741A priority Critical patent/JP2002260296A/ja
Priority to GB0204332A priority patent/GB2375881B/en
Priority to US10/083,383 priority patent/US6573511B2/en
Publication of JP2002260296A publication Critical patent/JP2002260296A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00—Irradiation devices
    • G21K5/10—Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
    • H01J37/3056—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching for microworking, e.g. etching of gratings, trimming of electrical components
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/18—Vacuum control means
    • H01J2237/188—Differential pressure
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/202—Movement

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子ビームを原盤１に照射して記録を行なう
電子ビーム照射装置において、原盤１に対応した電子ビ
ームのフォーカス合わせを容易かつ正確に行なえるよう
にし、高精度な記録を可能とする。 【解決手段】 原盤１が支持される支持機構部２のスラ
イドテーブル６上に、原盤１のすぐ横に位置してフォー
カス合わせステージ３０を設ける。記録を行なうときに
は、先ずフォーカス合わせステージ３０に電子ビームを
照射してそのフォーカスを合わせ、その後に原盤１に電
子ビームを照射して記録を行なうようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は例えば光ディスクの
原盤記録に用いられる電子ビーム照射装置及び電子ビー
ム照射方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、光ディスクにおいては記録密度の
一層の高密度化が求められており、これを実現するため
には記録ピットをより微細に形成する必要がある。この
ため光ディスクの原盤の作製においては、従前のレーザ
ー光よりもさらに微細なピットを形成できる電子ビーム
を原盤に照射して記録を行なう装置が提案されている。
【０００３】この電子ビームを原盤に照射して記録行な
う装置では、高精度な記録を可能とするため、原盤に対
応して電子ビームのフォーカスを正確に合わせる必要が
ある。従来、この電子ビームのフォーカスを合わせる手
段を備えた電子ビーム照射装置としては、図６に示すよ
うなものがある。
【０００４】即ちこの装置では、真空容器４０内に反転
テーブル４１が反転機構４２によって回転可能に設けら
れており、この反転テーブル４１の一端側にモーター４
３が固定され、このモーター４３の回転軸に取り付けら
れた回転テーブル４４上に原盤４５が載置されてこの原
盤４５に電子ビーム照射手段４６から電子ビームを照射
して記録を行なうものである。
【０００５】そしてこの装置においては、反転テーブル
４１の他端部即ち反転テーブル４１の回転中心を挟んで
回転テーブル４４と反対側の端部に、電子ビームのフォ
ーカスを合わせるためのフォーカス合わせステージ４７
が設けられている。このフォーカス合わせステージ４７
は、その上面が回転テーブル４４に載置される原盤４５
と同一の高さに設定されており、原盤４５に記録を行な
うときには先ずこのフォーカス合わせステージ４７を電
子ビーム照射手段４６に対応させた状態でこのフォーカ
ス合わせステージ４７の上面に電子ビームを照射して電
子ビーム照射手段４６で電子ビームのフォーカス合わせ
を行ない、その後に反転機構４２によって反転テーブル
４１を１８０°回転（反転）させて原盤４５を電子ビー
ム照射手段４６に対応させた状態で原盤４５に電子ビー
ムを照射して記録を行なうようにする。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに構成される従来の電子ビーム照射装置では、次のよ
うな課題がある。即ちこの従来装置は、原盤とフォーカ
ス合わせステージを反転して移動させる構造であるた
め、原盤とフォーカス合わせステージとの間の距離が大
きく両者を正確に同一の高さに維持することは難しい。
従ってこの従来装置では、電子ビームのフォーカスを原
盤に対応して正確に合わせることが困難であり、高精度
な記録の実現には疑問があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するも
のとして本発明は、電子ビームが照射される原盤（被照
射体）を回転及び径方向に移動可能に支持するスライド
テーブルを有する支持機構部と、原盤上を部分的に真空
状態にして電子ビームを照射する電子ビーム照射手段
と、を有して構成される電子ビーム照射装置において、
電子ビームのフォーカスを合わせるためのフォーカス合
わせステージを、支持機構部のスライドテーブル上の原
盤に隣接する位置に固定的に配置してなるものである。
【０００８】この電子ビーム照射装置では、原盤に記録
を行なう前にフォーカスステージに電子ビームを照射し
て電子ビームのフォーカス合わせを行ない、その後にス
ライドテーブルを原盤の電子ビーム照射開始位置まで移
動させて原盤に電子ビームを照射して記録を行なう。こ
のとき本発明の電子ビーム照射装置では、原盤とフォー
カス合わせステージとの間の距離が短かいので、フォー
カス合わせステージを原盤に合わせる精度の上で有利で
あり、このため電子ビームのフォーカスを正確に合わせ
ることができ、高精度な記録が可能となる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態例について詳述する。ここでは光ディスク
の原盤記録に用いる電子ビーム照射装置を例示してあ
り、この装置は図１に示す如く、電子銃１６から出射さ
れる電子ビームｂを被照射体であるディスク原盤１に照
射して信号の記録（信号パターンの記録ピットの形成）
を行なうものである。ここで電子ビームの照射には真空
環境が必要であるが、特にこの装置では電子ビームを照
射する部分のみを真空状態とし、それ以外の部分は大気
中に置く部分真空方式が採用されている。
【００１０】先ず、この装置において原盤１を支持する
支持機構部２について説明する。装置の基台３上にはガ
イドレール４が水平に配置されてその左右両端部が固定
部５ａ，５ｂで固定されており、このガイドレール４に
スライドテーブル６が左右の脚部７ａ，７ｂに設けられ
た軸受８によって移動可能に支持されている。ここで軸
受８としては、静圧空気式軸受を用いることにより、ス
ライドテーブル６の移動時の摩擦抵抗が極端に少ない高
精度な移動機構を実現することができる。
【００１１】そしてこのスライドテーブル６には原盤１
の回転手段であるモーター９が固定されており、このモ
ーター９の回転軸に取り付けられた回転テーブル１０に
原盤１が水平に載置支持されるようになっている。
【００１２】原盤回転用のモーター９は電磁駆動型のス
ピンドルモーターが用いられており、制御回路からの制
御信号に基いてこのモーター９が駆動されることによっ
て回転テーブル１０と一体に原盤１が回転されるもので
ある。ここでこのモーター９は、回転軸の軸受に静圧空
気式軸受を用いることにより、回転時の摩擦抵抗による
負荷が少なくなって応答性のよい高精度な回転機構を実
現することができる。
【００１３】またこの装置において原盤１を回転テーブ
ル１０に固定保持するチャッキング手段としては、真空
吸着方式が採用されている。
【００１４】さらにスライドテーブル６と基台３との間
には、スライドテーブル６の移動手段であるモーター１
１が配置されている。このスライドテーブル移動用のモ
ーター１１には電磁駆動型のリニアモーターが用いられ
ており、即ちこれは基台３側の固定子１１ａとスライド
テーブル６側の移動子１１ｂとの間に例えばボイスコイ
ル型の磁気回路が構成されてなるもので、制御回路から
の制御信号に基いてこのモーター１１が駆動されること
によってスライドテーブル６がガイドレール４に沿って
水平に移動し、これと一体に原盤１がその径方向に移動
される構造となっている。
【００１５】このように構成される原盤の支持機構部２
に対しその上方には、原盤１上を部分的に真空状態にし
て電子ビームを照射する電子ビーム照射手段１３が固定
配置されている。１４は原盤１の上方で懸架支持されて
いる真空チャンバーで、この真空チャンバー１４の内部
に電子ビームコラム１５が配置され、この電子ビームコ
ラム１５の上流の電子ビーム励起源である電子銃１６か
ら電子ビームｂが出射される。
【００１６】電子ビームコラム１５が内蔵される真空チ
ャンバー１４には真空ポンプによりなる排気手段が連結
されており、この排気手段によって真空チャンバー１４
の内部を吸引することで電子ビームコラム１５内が電子
ビームの照射に支障のない程度の真空度（１×１０
-4〔Ｐａ〕程度）に保たれるようになっている。
【００１７】この真空チャンバー１４の下端部の電子ビ
ーム出口には伸縮連結機構１７を介して静圧浮上パッド
１８が取り付けられており、この静圧浮上パッド１８が
原盤１に対し５μｍ程度の僅かな隙間をもって非接触で
浮上し、その状態で電子銃１６から出射された電子ビー
ムｂが静圧浮上パッド１８の中心部の電子ビーム通路を
通って原盤１に照射される。
【００１８】図２に静圧浮上パッド１８の詳細な構造を
示す。この静電浮上パッド１８は、その中心部に電子ビ
ームｂが通る電子ビーム通路１９を有する例えば金属製
のブロック２０により構成される。このブロック２０は
ベローズ状の伸縮連結機構１７によって真空チャンバー
１４の下端の固定部１４ａに気密的に連結されており、
この伸縮連結機構１７の伸縮によりブロック２０は原盤
１に厚さムラや回転ぶれ等があってもそれに追従して確
実に５μｍ程度の隙間を維持できるようになっている。
【００１９】そしてこのブロック２０を原盤１の方向に
引きよせる力を発生させる手段としてブロック２０に
は、原盤１との対向面に開口する第１の吸引溝２１及び
第２の吸引溝２２が電子ビーム通路１９を中心とする同
心円状に形成されている。
【００２０】この第１の吸引溝２１と第２の吸引溝２２
には夫々排気管２３と２４を介して排気手段が連結され
ており、この排気手段によって第１の吸引溝２１と第２
の吸引溝２２から排気即ち気体の吸引が行なわれる如く
なされている。
【００２１】この排気手段としては真空ポンプが用いら
れ、この場合、電子ビーム通路１９に近い吸引溝ほど高
い真空度に排気できる真空ポンプを連結する。即ち、電
子ビーム通路１９に近い第１の吸引溝２１には例えば１
×１０-1〔Ｐａ〕程度の真空度が得られる真空ポンプを
連結し、これより外側の第２の吸引溝２２には５×１０
3 〔Ｐａ〕程度の真空度が得られる真空ポンプを連結す
る。
【００２２】さらにブロック２０には、第２の吸引溝２
２の外側において原盤１との対向面に露出する通気体２
５が埋め込まれている。この通気体２５は通気性を有す
る多孔質の材料を用いて電子ビーム通路１９を中心とす
るリング状に形成されており、この通気体２５の裏側に
おいてブロック２０の内部には気体の流路２６が形成さ
れている。
【００２３】この流路２６には給気管２７を介して給気
手段が連結されており、この給気手段から流路２６に例
えば５×１０5 〔Ｐａ〕程度の圧縮気体（正圧）が供給
され、これが通気体２５から噴出されるようになってい
る。
【００２４】このように構成される静圧浮上パッド１８
を原盤１の上に載せた状態で各排気手段及び給気手段を
作動させると、通気体２５から噴出される気体によって
静圧浮上パッド１８が原盤１から僅かに浮き上がり、同
時に第１及び第２の吸引溝２１及び２２から気体が吸引
されて溝内が負圧となることによって静圧浮上パッド１
８が原盤１に吸い付くように作用し、このため静圧浮上
パッド１８は原盤１に対し５μｍ程度の隙間ｄを保ちな
がら非接触で浮上する状態となるので、原盤１の回転に
は支障がない。
【００２５】このとき通気体２５から噴出される気体
は、その周囲に形成されている第１及び第２の吸引溝２
１及び２２で吸引されることにより電子ビーム通路１９
に至ることが回避され、この場合、通気体２５からの気
体は先ず第２の吸引溝２２で吸引され、さらに第１の吸
引溝２１で吸引されることになり、ここで第１の吸引溝
２１での吸引力は第２の吸引溝２２より強くなっている
ため、静圧浮上パッド１８の中心部にいくほど真空度を
高くでき、これによって真空チャンバー１４の内部即ち
電子ビームコラム１５内を電子ビームの照射に支障のな
い程度の真空度（１×１０-4〔Ｐａ〕程度）に保つこと
ができるものである。
【００２６】そしてこの静圧浮上パッド１８によって原
盤１上の一部分を真空にした状態で原盤１に電子ビーム
ｂが照射され、同時に支持機構部２のモーター９の駆動
により原盤１が回転されると共にモーター１１の駆動に
よって原盤１が径方向に移動されることで所定のトラッ
クに記録が行なわれる。
【００２７】上記の如く構成される電子ビーム照射装置
では、電子ビームを照射する部分のみを真空とする部分
真空方式を採用したことにより、大きな空間の真空保持
を必要とせず、このため大型の排気手段（真空ポンプ）
の使用を回避でき、小型で廉価に装置を構成することが
できる。
【００２８】ところで、この電子ビーム照射装置におい
ては、高精度の記録を可能とするために、原盤に対応し
て電子ビームのフォーカスを正確に合わせる必要があ
る。この電子ビームのフォーカスを合わせるための手段
として特に本例の電子ビーム照射装置では、図１に示す
如く原盤１を支持する支持機構部２のスライドテーブル
６の上にフォーカス合わせステージ３０を固定的に配置
してある。
【００２９】このフォーカス合わせステージ３０は、ス
ライドテーブル６の上で回転テーブル１０に載置される
原盤１に対しスライドテーブル６の移動方向に僅かの隙
間をもって隣接する位置、即ち本例では原盤１のすぐ右
横となる位置に固定されているもので、その上面が電子
ビーム照射面となされており、この電子ビーム照射面に
は電子ビームのフォーカス合わせに用いる微細な模様が
形成されている。この模様としては、図３に示すような
格子状のパターンが好適に用いられる。
【００３０】またこのフォーカス合わせステージ３０に
は、電子ビーム照射面の高さを調整するための高さ調整
手段が設けられている。この高さ調整手段としては、気
体あるいは流体による圧力を利用した伸縮機構や、ピエ
ゾ素子の通電による伸縮を利用した伸縮機構等が考えら
れるが、特に前者の場合はフォーカス合わせステージ内
での電磁場の発生がなく電子ビームの照射に悪影響を与
えないので、好適に採用することができる。
【００３１】その具体例を図４に示す。即ちこの場合、
フォーカス合わせステージ３０は密閉状のドラム型ベロ
ーズ３１によりなり、このベローズ３１はその周面の可
撓部３１ａにおいて上下方向に伸縮する構造となされて
いる。そしてこのベローズ３１には導管３２を介して外
部の加圧手段（ポンプ等）が連結されており、この加圧
手段から気体あるいは流体による圧力がベローズ３１の
内部に供給されることによってベローズ３１が伸縮し、
フォーカス合わせステージ３０の高さ調整が行なわれる
ものである。
【００３２】図５はベローズを３個用いたフォーカス合
わせステージの例であり、即ちこの例のフォーカス合わ
せステージ３０は、電子ビームが照射される上面板３０
ａを３角状に配置した３個のベローズ３１で支持する構
造となっている。この３個のベローズ３１には夫々独立
して加圧手段から気体あるいは流体による圧力が供給さ
れるようになっており、この３個のベローズ３１に夫々
供給される圧力に差を持たせて各ベローズ３１の伸縮率
を変えることで上面板３０ａをあらゆる方向に傾斜させ
ることができ、これによってフォーカス合わせステージ
３０の傾斜調整をも可能としたものである。
【００３３】さらに本例の電子ビーム照射装置において
は、支持機構部２の原盤１及びフォーカス合わせステー
ジ３０に対応して電子ビーム照射手段１３側に測定手段
３３が設けられている。
【００３４】この測定手段３３は原盤１とフォーカス合
わせステージ３０の高さを測定するためのもので、これ
が電子ビーム照射手段１３の真空チャンバー１４の外壁
面に固定されている。この測定手段としては、静電容量
型センサー、エアーマイクロメーター、レーザー測定器
等の高精度測定器が使用される。
【００３５】続いて、以上の如く構成される電子ビーム
のフォーカス合わせ手段を備えた本例の電子ビーム照射
装置における動作の流れを説明する。
【００３６】この装置では先ずはじめに、モーター１１
の駆動によってスライドテーブル６を図１において左側
に移動させ、そこで原盤１を回転テーブル１０の上にセ
ットし、チャッキング手段によって固定する。尚、ここ
で本例の電子ビーム照射装置は部分真空方式であるた
め、原盤のチャッキング手段として真空吸着方式を用い
ることができるので、原盤１の平面度を維持し易い。
【００３７】次にスライドテーブル６を右方向に移動さ
せながら測定手段３３によって原盤１の上面の高さを測
定し、それからスライドテーブル６を左方向に移動させ
て測定手段３３でフォーカス合わせステージ３０の高さ
を測定しながらフォーカス合わせステージ３０の高さを
原盤１の上面と同じ高さになるように調整する。
【００３８】そしてスライドテーブル６をさらに左方向
に移動させてフォーカス合わせステージ３０を電子ビー
ム照射部に対応させ、そこでフォーカス合わせステージ
３０に電子ビームを照射して電子ビームのフォーカスを
合わせる。
【００３９】この電子ビームのフォーカス合わせ作業
は、電子ビーム照射手段１３の電子銃１６に接続される
モニターを見ながら行なうものであり、即ちこのモニタ
ーにはフォーカス合わせステージ３０の電子ビーム照射
面に形成された格子パターン等の微細な模様（図３参
照）が映し出され、作業者はこの模様を見ながらそのフ
ォーカスが合うように電子銃１６を調整する。
【００４０】この電子ビームのフォーカス合わせが完了
した後、スライドテーブル６を原盤の電子ビーム照射開
始位置まで移動させ、そこで電子ビームの照射による記
録を開始する。この場合、電子ビームの照射と同時にモ
ーター９の駆動により原盤１が回転されると共にモータ
ー１１の駆動により原盤１が径方向に移動されることで
所定のトラックに記録が行なわれる。
【００４１】そしてこの記録が終了した後は、スライド
テーブル６を左側に移動させ、そこで回転テーブル１０
における真空吸着による原盤１の固定を解除して原盤１
を取り出すようにする。
【００４２】このように本例の電子ビーム照射装置で
は、電子ビームのフォーカス合わせを容易に行なうこと
ができる。そして特にこの電子ビーム照射装置において
は、電子ビームのフォーカス合わせを行なうフォーカス
合わせステージ３０はスライドテーブル６上の原盤１の
すぐ横に配置してあり、原盤１との間の距離が短かいた
め、フォーカス合わせステージ３０を原盤１と同一の高
さに合わせる精度の上で有利である。従ってこの電子ビ
ーム照射装置では、電子ビームのフォーカスを原盤１に
対応してより正確に合わせることができ、高精度な記録
が可能となるものである。
【００４３】以上、本発明の実施の形態の一例について
説明したが、本発明はこの例に限ることなく他にも種々
の実施の形態を採り得るものであることは言うまでもな
い。
【００４４】
【発明の効果】以上の説明で明らかな如く本発明は、電
子ビームを照射する部分のみを真空状態とする部分真空
方式の電子ビーム照射装置において、被照射体が支持さ
れるスライドテーブル上の被照射体と隣接する位置にフ
ォーカス合わせステージを設けたことにより、被照射体
に対応した電子ビームのフォーカス合わせを容易かつ正
確に行なうことができ、その結果高精度な記録を実現で
きるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される部分真空方式の電子ビーム
照射装置を示す正面図である。
【図２】電子ビーム照射装置に備えられる静圧浮上パッ
ドの構造を示す縦断面図である。
【図３】フォーカス合わせステージに形成される微細パ
ターンを示す図である。
【図４】フォーカス合わせステージの構造を示す縦断面
図である。
【図５】フォーカス合わせステージの他の例の構造を示
す図で、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は側面図である。
【図６】従来例の説明図である。
【符号の説明】
１‥‥原盤（被照射体）、２‥‥支持機構部、６‥‥ス
ライドテーブル、１３‥‥電子ビーム照射手段、１４‥
‥真空チャンバー、１５‥‥電子ビームコラム、１６‥
‥電子銃、１８‥‥静圧浮上パッド、３０‥‥フォーカ
ス合わせステージ、３１‥‥ベローズ、３３‥‥測定手
段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 佳久 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 2H097 AA03 BA01 BB04 CA16 KA28 KA38 LA20 5D121 BB21 BB38

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電子ビームが照射される被照射体を回転
    及び径方向に移動可能に支持するスライドテーブルを有
    する支持機構部と、 上記被照射体上を部分的に真空状態にして電子ビームを
    照射する電子ビーム照射手段と、 を有して構成される電子ビーム照射装置において、 電子ビームのフォーカスを合わせるためのフォーカス合
    わせステージを、上記支持機構部のスライドテーブル上
    の上記被照射体に隣接する位置に固定的に配置したこと
    を特徴とする電子ビーム照射装置。
  2. 【請求項２】 上記フォーカス合わせステージの電子ビ
    ーム照射面には格子パターンの微細模様が形成されてい
    ることを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム照射装
    置。
  3. 【請求項３】 上記フォーカス合わせステージには、上
    記被照射体の厚みに合わせて電子ビーム照射面の高さを
    調整する高さ調整手段が設けられていることを特徴とす
    る請求項１に記載の電子ビーム照射装置。
  4. 【請求項４】 上記高さ調整手段には、気体あるいは流
    体による圧力を利用して伸縮する伸縮機構が用いられて
    いることを特徴とする請求項３に記載の電子ビーム照射
    装置。
  5. 【請求項５】 上記電子ビーム照射手段側に、上記被照
    射体と上記フォーカス合わせステージの高さを測定する
    測定手段が設けられていることを特徴とする請求項１に
    記載の電子ビーム照射装置。
  6. 【請求項６】 電子ビームが照射される被照射体を回転
    及び径方向に移動可能に支持するスライドテーブルを有
    する支持機構部と、 上記被照射体上を部分的に真空状態にして電子ビームを
    照射する電子ビーム照射手段と、 を有して構成される電子ビーム照射装置を用い、 上記支持機構部のスライドテーブル上の上記被照射体に
    隣接する位置に固定的に配置されたフォーカス合わせス
    テージに電子ビームを照射して電子ビームのフォーカス
    を合わせ、その後に上記スライドテーブルを移動させて
    上記被照射体に電子ビームを照射するようにした電子ビ
    ーム照射方法。
JP2001054741A 2001-02-28 2001-02-28 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法 Pending JP2002260296A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001054741A JP2002260296A (ja) 2001-02-28 2001-02-28 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法
GB0204332A GB2375881B (en) 2001-02-28 2002-02-25 Electron beam irradiation system and electron beam irradiation method
US10/083,383 US6573511B2 (en) 2001-02-28 2002-02-27 Electron beam irradiation system and electron beam irradiation method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001054741A JP2002260296A (ja) 2001-02-28 2001-02-28 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002260296A true JP2002260296A (ja) 2002-09-13

Family

ID=18915027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001054741A Pending JP2002260296A (ja) 2001-02-28 2001-02-28 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6573511B2 (ja)
JP (1) JP2002260296A (ja)
GB (1) GB2375881B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3984019B2 (ja) * 2001-10-15 2007-09-26 パイオニア株式会社 電子ビーム装置及び電子ビーム調整方法
JP2003217500A (ja) * 2002-01-21 2003-07-31 Sony Corp 走査型電子顕微鏡を用いた検査装置
JP2003249188A (ja) * 2002-02-26 2003-09-05 Jeol Ltd 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法
WO2006023595A2 (en) 2004-08-18 2006-03-02 New Way Machine Components, Inc. Moving vacuum chamber stage with air bearing and differentially pumped grooves
JP6363864B2 (ja) * 2014-04-16 2018-07-25 株式会社ニューフレアテクノロジー 電子ビーム描画装置、及び電子ビームの収束半角調整方法
JP6310864B2 (ja) * 2015-01-13 2018-04-11 株式会社日立ハイテクノロジーズ 検査装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4033904A (en) * 1974-03-22 1977-07-05 Varian Associates, Inc. Interchangeable specimen trays and apparatus for a vacuum type testing system
DE3008404C2 (de) * 1980-03-05 1984-07-19 Helmut 8046 Garching Formanek Verfahren und Einrichtung zum Erzeugen von Elektronenstrahl-Beugungsbildern
JPH0458517A (ja) * 1990-06-28 1992-02-25 Seiko Epson Corp 電子線露光装置
JPH04359506A (ja) * 1991-06-06 1992-12-11 Fujitsu Ltd 電子ビーム露光方法及び装置
JP3120474B2 (ja) * 1991-06-10 2000-12-25 株式会社日立製作所 半導体集積回路装置の製造方法
US5378984A (en) * 1992-01-20 1995-01-03 Advantest Corporation EB type IC tester
JP3342584B2 (ja) * 1994-08-18 2002-11-11 富士通株式会社 Ｘ−ｙステージ及びこれを有する荷電粒子ビーム露光装置
US5646403A (en) * 1994-10-28 1997-07-08 Nikon Corporation Scanning electron microscope
JPH09293477A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Toshiba Corp 荷電ビームの調整方法
AU1691899A (en) * 1997-12-26 1999-07-19 Nikon Corporation Exposure apparatus, method of producing the apparatus, and exposure method, and device and method of manufacturing the device
JPH11328750A (ja) * 1998-03-12 1999-11-30 Sony Corp 電子ビームを用いた露光装置及び原盤並びに情報記録媒体
US6366688B1 (en) * 1998-06-13 2002-04-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for contact failure inspection in semiconductor devices
US6476913B1 (en) * 1998-11-30 2002-11-05 Hitachi, Ltd. Inspection method, apparatus and system for circuit pattern
JP2001242300A (ja) * 2000-03-02 2001-09-07 Sony Corp 電子ビーム照射装置
WO2002001597A1 (fr) * 2000-06-27 2002-01-03 Ebara Corporation Appareil d'inspection a faisceau de particules chargees et procede de fabrication d'un dispositif utilisant cet appareil d'inspection
WO2002013227A1 (fr) * 2000-07-27 2002-02-14 Ebara Corporation Appareil d'analyse a faisceau plan
US6992290B2 (en) * 2001-01-10 2006-01-31 Ebara Corporation Electron beam inspection system and inspection method and method of manufacturing devices using the system

Also Published As

Publication number Publication date
GB0204332D0 (en) 2002-04-10
GB2375881A (en) 2002-11-27
US20020117636A1 (en) 2002-08-29
US6573511B2 (en) 2003-06-03
GB2375881B (en) 2003-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1152417A2 (en) Electron beam irradiation apparatus, electron beam irradiation method, original disk, stamper, and recording medium
US7648354B2 (en) Transfer apparatus having gimbal mechanism and transfer method using the transfer apparatus
JP2004349645A (ja) 液浸差動排液静圧浮上パッド、原盤露光装置および液侵差動排液による露光方法
JP2002260296A (ja) 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法
JP5240647B2 (ja) シール機構、ステージ装置、及び電子線描画装置
JP4028255B2 (ja) 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法
US6649859B2 (en) Electron beam irradiation system and electron beam irradiation method
JP4701008B2 (ja) ジンバル機構を備えた転写装置
JP2003249188A (ja) 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法
JP4062956B2 (ja) 検出装置、検出方法および電子ビーム照射装置
JPS5990926A (ja) 局部的真空エンベロプを組み込んだ荷電粒子ビ−ムリソグラフイ装置
JP2002319538A (ja) エアーベアリング装置
JP4732801B2 (ja) ジンバル機構を備えた転写装置及び同装置を用いた転写方法
JP2004258379A (ja) 電子ビームフォーカス制御装置、電子ビーム照射ヘッドの姿勢制御装置、電子ビームフォーカス制御方法および電子ビーム照射ヘッドの姿勢制御方法
JP2002260295A (ja) 電子ビーム照射装置
JPH10163300A (ja) ステージ装置
JP3994759B2 (ja) 位置制御装置、位置制御方法および電子ビーム照射装置
JP4886984B2 (ja) 電子線描画装置
JP2003242923A (ja) 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法
JP2005031147A (ja) 電子ビームフォーカス制御装置、電子ビーム照射ヘッドの姿勢制御装置、電子ビームフォーカス制御方法および電子ビーム照射ヘッドの姿勢制御方法
JP2003249187A (ja) 真空装置及び真空装置における真空維持方法
JP2012128039A (ja) 露光装置
JP2004246953A (ja) 位置制御装置、位置制御方法および電子ビーム照射装置
JP2004281141A (ja) 電子ビーム照射装置および電子ビーム照射方法
JP2002222749A (ja) 電子ビーム照射方法と電子ビーム照射装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080215

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090324

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090511

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100223