JP5240647B2 - シール機構、ステージ装置、及び電子線描画装置 - Google Patents
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Description
=S2・(P2−P1)−S3・(P3−P1)
=(S3−S2)・P1−(S3・P3−S2・P2) …(1)
F3=A・P1−B …(2)
《変形例》
=S2・P2−S2・P1−S3・P3+S3・P1
=(S2・P2−S2・P1+S3・P1)−S3・P3…(3)
F3=A’−B’.P3…(4)
Claims (14)
- 真空チャンバと、前記真空チャンバの内部に引き込まれた移動体との間の気密を維持するシール機構であって、
前記真空チャンバの内部に配置される一側と、前記真空チャンバの外部に配置される他側に、前記移動体が貫通する開口が形成された中空部材と;
前記移動体を保持して前記中空部材の内部を摺動する摺動部材と;
前記移動体を包囲した状態で、一端が前記摺動部材の一端面の第1部分を包囲するように固定され、他端が前記中空部材の一側に前記開口を包囲するように固定された、前記摺動部材の摺動方向へ伸縮する第1ベローズと;
前記移動体を包囲した状態で、一端が前記中空部材の他側に前記開口を包囲するように固定され、他端が前記摺動部材の他端面の前記第1部分よりも面積が大きい第2部分を包囲するように固定された、前記摺動部材の摺動方向へ伸縮する第2ベローズと;
前記中空部材の内部の圧力を調整する調圧装置と:を有するシール機構。 - 前記調圧装置は、前記中空部材の内部のうち、前記第1ベローズ及び前記第2ベローズの外部の空間の圧力、又は前記第2ベローズの内部の空間の圧力を調整することを特徴とする請求項1に記載のシール機構。
- 前記調圧装置は、前記第1ベローズ、及び前記第2ベローズの復元力の差をキャンセルするように、前記中空部材の内部の圧力を調整することを特徴とする請求項1又は2に記載のシール機構。
- 前記摺動部材と前記中空部材とは、ガイド機構を構成していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のシール機構。
- 前記中空部材は前記摺動部材を摺動可能に保持する静圧軸受であり、
前記静圧軸受へ空気を供給する空気供給装置を更に備えることを特徴とする請求項4に記載のシール機構。 - 前記中空部材には、前記摺動部材の移動範囲の中央位置又はその近傍に、前記空気を吐出する孔が形成されていることを特徴とする請求項5に記載のシール機構。
- 前記調圧装置は、レギュレータを含んで構成され、該レギュレータを用いて、前記中空部材の内部の圧力を調整することを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のシール機構。
- 真空チャンバ内で基板を移動するステージ装置であって、
前記真空チャンバ内で前記基板を鉛直軸回りに回転可能に保持する保持装置と;
前記保持装置を水平面内で移動する移動ステージと;
前記真空チャンバに設けられた請求項1〜7のいずれか一項に記載のシール機構と;
一端が保持装置に接続され他端が前記真空チャンバの外部に引き出されるとともに、前記シール機構の摺動部材に移動可能に支持される中空シャフトと;
前記中空シャフトを、前記移動ステージに追従して移動させる移動機構と;を備えるステージ装置。 - 前記保持装置の信号線は、前記中空シャフトを介して供給されることを特徴とする請求項8に記載のステージ装置。
- 前記保持装置の電源は、前記真空チャンバの外部から前記中空シャフトの内部に配線された電線を介して供給されることを特徴とする請求項8又は9に記載のステージ装置。
- 前記保持装置の駆動エアは、前記真空チャンバの外部から前記中空シャフトの内部に配管された管路を介して供給されるとともに排気されることを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記中空シャフトは、伸縮自在な連結部材を介して、前記保持装置へ連結されていることを特徴とする請求項8〜11のいずれか一項に記載のステージ装置。
- 前記移動機構は、
前記真空チャンバの外部に設けられ、前記中空シャフトを移動させる駆動機構と;
前記中空シャフトの位置を検出する位置検出装置と;
前記位置検出装置の検出結果に基づいて、前記移動ステージとの相対位置を算出する演算装置と;
前記演算装置の演算結果に基づいて、前記中空シャフトが前記移動ステージに追従して移動するように、前記駆動機構を制御する制御装置と;を備える請求項8〜12のいずれか一項に記載のステージ装置。 - 基板にパターンを描画する電子線描画装置であって、
請求項8〜13のいずれか一項に記載のステージ装置と;
前記ステージ装置に載置された基板に電子線を照射する電子線照射装置と;を備える電子線描画装置。
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JPH0745874Y2 (ja) * | 1987-02-13 | 1995-10-18 | 株式会社島津製作所 | 材料試験機 |
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JP2004214527A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Nikon Corp | 差圧キャンセルベローズユニット及び露光装置 |
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