JP2008146890A - 照射ヘッド及びこれを備えた電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【課題】電子顕微鏡の分解能を高めるのに対物レンズと試料との間隙を微小にする方法がある。局所真空技術を用いた電子顕微鏡の場合、局所的に真空領域を作り出すには、その照射ヘッドにおいて対物レンズと試料の間に静圧浮上の機構と、差動排気の機構を組み込む必要がある。しかし、静圧浮上の機構と、差動排気の機構を組み込むと、対物レンズと試料の間隙を狭くすることが難しくなる。
【解決手段】照射ヘッド50の対物レンズ5と静圧機構18とを一体化して固定した。差動排気機構19を対物レンズ内の中空部内に配置し、傾動可能に取り付け、試料の凹凸やブレに対して差動排気の機構が追従可能とした。また、試料を対物レンズに対して倣わせる試料側の倣い機構を採用した。局所真空技術を用いた電子顕微鏡の対物レンズと試料との間隙を微小にして分解能を向上させることができた。
【選択図】図3
【解決手段】照射ヘッド50の対物レンズ5と静圧機構18とを一体化して固定した。差動排気機構19を対物レンズ内の中空部内に配置し、傾動可能に取り付け、試料の凹凸やブレに対して差動排気の機構が追従可能とした。また、試料を対物レンズに対して倣わせる試料側の倣い機構を採用した。局所真空技術を用いた電子顕微鏡の対物レンズと試料との間隙を微小にして分解能を向上させることができた。
【選択図】図3
Description
本発明は、局所真空技術を用いた電子顕微鏡に関する。さらに詳しくは、電子顕微鏡の照射ヘッドの対物レンズと局所真空機構の静圧機構を一体構造とすることにより、対物レンズと試料の間隙を微小にすることを可能にして電子顕微鏡の分解能を上げることを可能とする照射ヘッド、及びこれを備えた電子顕微鏡に関する。
今日、半導体デバイスの高集積化、微細化が進んでいる。それに伴い、半導体デバイスの動作解析、故障解析の手段として、従来の光学顕微鏡の分解能では観察が困難になってきている。そこで、光学方式に代わり走査型電子顕微鏡(SEM:Sccanning Electron Microscope)による解析方法が有効な手段として注目されている。
走査型電子顕微鏡では、極めて細い電子ビームを用いるため凹凸の激しい試料の表面であっても、ほぼ全面で焦点が合い、臨場感にあふれたミクロの世界が観察できる。
この走査型電子顕微鏡においては、電子ビームが気体分子と衝突して散乱されることが無いように真空環境下での電子ビーム照射が必要になる。
そこで、走査型電子顕微鏡の電子の経路を高真空にする方法としては、試料と鏡筒の一部を真空チャンバーに入れてしまう方法(特許文献1参照)と、試料は大気中に設置して電子が試料に照射する部分と鏡筒内を高真空に維持する方法(特許文献2参照)がある。
今後、観察対象の試料の外形が大きくなって行くなかで、後者の局所真空を維持する方法は大きな真空チャンバーを必要としなくなるため安価な構造とすることが可能になる。
そこで、従来の局所真空を用いた走査型電子顕微鏡を説明する。図6に従来の走査型電子顕微鏡を示す。また、図7に概略図を示す。この装置は、図7に示す如く、電子ビームカラム9の電子銃1から射出される電子ビームbを被照射体である試料6に照射し、試料6の表面から2次電子を放出させ、検出器3で受けて観測を行うものである。
すなわち、走査型電子顕微鏡は、大別して真空容器である電子ビームカラム9と、この電子ビームカラム9に対して連結された照射ヘッド70から構成される。照射ヘッド70に対して、試料6の支持手段73が配設されている。なお、真空チャンバー8を有する。また、試料6は、支持手段73の試料チャック7により載置保持されている。
電子ビームカラム9には、電ビームの照射源である電子銃1と、これにより放出される電子ビームを収束するコンデンサレンズ2と、2次電子の検出器3と、2次電子の偏向器3aと、電子ビームの走査コイル4と、対物レンズ75が配設されている。
電子銃1から射出される電子ビームbを、コンデンサレンズ2で絞り、走査コイル4によってラスター走査させ、対物レンズ75を通して試料6に照射する。これにより、試料6の表面から2次電子を放出させる。放出された2次電子は、対物レンズ75通して電子ビームカラム9内に入り、偏向器3aによって検出器3へ導かれる。この検出器3の出力から試料6の表面の観測映像を得るというものである。
図6の基台12は、この装置の基台であり、この基台12上には試料6を支持する試料支持手段73が構成されている。この試料支持手段73は、基台12上に水平に配置固定されるガイドレール54と、このガイドレール54に沿って水平の一軸方向に移動可能に支持されるスライドテーブル55とを有し、このスライドテーブル55に試料6の回転手段であるスピンドルモータ56が搭載されており、このスピンドルモータ56の回転軸に取り付けられた試料チャック7の上面に試料6が載置支持される。
試料チャック7に載置された試料6は、試料チャック7と一体に回転されるようになっている。
スライドテーブル55と基台12との間には、特に図示されない駆動手段が設けられており、水平方向への移動が可能になっている。
このように構成される試料6の試料支持手段73に対し、その上方には、試料6上を部分的に真空状態にして電子ビームを照射する局所真空機構70が配置されている。
基台12上には垂直の支持柱11aと水平の天板11bによりなる支持構造体11が構成されており、この支持構造体11の天板11bに電子ビーム照射手段である電子ビームカラム9が垂直に載置支持されている。さらに天板11bには真空チャンバー8が懸架支持されており、この真空チャンバー8に電子ビームカラム9の先端部が内蔵される形となっている。
電子ビームカラム9と真空チャンバー8には夫々排気管14a、14bを介して特に図示しない真空ポンプによりなる排気手段が連結されており、この排気手段によって電子ビームカラム9と真空チャンバー8の内部を排気して電子ビームの照射に支障のない真空度を保つようにしてある。
真空チャンバー8の下端部の電子ビーム出口には、伸縮連結機構である局所真空機構側倣い機構90を介して局所真空機構70が取り付けられており、この局所真空機構70が試料に対して5μm程度の僅かな間隙をもって非接触で吸着し、その状態で電子ビームカラム9の上端の電子銃1から出射された電子ビームが、局所真空機構70の中心部の電子ビーム出射孔を通って試料6に照射される。
図8にこの局所真空機構70の詳細な構造を示す。この局所真空機構70は、その中心部に電子ビームが通る電子ビーム出射孔81を有するブロック80により構成される。このブロック80は二重ベローズ構造の局所真空機構側倣い機構90によって真空チャンバー8下端の開口8aに気密的に連結されており、この局所真空機構側倣い機構90の伸縮によりブロック80は試料6に厚さムラや回転ぶれ等があってもそれに追従して確実に5μm程度の間隙を維持できるようになっている。
そしてこのブロック80を試料6の方向に引き寄せる力を発生させる手段としてブロック80には、試料6との対向面に開口する第1の差動排気用真空溝83aと第2の差動排気用真空溝83bが設けられている。この第1の差動排気用真空溝83aと第2の差動排気用真空溝83bは、試料6との対向面から見て電子ビーム出射孔81を中心とする同心円状に形成されているもので、この第1の差動排気用真空溝83aと第2の差動排気用真空溝83bには夫々排気管15aと15bを介して特に図示しない排気手段が連結され、この排気手段によって第1の差動排気用真空溝83aと第2の差動排気用真空溝83bから排気すなわち気体の吸引が行われている。
この排気手段としては真空ポンプが用いられ、ここで電子ビーム出射孔81に近い第1の差動排気用真空溝83aには、これより外側の第2の差動排気用真空溝83bよりも高い真空度に排気できる真空ポンプを連結し、第2の差動排気用真空溝83bよりも強くなるように設定する。
さらにブロック80には、第2の差動排気用真空溝83bの外側において試料6との対向面に露出する浮上用多孔質82が埋め込まれている。この浮上用多孔質82は通気性を有する多孔質の固体材料によりなるもので、試料6との対向面から見て電子ビーム出射孔81を中心とするリング状に形成されており、この浮上用多孔質82の裏側においてブロック80の内部には気体の流路87が形成されている。
この流路87には特に図示しない給気手段が連結されており、この給気手段から流路87に圧縮気体(正圧)が供給され、これが浮上用多孔質材82から試料6に向けて噴出されるようになっている。
このように構成される局所真空機構70を試料6の上に載せた状態で各排気手段及び吸気手段を作動させると、浮上用多孔質材料82から噴出される気体によって局所真空機構70が試料6から僅かに浮き上がり、同時に第1の差動排気用真空溝83aと第2の差動排気用真空溝83bから気体が吸引されて溝内が負圧となることによって局所真空機構70が試料6に吸い付くように作用し、このため局所真空機構70は試料6に対し5μm程度の僅かな間隙を保ちながら非接触で浮上する状態となるので、試料6の水平移動や回転には支障がない。
このとき浮上用多孔質82から噴出される気体は、その周囲に形成されている第1の差動排気用真空溝83aと第2の差動排気用真空溝83bで吸引されることにより電子ビーム出射孔81に至ることが回避され、この場合、浮上用多孔質82からの気体は先ず第2の差動排気用真空溝83bで吸引され、さらに第1の差動排気用真空溝83aで吸引されることになり、ここで第1の差動排気用真空溝83aでの吸引力は第2の差動排気用真空溝83bの吸引力より強くなっているため、浮上用多孔質の中心部に行くほど真空度を高くでき、これによって真空チャンバー8の内部を電子ビームの照射に支障のない真空度に保つことができるというものである。
なお、図7、図8に示す符号75は、真空チャンバー8に内蔵される電子ビームカラム9の先端に取り付けられた対物レンズであり、電子ビームカラム9の電子銃1から発せられた電子は電子ビーム通路76を通ってこの対物レンズ75の先端から出射され、局所真空機構70の電子ビーム出射孔81を通って試料の表面に照射される。この対物レンズ75においては、電子ビーム通路76の周りに電磁コイル75aが配されており、この電磁コイル75aによって電子ビームが収束されて試料6の表面にビームスポットを形成する。
以上が、従来の局所真空を用いた走査電子顕微鏡である。真空チャンバー8は電子ビームカラム9の電子ビーム出射側の一部を覆うだけの小さなものとなっている。このような小型の真空チャンバーでも、局所真空機構により高い真空度(5×10-3Pa)を維持することが可能であった。
ここで、走査電子顕微鏡の分解能の向上について検討する。走査電子顕微鏡の分解能は、電子ビームのスポット径によって決まるが、このビームスポット径を小さくする、対物レンズと試料との間隙を小さくする方法が良く使われている。
今後、観察対象の試料の微細化もさらに進むと考えられる。そこで、走査型電子顕微鏡の分解能を高めるために、対物レンズと試料との間隙をさらに微小にする必要があると考えられる。
しかし、局所的に真空領域を作り出す機構を採用した場合、対物レンズと試料の間に差動排気の機構を組み込むため、対物レンズと試料の間隙を微小にすると差動排気の機構を組み込むことが難しくなる。
また、走査型電子顕微鏡の分解能を高めるには対物レンズの焦点がずれないように、対物レンズと試料の観察位置との間が一定に保持されていることが望ましいと考えられる。
しかし、対物レンズと試料の間隙を微小にすると差動排気の機構を組み込む都合で、対物レンズと試料の観察位置との間を固定するのが難しくなる。
また、走査電子顕微鏡の分解能を高めるためには、維持できる真空度は高いほど良い。
しかし、局所的に真空領域を作り出す機構として、浮上の機構と吸着の機構を組み込むために一定の大きさが必要であり、対物レンズと試料の間に配置するのが難しかった。
上記で説明した従来の走査型電子顕微鏡の例において、図8に示すように、局所真空機構70は対物レンズ75と別構造となっており、真空チャンバー8に局所真空機構側倣い機構90を介して連結され、対物レンズ75と試料6との間に配置されている。局所真空機構70は、真空を維持するために差動の原理で真空圧を内側にいけば行くほど高くなる真空の溝83a、83bを有する。その一方で、試料6から局所真空機構70を浮かすための空気を噴出させる浮上用多孔質82を有している。
従来の局所真空機構70はこの両方の機構が一体構造となっており、対物レンズ5と試料6の厚み公差を吸収するために局所真空機構70が試料6上面に倣うように、真空チャンバー8に倣い機構90を介して連結する構造としたものものであった。
このような装置では、試料に対する電子ビーム出射孔81に連通する電子ビームの通路76を排気してこの電子ビーム通路76を真空に保持するものであるが、この電子ビーム出射孔81の周囲に、リング状の気体吸引溝83a、83bを設けて、ここから、局所真空機構70と、試料6との間の、特に電子ビーム出射孔81近傍の気体を排除する構成としたことによって、電子ビーム出射孔81に入り込む気体と、この電子ビーム出射孔81から出た電子ビームの経路すなわち試料との間の空間の気体を有効に排除することができる(特許文献2参照)。
しかし、電子顕微鏡の分解能を更に上げるためには対物レンズと試料の間隙をさらに微小にする方向に進むため、上記従来の局所的に真空領域を作り出す機構が成り立たなくなってきた。
また、走査型電子顕微鏡の分解能を上げると被写界深度が狭くなるため、試料の厚み公差が大きいと試料交換のたびに焦点合わせが必要になってくる。
課題を解決するために、照射ヘッドの高真空を維持するために気体を吸引して試料を非接触で吸着する差動排気機構と、局所真空機構を浮上させるために気体を噴出する静圧機構を別構造とし、静圧機構と対物レンズとを一体構造にすることにより対物レンズと試料との間隙が微小であっても局所的な真空領域が作れる構造とする。
すなわち、対物レンズと試料の間隙を狭くして局所真空機構を配置するために、
(1)局所真空機構を静圧機構と差動排気機構に分離して構成し、対物レンズと静圧機構を一体構造にする。
(2)試料が局所真空機構に倣う構造にする。
(3)局所真空機構を、静圧機構と差動排気機構に分離して構成し、静圧機構に対して差動排気機構を傾動可能に取り付ける。
(1)局所真空機構を静圧機構と差動排気機構に分離して構成し、対物レンズと静圧機構を一体構造にする。
(2)試料が局所真空機構に倣う構造にする。
(3)局所真空機構を、静圧機構と差動排気機構に分離して構成し、静圧機構に対して差動排気機構を傾動可能に取り付ける。
これにより、試料を局部真空機構の全体の面積の内の極めて小さい部分である差動排気機構に倣わすことになるため、一定の間隙としやすく、従来の差動排気機構より高真空を実現できる照射ヘッドとなる。
その結果、従来よりも試料に対して近接し、かつ高真空とすることができる局所真空機構を実現し、これを用いて高分解能の電子顕微鏡を得ることができる。
以上により、課題を解決することができる。
その結果、従来よりも試料に対して近接し、かつ高真空とすることができる局所真空機構を実現し、これを用いて高分解能の電子顕微鏡を得ることができる。
以上により、課題を解決することができる。
本発明によれば、高価な真空チャンバーが必要なく、局所的に高真空領域を作り出す局所真空技術を使用した電子顕微鏡において、電子ビームの径を絞るために対物レンズと試料との間隙を出来るだけ微小にする構造が可能になり、対物レンズと試料との間隙を、試料の厚みが変化しても一定に保つことができ、既存の局所真空機構よりも高真空な領域を作り出すことが可能になった。その結果、局所真空技術を使用した高分解能な観察、測長が可能な電子顕微鏡を実現することができる。
また、従来の電子顕微鏡で必要であった真空チャンバーがなくなったため、従来、真空チャンバー用に使用していた排気手段も不用となり、簡易、小型、廉価な装置を構成することが容易になった。
以下、本発明を適用した具体的な実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。本実施の形態においても、前述した従来例と同様に局所真空技術を使用した電子顕微鏡を例示して説明する。
図1に本願発明の実施の形態の走査型電子顕微鏡の全体図を示す。また、概略図を図2に示す。
この電子顕微鏡の基本的な構成は、前述した従来例の構成と同様である。すなわちこの装置は図2に示す如く、電子ビームカラム9の電子銃1から出射される電子ビームを被照射体である試料6に照射し、試料6の表面から2次電子を放出させ、検出器3で受けて観測を行うものである。
この電子顕微鏡の基本的な構成は、前述した従来例の構成と同様である。すなわちこの装置は図2に示す如く、電子ビームカラム9の電子銃1から出射される電子ビームを被照射体である試料6に照射し、試料6の表面から2次電子を放出させ、検出器3で受けて観測を行うものである。
すなわち、走査電子顕微鏡は、大別して真空容器である電子ビームカラム9と、この電子ビームカラム9に対して連結された照射ヘッド10から構成される。照射ヘッド10に対して、試料6の支持手段13が配設されている。また、試料6は支持手段13の試料チャック7に載置保持されている。
電子ビームカラム9には、電ビームの照射源である電子銃1と、これにより放出される電子ビームを収束するコンデンサレンズ2と、2次電子の検出器3と、2次電子の偏向器3aと、電子ビームの走査コイル4と、対物レンズ5が配設されている。
電子銃1から射出される電子ビームbを、コンデンサレンズ2で絞り、走査コイル4によってラスター走査させ、対物レンズ5を通して試料6に照射する。これにより、試料6の表面から2次電子を放出させる。放出された2次電子は、対物レンズ5通して電子ビームカラム9内に入り、偏向器3aによって検出器3へ導かれる。この検出器3の出力から試料6の表面の観測映像を得るというものである。
図1の基台12は、この装置の基台であり、この基台12上には試料6を支持する試料支持手段13が構成されている。この試料支持手段13は、基台12上に水平に配置固定されるガイドレール54と、このガイドレール54に沿って水平の一軸方向に移動可能に支持されるスライドテーブル55とを有し、このスライドテーブル55に試料6の回転手段であるスピンドルモータ56が搭載されており、このスピンドルモータ56の回転軸に伸縮する試料側倣い機構51を介して取り付けられた試料チャック7の上面に、試料6が載置支持される。
図5に、試料側倣い機構51のある試料支持手段の概略を示す。
試料側倣い機構51は、外側ベローズ64と内側ベローズ65の間のベローズ間隙66に空気圧をかけて、試料6を試料チャック7ごと浮上させている。これにより、局所真空機構10の吸引力によって、試料6が局所真空機構10に対して倣うように引き寄せられる。
試料側倣い機構51は、外側ベローズ64と内側ベローズ65の間のベローズ間隙66に空気圧をかけて、試料6を試料チャック7ごと浮上させている。これにより、局所真空機構10の吸引力によって、試料6が局所真空機構10に対して倣うように引き寄せられる。
試料チャック7に載置された試料6は、スピンドルモータ56によって、試料チャック7及び試料側倣い機構51と一体に回転されるようになっている。
スライドテーブル55と基台12との間には、特に図示されない駆動手段が設けられており、θ軸61、X軸62等の水平方向での移動が可能になっている。
このように構成される試料6の試料支持手段13に対し、その上方には、試料6上を部分的に真空状態にして電子ビームを照射する局所真空機構10が配置されている。
図1の基台12上には垂直の支持柱11aと水平の天板11bによりなる支持構造体11が構成されており、この支持構造体11の天板11bの電子ビーム照射手段である電子ビームカラム9が垂直に載置支持されている。さらに天板11bには電子ビームカラム9が懸架支持されている。
電子ビームカラム9には、排気管14を介して特に図示しない真空ポンプによりなる排気手段が連結されており、この排気手段によって電子ビームカラム9の内部を排気して電子ビームの照射に支障のない真空度を保つようにしてある。
電子ビームカラム9の下端部の電子ビームの出口には、局所真空機構10を有する照射ヘッド50が取り付けられている。この局所真空機構10に対し、前述の試料側倣い機構51によって浮上させられている試料6が、5μm程度の微小な間隙をもって非接触で吸着している。その状態で電子ビームカラム9の上端の電子銃1から出射された電子ビームが、局所真空機構10の中心部の電子ビーム出射孔を通って試料6に照射される。
図3は照射ヘッド50の縦断面図である。照射ヘッド50は、局所真空機構10と対物レンズ5を有する。さらに、局所真空機構10は、静圧機構18と差動排気機構19を有する。また、対物レンズ5は、対物レンズ上ヨ−ク16と、対物レンズ下ヨ−ク17と、コイル5aを有する。
静圧機構18は、対物レンズ5の対物レンズ下ヨーク17に固定する。一方、差動排気機構19は、対物レンズ5と静圧機構に対して僅かに傾動可能なように取り付けられている。すなわち、差動排気機構19は、対物レンズ5の構成品である対物レンズ上ヨーク16と対物レンズ下ヨーク17の間に形成した空間に支持手段によって保持されている。
具体的には、図4に示すように、差動排気機構19は、対物レンズ5の構成品である対物レンズ上ヨーク16と対物レンズ下ヨーク17の間に形成した空間27中に弾性体で成るOリング47(支持手段)によって保持されている。ここで、Oリング47は、対物レンズ5と差動排気機構19の間に装着される。
すなわち、対物レンズ5の構成品であるヨークを、対物レンズ上ヨ−ク16と対物レンズ下ヨ−ク17の2部品に分割して製作し、対物レンズ上ヨ−ク16と対物レンズ下ヨ−ク17の間に、電子ビームの通路24を中心軸にして、丁度円筒を抜き取ったような空間である第1の中空部26と第2の中空部27の二つを形成する。この二つの中空部は径が異なるもので、一端で互いに連通している。対物レンズ上ヨーク16のブロック20は、これらの中空部26、中空部27の内壁側の径の異なる円柱を2つ重ねて円盤に取り付けたような形状に形成する。また、対物レンズ下ヨークのブロック25は、中空部26、中空部27の外壁側のキャップ状に形成する。
一方、差動排気機構19のブロック40は、第2の中空部27に僅かな間隙をもって嵌り込むような小さなカップ状に形成する。
局所真空機構10は、上記の対物レンズ上ヨーク16、対物レンズ下ヨ−ク17及び差動排気機構19のブロック30を次のような手順で組み立てることによって製作される。図3、図4、図10を用いて説明する。
先ず、対物レンズ上ヨーク16のブロック20の第2の円柱部22にOリング47を嵌める。次いで、差動排気機構19のカップ状のブロック40をOリング47を嵌めた対物レンズ上ヨーク16のブロック20の円柱部22に被せるようにする。Oリング47が圧縮変形し、その復元力により差動排気機構19のカップ状のブロック40が対物レンズ上ヨーク16のブロック20の第2の円柱部22に取り付けられて保持される(図3、図4参照)
ついで、対物レンズ下ヨーク17と静圧機構18を差動排気機構19に被せるように取り付ける。これにより、差動排気機構19は、レンズ5の中空部中に、浮いている状態になる(図3参照)。
なお、静圧機構18の試料6に対向する面には差動排気機構19の試料6に対向する面より若干小さい円形の開口28aが形成されており、内側に向かってフランジが30a形成されている。差動排気機構19のブロック40の試料6に対向する面の縁には、静圧機構18の内側のフランジ30aに対応した、段差40aが形成されており、差動排気機構19の抜け止め構造となっている(図4参照)。
静圧機構18は、試料6に対向する面の中心部に電子ビームが通る電子ビーム通路31を有するブロック30により構成されている。
この静圧機構18のブロック30は、対物レンズの下ヨーク17とネジで締結することによって対物レンズ5と一体化されて、電子ビームカラム9の下端の開口9aに気密的に固定されている(図3、図10参照)。
この静圧機構18のブロック30は、対物レンズの下ヨーク17とネジで締結することによって対物レンズ5と一体化されて、電子ビームカラム9の下端の開口9aに気密的に固定されている(図3、図10参照)。
差動排気機構19は、前述のように、Oリング47によってレンズ5の中の中空部に浮いている状況であり、Oリング47が弾性体であることから若干の力が加わればOリング47が変形してレンズ5及び静圧機構18に対し若干傾動することができるようになっている(図3参照)。
ここで、差動排気機構19には、真空排気による真空圧(負圧)が常にかかっているため、試料6に厚さムラや回転ぶれ等が発生すると差圧が発生し、その差圧を埋める方向に引かれる。その結果、差動排気機構19が傾動することとなる。
また、差動排気機構の対物レンズ側の面積S1と試料に対向する面側の面積S2に差があることから、その差に比例して真空度に差を生じ、差動排気機構側へ試料6を引き付けるように力が働いている。
この差動排気機構19の傾動と、試料6が差動排気機構19側に引き寄せられることによって、局所真空機構10は試料6に厚さムラや回転ぶれ等があっても、差動排気機構19と試料6が相対的にそれに追従して、確実に5μm程度の微小な間隙を維持できるようになっている。その結果、従来よりも高い真空度(8×10-4Pa)を維持することが可能になった。
そして、試料6を局所真空機構10の方向に引き寄せる力を発生させる手段として、差動排気機構10のブロック40には、試料6との対向面に開口する第1の差動排気用真空溝42aと第2の差動排気用溝42bが設けられている。この第1の差動排気用真空溝42aと第2の差動排気用溝42bは、試料6との対向面から見て電子ビーム出射孔41を中心とする同心円状に形成されているもので、この第1の差動排気用真空溝42aと第2の差動排気用溝42bには夫々ホース15aと15bを介して、特に図示しない排気手段が連結され、この排気手段によって第1の差動排気用真空溝42aと第2の差動排気用溝42bから排気すなわち気体の吸引が行われている(図4参照)。
この排気手段としては真空ポンプが用いられ、ここで電子ビーム出射孔41に近い第1の差動排気用真空溝42aには、これより外側の第2の差動排気用真空溝42bよりも高い真空度に排気できる真空ポンプを連結し、第2の差動排気用真空溝42bよりも強くなるように設定する。
さらに静圧機構18のブロック30には、差動排気機構19の第2の差動排気用真空溝42bの外側において、試料6との対向面に露出する浮上用多孔質32が埋め込まれている。この浮上用多孔質32は通気性を有する多孔質の固体材料によりなるもので、試料6との対向面から見て電子ビーム出射孔41を中心とするリング状に形成されており、この浮上用多孔質32の裏側において静圧機構18のブロック30の内部には気体の流路33が形成されている(図3参照)。
この流路33には特に図示しない給気手段が連結されており、この給気手段から流路33に圧縮気体(正圧)が供給され、これが浮上用多孔質32から試料6に向けて噴出されるようになっている。
このように構成される局所真空機構10を試料6の上に載せた状態で各排気手段及び給気手段を作動させると、浮上用多孔質32から噴出される気体によって局所真空機構10に対し試料6が僅かに押し下げられ、同時に第1の差動排気用真空溝42aと第2の差動排気用真空溝42bから気体が吸引されて溝内が負圧となることによって局所真空機構10に試料6が吸い付くように作用し、このため局所真空機構10は試料6に対し5μm程度の微小な間隙35を保ちながら非接触で浮上する状態となるので、試料6の水平移動や回転には支障がない。
このとき静圧機構18の浮上用多孔質32から噴出される気体は、その周囲に形成されている差動排気機構の第1の差動排気用真空溝42aと第2の差動排気用真空溝42bで吸引されることにより電子ビーム出射孔41に至ることが回避され、この場合、浮上用多孔質32からの気体は先ず第2の差動排気用真空溝42bで吸引され、さらに第1の差動排気用真空溝42aで吸引されることになり、ここで第1の差動排気用真空溝42aでの吸引力は第2の差動排気用真空溝42bの吸引力より強くなっているため、局所真空機構10の中心部に行くほど真空度を高くでき、これによって電子ビームカラム9の内部を電子ビームの照射に支障のない真空度に保つことができるというものである。
なお、図2に示す符号5は、電子ビームカラム9の先端に取り付けられた対物レンズ5であり、電子ビームカラム9の電子銃1から発せられた電子ビームは電子ビーム通路31を通ってこの対物レンズ5の先端から出射され、局所真空機構70の電子ビーム出射孔41を通って試料の表面に照射される。この対物レンズ75においては、電子ビーム通路46の周りに電磁コイル75aが配されており、この電磁コイル5aによって電子ビームが収束されて試料6の表面にビームスポットを形成する。
以上の結果、本発明の照射ヘッド50の局所真空機構10は、従来の局所真空機構70に比べて対物レンズをより試料に近接させることができるようになり、電子顕微鏡の分解能を高めることができた。図9の従来の局所真空機構70と、図10が本発明の局所真空機構10とにより対物レンズの近接具合が比較できる。
図9に示す従来の局所真空機構70では、対物レンズ75の下端を局所真空機構のブロック80の電子ビーム出射孔81の周囲の凹所80aにできるだけ近接させるようにしているが、局所真空の構造である差動排気用真空溝や差動排気孔の分の厚さと、倣い機構90の伸縮分の間隔とは確保せざるを得なかった。その分が対物レンズ75と試料6の近接の制限となっていた。
これに対し、図10に示す本発明の局所真空機構10では、対物レンズの下側ヨークのブロック25が静圧機構のブロック30が一体化されており、対物レンズ5と試料6をより近接させることができる。
これに対し、図10に示す本発明の局所真空機構10では、対物レンズの下側ヨークのブロック25が静圧機構のブロック30が一体化されており、対物レンズ5と試料6をより近接させることができる。
以上まとめると、課題を解決するために照射ヘッド50における真空を維持するための差動排気機構19と局所真空機構10を浮上させるための静圧機構18を別構造とし、静圧機構18と対物レンズ5とを一体構造にすることにより対物レンズ5と試料6との間隙35が微小であっても局所的な真空領域が作れる構造とした(図3参照)。
また、照射ヘッド50の局所真空機構10の静圧機構18を電子ビームカラム9に直接取り付けるために試料6の厚み公差や試料支持手段13の高さ変動を吸収する機構である試料側倣い機構51を試料6側に取りつけることにより、対物レンズ下ヨーク17と試料6の間隙35が試料6の厚み公差が変わっても絶えず一定の距離を保てるようにした(図3〜5参照)。
また、試料6側を局所真空機構10に倣わせる構造としたため面積の大きいものが倣うので局所真空機構10と試料6の間隙35を一定にするのが難しかったが、差動排気機構19の対物レンズ5側の接触面積S1と試料6側の接触面積S2に差をもうけることにより、圧力差を生じさせ、絶えず差動排気機構19を試料6側に引き付ける力関係が成り立つ構造にし、差動排気機構19部分が試料6に倣う構造にした。そのため試料6を局部真空機構10の全体の面積の内の極めて小さい部分を試料6に倣わすことになるため、一定の間隙ができやすくなり、従来の局所真空機構70より高真空を実現した(図4参照)。
よって、従来よりも試料に対して近接し、かつ高真空とすることができる局所真空機構を実現し、これを用いて高分解能の電子顕微鏡を得ることができた。
なお、本実施の形態では、差動排気用真空溝を2本使用したが、さらに本数の多いものでも良い。差動排気用真空溝の本数が多いほど中心部の真空度を高く保つことが可能である。
また、本実施の形態では、差動排気機構の支持手段をOリングとしたが、他の支持手段でも良い。例えば、樹脂シートにより対物レンズの中空部内に吊り下げても良い。また、ユニバーサルジョイントによって対物レンズに連結してもよい。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、本発明の技術思想に基づいて種々の変形が可能である。本発明の傾動可能な差動排気機構を有する局所真空機構と、試料側倣い機構との組み合わせによれば、電子ビームカラムの対物レンズと被照射体との間隔をより近接させられるため、その焦点のビームスポット径をより小さくすることができる。
従って、実施の形態では、電子顕微鏡を説明したが、電子ビーム照射による各種の加工装置や検査装置に適用すればその機能を向上することが可能である。例えば、光ディスクの原盤記録装置では、信号トラックの線幅をより細くできるので高密度記録に有利となる。また、検査装置においては、電子顕微鏡の場合と同様に、分解能をより細かくすることができる。
1・・・電子銃、2・・・コンデンサレンズ、3・・・検出器、3a・・・偏向器、4・・・走査コイル、5・・・対物レンズ、5a・・・コイル、6・・・試料、7・・・試料チャック、8・・・真空チャンバー、8a・・・開口、9・・・電子ビームカラム、9a・・・開口、
10・・・局所真空機構、11・・・支持構造体、11a・・・支持柱、11b・・・天板、12・・・基台、13・・・試料支持手段、14・・・排気管、14a・・・排気管、14b・・・排気管、
15a・・・ホース(排気管)、15b・・・ホース(排気管)、16・・・対物レンズ上ヨーク、17・・・対物レンズ下ヨーク、18・・・静圧機構、19・・・差動排気機構、
20・・・ブロック、21・・・第1の円柱部、22・・・第2の円柱部、23・・・貫通孔、24・・・電子ビーム通路、25・・・ブロック、26・・・第1の中空部(空間)、27・・・第2の中空部(空間)、28・・・底部、28a・・・開口、
30・・・ブロック、30a・・・フランジ、31・・・電子ビーム通路、32・・・浮上用多孔質、33・・・流路、35・・・間隙、36・・・間隙、37・・・間隙、38・・・間隙、39・・・間隙、
40・・・ブロック、41・・・電子ビーム出射孔、42a・・・差動排気用真空溝、42b・・・差動排気用真空溝、43・・・差動排気孔、46a・・・Oリング、46b・・・Oリング、47・・・Oリング、50・・・照射ヘッド、
51・・・試料側倣い機構、54・・・ガイドレール、55・・・スライドテーブル、56・・・スピンドルモータ、
61・・・θ軸(θ軸移動手段)、62・・・X軸(X軸移動手段)、64・・・外側ベローズ、65・・・内側ベローズ、66・・・ベローズ間隙、
70・・・局所真空機構、73・・・試料支持手段、74・・・真空空間、75・・・対物レンズ、76・・・電子ビーム通路、
80・・・ブロック、80a・・・凹部、81・・・電子ビーム出射孔、82・・・浮上用多孔質、83a・・・差動排気用真空溝(気体吸引溝)、83b・・・差動排気用真空溝(気体吸引溝)、84a・・・差動排気孔、84b・・・差動排気孔、85・・・ブロック、87・・・流路、
90・・・局所真空機構側倣い機構、94・・・外側ベローズ、95・・・内側ベローズ、96・・・ベローズ間隙、
b・・・電子ビーム、
S1・・・対物レンズ側の接触面積、S2・・・試料側の接触面積、
10・・・局所真空機構、11・・・支持構造体、11a・・・支持柱、11b・・・天板、12・・・基台、13・・・試料支持手段、14・・・排気管、14a・・・排気管、14b・・・排気管、
15a・・・ホース(排気管)、15b・・・ホース(排気管)、16・・・対物レンズ上ヨーク、17・・・対物レンズ下ヨーク、18・・・静圧機構、19・・・差動排気機構、
20・・・ブロック、21・・・第1の円柱部、22・・・第2の円柱部、23・・・貫通孔、24・・・電子ビーム通路、25・・・ブロック、26・・・第1の中空部(空間)、27・・・第2の中空部(空間)、28・・・底部、28a・・・開口、
30・・・ブロック、30a・・・フランジ、31・・・電子ビーム通路、32・・・浮上用多孔質、33・・・流路、35・・・間隙、36・・・間隙、37・・・間隙、38・・・間隙、39・・・間隙、
40・・・ブロック、41・・・電子ビーム出射孔、42a・・・差動排気用真空溝、42b・・・差動排気用真空溝、43・・・差動排気孔、46a・・・Oリング、46b・・・Oリング、47・・・Oリング、50・・・照射ヘッド、
51・・・試料側倣い機構、54・・・ガイドレール、55・・・スライドテーブル、56・・・スピンドルモータ、
61・・・θ軸(θ軸移動手段)、62・・・X軸(X軸移動手段)、64・・・外側ベローズ、65・・・内側ベローズ、66・・・ベローズ間隙、
70・・・局所真空機構、73・・・試料支持手段、74・・・真空空間、75・・・対物レンズ、76・・・電子ビーム通路、
80・・・ブロック、80a・・・凹部、81・・・電子ビーム出射孔、82・・・浮上用多孔質、83a・・・差動排気用真空溝(気体吸引溝)、83b・・・差動排気用真空溝(気体吸引溝)、84a・・・差動排気孔、84b・・・差動排気孔、85・・・ブロック、87・・・流路、
90・・・局所真空機構側倣い機構、94・・・外側ベローズ、95・・・内側ベローズ、96・・・ベローズ間隙、
b・・・電子ビーム、
S1・・・対物レンズ側の接触面積、S2・・・試料側の接触面積、
Claims (7)
- 試料に対して微小な間隙をもって支持され、前記試料に対して出射される電子ビーム及び前記試料から放出される2次電子が通過可能な通路を有する照射ヘッドであって、
前記照射ヘッドは、静圧機構と差動排気機構から成る局所真空機構と、対物レンズを有し、
前記対物レンズには、前記通路を中心にしてその周囲をリング状に囲み、前記試料との対向面に開口する中空部が形成され、
前記静圧機構は、前記通路を中心にしてその周囲をリング状に囲み、前記対物レンズの前記中空部の開口の外周に一体的に取付けられ、
前記差動排気機構は、前記中空部内に支持手段により傾動自在に支持されていることを特徴とする照射ヘッド。 - 前記差動排気機構が、前記電子ビームの通路を中心にその周囲に、前記試料との対向面に開口を有する2以上のリング状気体吸引溝が形成され、前記通路と前記リング状気体吸引溝には排気手段が連結され、中心側に位置するリング状気体吸引溝を、より高い排気にすることを特徴とする請求項1に記載の照射ヘッド。
- 前記支持手段が、対物レンズと差動排気機構の間に装着されたOリングであることを特徴とする請求項1に記載の照射ヘッド。
- 前記静圧機構には、前記差動排気機構の周囲に、圧縮気体供給手段に接続されるリング状の気体噴出口が前記試料との対向面に開口して形成されていることを特徴とする請求項1に記載の照射ヘッド。
- 前記静圧機構の、前記気体噴出口に多孔質からなるリング状の通気パッドが嵌められていることを特徴とする請求項4に記載の照射ヘッド。
- 電子ビームの照射源を収容した電子ビームカラムと、
前記電子ビームカラムと連結され、前記電子ビームを試料に対して出射させる出射孔を前記試料との対向面に形成した照射ヘッドと、
前記試料を前記照射ヘッドに対して略水平に支持する試料支持手段を具備する電子顕微鏡であって、
前記照射ヘッドは、試料に対して微小な間隙をもって支持され、前記試料に対して出射される電子ビーム及び前記試料から放出される2次電子が通過可能な通路を有する照射ヘッドであって、
前記照射ヘッドは、静圧機構と差動排気機構から成る局所真空機構と、対物レンズを有し、
前記対物レンズには、前記通路を中心にしてその周囲をリング状に囲み、前記試料との対向面に開口する中空部が形成され、
前記静圧機構は、前記通路を中心にしてその周囲をリング状に囲み、前記対物レンズの前記中空部の開口の外周に一体的に取付けられ、
前記差動排気機構は、前記中空部内に支持手段により傾動自在に支持されていることを特徴とする電子顕微鏡。 - 前記試料支持手段は、前記試料を固定する試料チャックと、前記試料チャックを支持する試料ステージと、前記チャックと前記試料ステージを連結させる試料側倣い機構を有し、
前記チャックと前記試料ステージは前記試料側倣い機構によって伸縮自在に連結され、前記照射ヘッドが試料に非接触で吸着した状態で電子ビームが試料に照射されることを特徴とする請求項6に記載の電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006330092A JP2008146890A (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 照射ヘッド及びこれを備えた電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006330092A JP2008146890A (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 照射ヘッド及びこれを備えた電子顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2008146890A true JP2008146890A (ja) | 2008-06-26 |
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ID=39606831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006330092A Pending JP2008146890A (ja) | 2006-12-07 | 2006-12-07 | 照射ヘッド及びこれを備えた電子顕微鏡 |
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JP (1) | JP2008146890A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019189363A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 株式会社ニコン | 荷電粒子装置、計測システム、及び、荷電粒子ビームの照射方法 |
JP2023009854A (ja) * | 2021-07-08 | 2023-01-20 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡および対物レンズ |
-
2006
- 2006-12-07 JP JP2006330092A patent/JP2008146890A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019189363A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 株式会社ニコン | 荷電粒子装置、計測システム、及び、荷電粒子ビームの照射方法 |
JP2023009854A (ja) * | 2021-07-08 | 2023-01-20 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡および対物レンズ |
JP7307768B2 (ja) | 2021-07-08 | 2023-07-12 | 日本電子株式会社 | 走査電子顕微鏡および対物レンズ |
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