JP4559532B2 - 電子線描画装置およびそのステージ機構 - Google Patents
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Description
5 ターンテーブル
13 ハウジング
14 真空隔壁
16〜19 フレキシブルチューブ
25 給電線
30 電子光学鏡筒
40 Xステージ
50 真空室
50a 上部領域(上方空間)
50b 下部領域(下方空間)
A1〜A5 フィールドスルー
B1〜B5 フィールドスルー
Claims (9)
- 回転テーブルを備えた回転ステージと前記回転ステージを直線移動せしめて位置決めする直動ステージとを含む位置決め機構と、前記位置決め機構を収容する真空室と、前記真空室の外部と前記位置決め機構の内部とを連通せしめる少なくとも1つの屈曲自在な配管と、を含むステージ機構であって、
前記真空室は、前記位置決め機構の底面の下方に拡がる下方空間を有し、
前記配管は、前記位置決め機構の表面から、前記真空室の内壁に接触することなく前記下方空間を経て前記真空室の内壁に達していることを特徴とするステージ機構。 - 前記配管は、前記直動ステージによる前記回転ステージの移動中、前記真空室の内壁に非接触であることを特徴とする請求項1に記載のステージ機構。
- 前記配管は、前記下方空間内において、その中間部が垂下していることを特徴とする請求項1又は2に記載のステージ機構。
- 前記配管の一方の端部は、前記位置決め機構の底面に結合していることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1に記載のステージ機構。
- 前記配管の一方の端部は、前記位置決め機構の側面に結合していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1に記載のステージ機構。
- 前記配管は複数であり、前記配管の各々を互いに離間した状態で拘束するクランパを更に有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1に記載のステージ機構。
- 前記直動ステージは、貫通口を有し、
前記回転ステージは、前記貫通口に挿入されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1に記載のステージ機構。 - 回転テーブルを備えた回転ステージと前記回転ステージを直線移動せしめて位置決めする直動ステージとを含む位置決め機構と、前記回転ステージ上に設置されたディスク原盤に電子線を照射して記録マークを形成する電子線照射手段と、前記位置決め機構を収容する真空室と、前記真空室の外部と前記位置決め機構の内部とを連通せしめる少なくとも1つの屈曲自在な配管と、を含む電子線描画装置であって、
前記真空室は、前記位置決め機構の底面の下方に拡がる下方空間を有し、
前記配管は、前記位置決め機構の表面から、前記真空室の内壁に接触することなく
前記下方空間を経て前記真空室の内壁に達していることを特徴とする電子線描画装置。 - 前記配管は、前記位置決め機構による電子線照射位置の位置決め制御の間、前記真空室の内壁に非接触であることを特徴とする請求項8に記載の電子線描画装置。
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