JP2015079765A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
荷電粒子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015079765A JP2015079765A JP2014253586A JP2014253586A JP2015079765A JP 2015079765 A JP2015079765 A JP 2015079765A JP 2014253586 A JP2014253586 A JP 2014253586A JP 2014253586 A JP2014253586 A JP 2014253586A JP 2015079765 A JP2015079765 A JP 2015079765A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- thin film
- particle beam
- sample
- beam apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
Description
図7には、薄膜−試料間距離を変更する機構を備えたSEMの更に別の変形例を示す。図7に示すSEMは、薄膜支持部材47に第1の筐体7に対する摺動性を持たせて、駆動機構201により薄膜支持部材47を可動にする。薄膜支持部材47と第1の筐体7との真空シールは真空封止機構124により実現されるが、真空封止機構124は摺動性を持つ必要がある。
1 光学レンズ
2 電子光学鏡筒
3 検出器
4 真空排気ポンプ
5,21 試料台
6 試料
7 第1の筐体
8 第2の筐体
10 薄膜
11 第2の空間
12 第1の空間
14 位置測定器
15 リークバルブ
16 配管
17 真空封止部
18 EDX検出器
19 フランジ部
20 支柱
35 パソコン
36 上位制御部
37 下位制御部
43,44 通信線
47 薄膜支持部材
50 操作用ウィンドウ
51 画像表示部
52 画像観察開始ボタン
53 画像観察停止ボタン
54 焦点調整ボタン
55 明るさ調整ボタン
56 コントラスト調整ボタン
57 真空排気ボタン
58 大気リークボタン
81 開口部
101 ガス制御バルブ
103 ガスボンベ
112 ガス放出開始ボタン
113 ガス放出停止ボタン
114 ガス放出条件設定ボタン
117 ガス放出時間設定ボックス
118 ガス放出条件設定ウィンドウ
119 ガス放出実行チェックボックス
120 OKボタン
124 真空封止機構
Claims (13)
- 荷電粒子源から放出される一次荷電粒子線を試料上に走査する荷電粒子光学系を格納し、内部が真空状態に維持される荷電粒子光学鏡筒と、
大気開放された試料を載置する試料ステージと、
前記荷電粒子光学鏡筒と連通した空間と前記試料ステージが配置される空間を仕切るように配置され、前記一次荷電粒子線を透過する薄膜と、
前記薄膜を上下方向に駆動することで前記薄膜と前記試料との距離を調整する駆動機構と、を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記駆動機構は、前記荷電粒子光学鏡筒を上下方向に駆動することで前記薄膜を駆動することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜を支持する薄膜支持部材を有し、
前記駆動機構は、前記薄膜支持部材を上下方向に駆動することで前記薄膜を駆動することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子光学鏡筒を支える支柱を有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項4に記載の荷電粒子線装置において、
前記駆動機構は前記支柱に設けられることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜を支持する薄膜支持部材を有し、
前記薄膜または薄膜支持部材が、前記試料と前記薄膜との距離を制限する制限部材を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記試料が載置される空間にガスを供給するガスノズルを備え、
当該ガスノズルにより大気よりも質量の軽いガスが供給されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項7に記載の荷電粒子線装置において、
前記ガスノズルからの放出ガスが、水素ガス、ヘリウムガス、メタンガス、水蒸気の内いずれかを含むことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜を支持する薄膜支持部材を有し、
前記薄膜支持部材は、前記薄膜が固定されたまま当該荷電粒子線装置に着脱されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜と前記試料との距離を計測する計測器を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記薄膜の厚みが20μm以下であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記一次荷電粒子線の照射によって前記試料から放出されるX線を検出するX線検出器を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子源から放出される一次荷電粒子線を試料上に走査し、当該走査により得られる反射電子あるいは二次電子を画像化して大気開放された空間に載置された試料を観察する顕微方法において、
内部が真空状態に維持された荷電粒子光学鏡筒と連通する空間と前記試料が配置される空間を仕切るように配置された薄膜を上下方向に駆動することで前記薄膜と前記試料との距離を調整し、
前記荷電粒子光学鏡筒から前記一次荷電粒子線を照射し、
前記薄膜を透過した前記一次荷電粒子線を前記試料に照射することを特徴とする顕微方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014253586A JP5919368B2 (ja) | 2014-12-16 | 2014-12-16 | 荷電粒子線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014253586A JP5919368B2 (ja) | 2014-12-16 | 2014-12-16 | 荷電粒子線装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013139385A Division JP5678134B2 (ja) | 2013-07-03 | 2013-07-03 | 荷電粒子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015079765A true JP2015079765A (ja) | 2015-04-23 |
JP5919368B2 JP5919368B2 (ja) | 2016-05-18 |
Family
ID=53010992
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014253586A Active JP5919368B2 (ja) | 2014-12-16 | 2014-12-16 | 荷電粒子線装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5919368B2 (ja) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5990926A (ja) * | 1982-10-19 | 1984-05-25 | バリアン・アソシエイツ・インコ−ポレイテツド | 局部的真空エンベロプを組み込んだ荷電粒子ビ−ムリソグラフイ装置 |
JPH05234552A (ja) * | 1992-02-21 | 1993-09-10 | Elionix Kk | 走査電子顕微鏡 |
JP2001242300A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-07 | Sony Corp | 電子ビーム照射装置 |
JP2003263795A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Sony Corp | 位置制御装置、位置制御方法および電子ビーム照射装置 |
JP2004354309A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | エネルギー線取出窓、エネルギー線投射装置、及び、エネルギー線取出方法 |
JP2005108867A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-04-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 露光マスクおよび電子ビーム露光装置 |
JP2005158338A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-16 | Canon Inc | 試料の観察装置及び加工装置 |
JP2010509709A (ja) * | 2006-10-24 | 2010-03-25 | ビー・ナノ・リミテッド | インターフェース、非真空環境内で物体を観察する方法、および走査型電子顕微鏡 |
-
2014
- 2014-12-16 JP JP2014253586A patent/JP5919368B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5990926A (ja) * | 1982-10-19 | 1984-05-25 | バリアン・アソシエイツ・インコ−ポレイテツド | 局部的真空エンベロプを組み込んだ荷電粒子ビ−ムリソグラフイ装置 |
JPH05234552A (ja) * | 1992-02-21 | 1993-09-10 | Elionix Kk | 走査電子顕微鏡 |
JP2001242300A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-07 | Sony Corp | 電子ビーム照射装置 |
JP2003263795A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Sony Corp | 位置制御装置、位置制御方法および電子ビーム照射装置 |
JP2004354309A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | エネルギー線取出窓、エネルギー線投射装置、及び、エネルギー線取出方法 |
JP2005108867A (ja) * | 2003-09-26 | 2005-04-21 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 露光マスクおよび電子ビーム露光装置 |
JP2005158338A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-16 | Canon Inc | 試料の観察装置及び加工装置 |
JP2010509709A (ja) * | 2006-10-24 | 2010-03-25 | ビー・ナノ・リミテッド | インターフェース、非真空環境内で物体を観察する方法、および走査型電子顕微鏡 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5919368B2 (ja) | 2016-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5320418B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US9105442B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
JP5825964B2 (ja) | 検査又は観察装置及び試料の検査又は観察方法 | |
JP5707286B2 (ja) | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置の調整方法、および試料の検査若しくは試料の観察方法。 | |
WO2015129446A1 (ja) | 走査電子顕微鏡および画像生成方法 | |
US9466457B2 (en) | Observation apparatus and optical axis adjustment method | |
WO2014041876A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 | |
JP5919368B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5678134B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6272384B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5923632B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5976147B2 (ja) | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置の調整方法、および試料の検査若しくは試料の観察方法。 | |
JP6118870B2 (ja) | 試料観察方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150915 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151110 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160411 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5919368 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |