JPH05234552A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
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- JPH05234552A JPH05234552A JP4070055A JP7005592A JPH05234552A JP H05234552 A JPH05234552 A JP H05234552A JP 4070055 A JP4070055 A JP 4070055A JP 7005592 A JP7005592 A JP 7005592A JP H05234552 A JPH05234552 A JP H05234552A
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- JP
- Japan
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- sample
- observation
- pressure
- thin film
- electron microscope
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- Pending
Links
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- 108010083687 Ion Pumps Proteins 0.000 description 1
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料の乾燥とチャージアップとを防止し、生
物試料の観察に適した走査電子顕微鏡を得ることを目的
とする。 【構成】 走査電子顕微鏡の電子ビームの通路中に（少
なくとも対物レンズと観察試料との間に）薄膜を張って
上記電子ビームの通路を仕切り観察中も観察試料近傍を
１気圧付近に保持する手段を備えた。
物試料の観察に適した走査電子顕微鏡を得ることを目的
とする。 【構成】 走査電子顕微鏡の電子ビームの通路中に（少
なくとも対物レンズと観察試料との間に）薄膜を張って
上記電子ビームの通路を仕切り観察中も観察試料近傍を
１気圧付近に保持する手段を備えた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は走査電子顕微鏡、さら
に詳しくは生物試料の観察などに用いる走査電子顕微鏡
に関するものである。
に詳しくは生物試料の観察などに用いる走査電子顕微鏡
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、走査電子顕微鏡では、光学系お
よび２次電子検出系が真空を必要とするため、その観察
環境は自然状態ではなく、試料は常に乾燥した状態にな
ってしまう。また、絶縁体はチャージアップにより観察
が阻害されるため、導電性を持たせるコーティングや導
電染色といった処理が必要であり、生物試料をそのまま
の形状で観察することはできない。このような問題点を
解決すべく、近年、いわゆる差動排気型走査電子顕微鏡
が開発されている。
よび２次電子検出系が真空を必要とするため、その観察
環境は自然状態ではなく、試料は常に乾燥した状態にな
ってしまう。また、絶縁体はチャージアップにより観察
が阻害されるため、導電性を持たせるコーティングや導
電染色といった処理が必要であり、生物試料をそのまま
の形状で観察することはできない。このような問題点を
解決すべく、近年、いわゆる差動排気型走査電子顕微鏡
が開発されている。
【０００３】図２は、上述の差動排気型走査電子顕微鏡
の構成の概略を示す図であり、図において、１は電子
銃、２はコンデンサレンズ、３は対物レンズ、４は差動
排気部、５は試料室、６は試料ステージ、７は観察試
料、８はイオンポンプ、９は拡散ポンプ、１０はロータ
リーポンプを示す。
の構成の概略を示す図であり、図において、１は電子
銃、２はコンデンサレンズ、３は対物レンズ、４は差動
排気部、５は試料室、６は試料ステージ、７は観察試
料、８はイオンポンプ、９は拡散ポンプ、１０はロータ
リーポンプを示す。
【０００４】差動排気型走査電子顕微鏡は以上のように
構成され、水蒸気などの雰囲気ガスを検出媒体として用
い、且つ、差動排気部４を用いて、試料７の乾燥やチャ
ージアップを防いでいる。すなわち、低圧では雰囲気ガ
スが正イオン化する事で帯電を中和し、チャージアップ
を回避しているが、一次電子がガス分子との衝突によっ
て散乱されるため、ガス圧が一定圧以上あったり、ガス
圧が低圧でも電子ビームの走行距離が長いと、１次電子
のビームがガス分子により散乱されてしまい、ぼんやり
とした像しか得られなくなる。そのため、差動排気部４
を用いて、試料７付近を除きできるだけ低圧状態を維持
し、Ｏｌｉｇｏ散乱を防ぐようにしている。
構成され、水蒸気などの雰囲気ガスを検出媒体として用
い、且つ、差動排気部４を用いて、試料７の乾燥やチャ
ージアップを防いでいる。すなわち、低圧では雰囲気ガ
スが正イオン化する事で帯電を中和し、チャージアップ
を回避しているが、一次電子がガス分子との衝突によっ
て散乱されるため、ガス圧が一定圧以上あったり、ガス
圧が低圧でも電子ビームの走行距離が長いと、１次電子
のビームがガス分子により散乱されてしまい、ぼんやり
とした像しか得られなくなる。そのため、差動排気部４
を用いて、試料７付近を除きできるだけ低圧状態を維持
し、Ｏｌｉｇｏ散乱を防ぐようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の低
真空型の走査電子顕微鏡は以上のように、差動排気部を
用いて対物レンズと観察試料との間に圧差を持たせて観
察試料の乾燥とチャージアップとを防ぐこととしている
が、この方法では低圧になるに従ってオリフィスを通過
し、ガスが鏡筒内に多量に入る事で電子の散乱が起こり
観察が行えなくなる。
真空型の走査電子顕微鏡は以上のように、差動排気部を
用いて対物レンズと観察試料との間に圧差を持たせて観
察試料の乾燥とチャージアップとを防ぐこととしている
が、この方法では低圧になるに従ってオリフィスを通過
し、ガスが鏡筒内に多量に入る事で電子の散乱が起こり
観察が行えなくなる。
【０００６】図３は上述の問題点を説明するための図で
あり、１１ａ，１１ｂは排気を行うためそれぞれポンプ
に接続された排気孔（オリフィス）を示すが、上述のよ
うにレンズ系はできるだけ低い気圧を維持させる必要性
から、排気孔１１ｂを鏡筒最先端に設けている。従っ
て、（Ｂ）付近を１０-1〜１０-2：Ｔｏｒｒに維持し、
（Ｃ）付近を１〜２０：Ｔｏｒｒ程度に維持しようとし
ても、気圧差により図３の矢印のように雰囲気ガスの吹
込みが起こり、この部分のガス圧が異常に高くなり、電
子ビームが散乱してしまう。
あり、１１ａ，１１ｂは排気を行うためそれぞれポンプ
に接続された排気孔（オリフィス）を示すが、上述のよ
うにレンズ系はできるだけ低い気圧を維持させる必要性
から、排気孔１１ｂを鏡筒最先端に設けている。従っ
て、（Ｂ）付近を１０-1〜１０-2：Ｔｏｒｒに維持し、
（Ｃ）付近を１〜２０：Ｔｏｒｒ程度に維持しようとし
ても、気圧差により図３の矢印のように雰囲気ガスの吹
込みが起こり、この部分のガス圧が異常に高くなり、電
子ビームが散乱してしまう。
【０００７】この発明は、かかる問題点を解決するため
になされたものであり、観察試料７近傍を１気圧付近に
保持しながら観察が可能な走査電子顕微鏡を得ることを
目的としている。
になされたものであり、観察試料７近傍を１気圧付近に
保持しながら観察が可能な走査電子顕微鏡を得ることを
目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明に係わる走査電
子顕微鏡は、電子ビームの通路中に（少なくとも対物レ
ンズと観察試料との間に）薄膜を張って電子ビームの通
路を仕切り、レンズ系を包含する段と観察試料を包含す
る段とに圧差を設定することとしたものである。
子顕微鏡は、電子ビームの通路中に（少なくとも対物レ
ンズと観察試料との間に）薄膜を張って電子ビームの通
路を仕切り、レンズ系を包含する段と観察試料を包含す
る段とに圧差を設定することとしたものである。
【０００９】
【作用】薄膜を用いて圧差を設定することにより、観察
試料近傍を１気圧付近に保ちながらレンズ系は低圧状態
におくことができ、差動排気部が不要となるので薄膜と
観察試料との間の距離を十分短くすることができる。
試料近傍を１気圧付近に保ちながらレンズ系は低圧状態
におくことができ、差動排気部が不要となるので薄膜と
観察試料との間の距離を十分短くすることができる。
【００１０】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を用いて説明
する。図１は、この発明の一実施例を説明するための部
分断面図で、従来の装置の図３に対応する図であり、図
において、２０は対物レンズ３と観察試料７との間に張
られた薄膜である。この薄膜２０は、例えば・・・の様
な、散乱を抑えて電子ビームを良く通過させる材質で形
成される。
する。図１は、この発明の一実施例を説明するための部
分断面図で、従来の装置の図３に対応する図であり、図
において、２０は対物レンズ３と観察試料７との間に張
られた薄膜である。この薄膜２０は、例えば・・・の様
な、散乱を抑えて電子ビームを良く通過させる材質で形
成される。
【００１１】この発明は図１に示すように、対物レンズ
３と観察試料７との間に薄膜を張って電子ビームの通路
を図面上下に仕切り、観察中もレンズ系を十分な低圧状
態に保ちながら観察試料７近傍を１気圧付近に保持し、
試料の乾燥とチャージアップとを防止して観察を可能に
している。また、薄膜２０を用いることによって、レン
ズ系の排気を十分に行えるため、従来の装置のように差
動排気部４を設ける必要がなく、鏡筒先端と試料７との
距離（ｈ’）を十分に短くでる。
３と観察試料７との間に薄膜を張って電子ビームの通路
を図面上下に仕切り、観察中もレンズ系を十分な低圧状
態に保ちながら観察試料７近傍を１気圧付近に保持し、
試料の乾燥とチャージアップとを防止して観察を可能に
している。また、薄膜２０を用いることによって、レン
ズ系の排気を十分に行えるため、従来の装置のように差
動排気部４を設ける必要がなく、鏡筒先端と試料７との
距離（ｈ’）を十分に短くでる。
【００１２】なお、上記実施例では、対物レンズ３と観
察試料７との間に１枚の薄膜２０を張った構成としてい
るが、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、
電子ビームの通路中に１枚あるいは複数枚の薄膜を張っ
て電子ビームの通路を仕切り格段に圧差を持たせ、観察
中も観察試料７近傍を１気圧付近に保持して試料の乾燥
とチャージアップとを防止する装置であれば良い。
察試料７との間に１枚の薄膜２０を張った構成としてい
るが、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、
電子ビームの通路中に１枚あるいは複数枚の薄膜を張っ
て電子ビームの通路を仕切り格段に圧差を持たせ、観察
中も観察試料７近傍を１気圧付近に保持して試料の乾燥
とチャージアップとを防止する装置であれば良い。
【００１３】
【発明の効果】この発明の走査電子顕微鏡は以上説明し
たように、試料の乾燥とチャージアップとを防止でき、
生物試料の観察等に適した装置とできる。また、差動排
気部を必要としないので、対物レンズと試料との間の距
離を十分に短くでき、高分解能の装置が得られる等の効
果がある。
たように、試料の乾燥とチャージアップとを防止でき、
生物試料の観察等に適した装置とできる。また、差動排
気部を必要としないので、対物レンズと試料との間の距
離を十分に短くでき、高分解能の装置が得られる等の効
果がある。
【図１】この発明の一実施例を説明するための部分断面
図である。
図である。
【図２】従来の装置を説明するための概略図である。
【図３】従来の装置の問題点を説明するための部分断面
図である。
図である。
４ 差動排気部 ５ 試料室 ７ 観察試料 １１ａ，１１ｂ 排気孔（オリフィス） ２０ 薄膜
Claims (1)
- 【請求項１】 走査電子顕微鏡の電子ビームの通路中に
（少なくとも対物レンズと観察試料との間に）薄膜を張
って上記電子ビームの通路を仕切り観察中も観察試料近
傍を１気圧付近に保持する手段を備えたことを特徴とす
る走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4070055A JPH05234552A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4070055A JPH05234552A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05234552A true JPH05234552A (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=13420489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4070055A Pending JPH05234552A (ja) | 1992-02-21 | 1992-02-21 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05234552A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006147430A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Hokkaido Univ | 電子顕微鏡 |
| JP2007292702A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Jeol Ltd | 試料検査装置及び試料検査方法並びに試料検査システム |
| JP2009525581A (ja) * | 2006-02-02 | 2009-07-09 | シーイービーティー・カンパニー・リミティッド | 電子カラム用真空度差維持器具 |
| WO2012104942A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| WO2013084651A1 (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査イオン顕微鏡および二次粒子制御方法 |
| WO2013129196A1 (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法 |
| JP2015079765A (ja) * | 2014-12-16 | 2015-04-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| US9165741B2 (en) | 2011-09-21 | 2015-10-20 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for inspecting or observing sample |
-
1992
- 1992-02-21 JP JP4070055A patent/JPH05234552A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006147430A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Hokkaido Univ | 電子顕微鏡 |
| JP2009525581A (ja) * | 2006-02-02 | 2009-07-09 | シーイービーティー・カンパニー・リミティッド | 電子カラム用真空度差維持器具 |
| US8912506B2 (en) | 2006-02-02 | 2014-12-16 | Cebt Co., Ltd. | Device for sustaining differential vacuum degrees for electron column |
| JP2007292702A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Jeol Ltd | 試料検査装置及び試料検査方法並びに試料検査システム |
| KR101389660B1 (ko) * | 2011-01-31 | 2014-04-28 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자선 장치 |
| CN103329240A (zh) * | 2011-01-31 | 2013-09-25 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子线装置 |
| JP2012160267A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
| KR101390112B1 (ko) * | 2011-01-31 | 2014-04-29 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자선 장치 |
| WO2012104942A1 (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-09 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| US9543111B2 (en) | 2011-01-31 | 2017-01-10 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device |
| US9165741B2 (en) | 2011-09-21 | 2015-10-20 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for inspecting or observing sample |
| KR20150133299A (ko) | 2011-09-21 | 2015-11-27 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자선 장치, 하전 입자선 장치의 조정 방법, 및 시료의 검사 또는 시료의 관찰 방법 |
| US9673020B2 (en) | 2011-09-21 | 2017-06-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device, method for adjusting charged particle beam device, and method for inspecting or observing sample |
| WO2013084651A1 (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査イオン顕微鏡および二次粒子制御方法 |
| US9058959B2 (en) | 2011-12-06 | 2015-06-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning ion microscope and secondary particle control method |
| WO2013129196A1 (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法 |
| JP2015079765A (ja) * | 2014-12-16 | 2015-04-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
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