JP5189256B2 - 電子ビーム照射表面改質装置 - Google Patents
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Description
前記電子ビームハウジングと前記加工ハウジングとが分離して構成され、
前記電子ビーム発生室と前記加工室とが前記出射口と前記入射口とを介して連通し密閉空間が形成されるように前記加工ハウジングを前記電子ビームハウジングに連結させ、かつ、前記加工ハウジングを前記電子ビームハウジングから離脱させるべく、前記加工ハウジング及び前記電子ビームハウジングの双方に設けられた平行に対向する連結面を接近させ、または、離脱するように、前記電子ビームハウジング及び/又は前記加工ハウジングを移動させる連結離脱手段を備えていることを特徴とするものである。
10 電子ビームハウジング
10a 電子ビームハウジング側連結面(下端面)
13 天板
13a 天板孔(第二の出射口)
20 電子銃
21 電子銃筒
21b 筒口(第一の出射口)
22 電子ビーム発生部
25 電子ビーム発生室
30 加工ハウジング
30a 入射口
30d 加工ハウジング側連結面(上端面)
31 加工室
40 開閉ユニット(開閉手段)
42 閉鎖板
42a 孔
43 閉鎖板移動機構部(閉鎖板移動手段)
50 上下移動機構部(連結離脱手段)
60 浮上機構
B 電子ビーム
P 作業者
W 被照射体
Claims (2)
- 被照射体に照射して表面改質を行う電子ビームを発生する電子ビーム発生部を設けた電子ビーム発生室と、該電子ビーム発生室を形成し、前記電子ビームが出射する出射口を有する電子ビームハウジングと、前記出射口から出射された電子ビームが照射される被照射体を収容する加工室を形成し、前記電子ビームが入射する入射口を有する加工ハウジングと、を備えてなる電子ビーム照射表面改質装置において、
前記電子ビームハウジングと前記加工ハウジングとが上下に分離して構成され、
前記電子ビーム発生室と前記加工室とが前記出射口と前記入射口とを介して連通し密閉空間が形成されるように前記加工ハウジングを前記電子ビームハウジングに連結させ、かつ、前記加工ハウジングを前記電子ビームハウジングから離脱させるべく、前記加工ハウジング及び前記電子ビームハウジングの双方に設けられた平行に対向する連結面を接近させ、または、離脱するように、前記電子ビームハウジング及び/又は前記加工ハウジングを上下方向に移動させる連結離脱手段を備え、前記加工ハウジングが前記電子ビームハウジングから上下方向に離脱しているとき、前記電子ビームハウジング及び/又は前記加工ハウジングが前記連結面に平行な平面上で移動可能に構成され、
前記電子ビームハウジングの前記出射口を開閉する開閉手段を備え、
前記開閉手段が、前記出射口に対応する孔を有する平坦な閉鎖板と、該閉鎖板を前記出射口と前記孔とが重なる位置及び重ならない位置に移動させる閉鎖板移動手段とを備え、
前記閉鎖板移動手段が、前記閉鎖板が前記重なる位置と前記重ならない位置との間で移動するときに斜めに移動することにより、前記閉鎖板の平面方向以外の方向に移動して、前記開閉手段の閉状態において前記電子ビーム発生室と前記閉鎖板とが当接することを特徴とする電子ビーム照射表面改質装置。 - 前記加工ハウジングが、前記電子ビーム発生室側からみて、前記入射口の少なくとも一部を外部に臨ませる位置まで移動可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム照射表面改質装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006186231A JP5189256B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | 電子ビーム照射表面改質装置 |
CN2007101271744A CN101100703B (zh) | 2006-07-06 | 2007-07-04 | 电子束照射表面改性装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006186231A JP5189256B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | 電子ビーム照射表面改質装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008016306A JP2008016306A (ja) | 2008-01-24 |
JP5189256B2 true JP5189256B2 (ja) | 2013-04-24 |
Family
ID=39035150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006186231A Expired - Fee Related JP5189256B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | 電子ビーム照射表面改質装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5189256B2 (ja) |
CN (1) | CN101100703B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10807187B2 (en) * | 2015-09-24 | 2020-10-20 | Arcam Ab | X-ray calibration standard object |
JP6744694B1 (ja) * | 2019-12-03 | 2020-08-19 | 株式会社ソディック | 表面改質装置および表面改質方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2819165A1 (de) * | 1978-05-02 | 1979-11-15 | Siemens Ag | Rasterelektronenmikroskop |
JPH0447890Y2 (ja) * | 1985-07-12 | 1992-11-11 | ||
CN1038262C (zh) * | 1993-07-03 | 1998-05-06 | 中国科学院物理研究所 | 脉冲高能量密度等离子体用于材料表面处理的方法 |
US5789748A (en) * | 1997-05-29 | 1998-08-04 | Stanford University | Low voltage electron beam system |
JP2001242300A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-07 | Sony Corp | 電子ビーム照射装置 |
JP4028255B2 (ja) * | 2002-02-26 | 2007-12-26 | ソニー株式会社 | 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法 |
JP2004335667A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-11-25 | Tokyo Electron Ltd | 表面処理装置 |
-
2006
- 2006-07-06 JP JP2006186231A patent/JP5189256B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2007
- 2007-07-04 CN CN2007101271744A patent/CN101100703B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101100703A (zh) | 2008-01-09 |
JP2008016306A (ja) | 2008-01-24 |
CN101100703B (zh) | 2010-10-27 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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