WO2021240921A1 - 電子線照射装置及び電子線照射装置の製造方法 - Google Patents

電子線照射装置及び電子線照射装置の製造方法 Download PDF

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window
beam irradiation
window foil
hole
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剛明 服部
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浜松ホトニクス株式会社
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    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices
    • G21K5/04Irradiation devices with beam-forming means

Definitions

  • the present disclosure relates to an electron beam irradiator and a method for manufacturing an electron beam irradiator.
  • the electron beam irradiation window portion is provided (see Patent Document 1).
  • the electron beam irradiation window portion has a support member having a mesh portion covering the electron beam passing portion and an electron beam arranged on the mesh portion and passing through the electron beam passing portion. It has a window foil member which is a metal film to be transmitted.
  • the electron beam irradiation device as described above is used by exhausting air from the housing so that the inside of the housing becomes a vacuum. Therefore, the electron beam irradiation window portion needs to be configured with a window foil member arranged on the mesh portion so as to maintain the strength (compressive strength) for withstanding the pressure difference between the vacuum inside the housing and the outside. There is.
  • the window foil member exhibits sufficient pressure resistance depending on the configuration of the mesh portion of the support member that supports the force acting on the window foil member due to the pressure difference. It may not be possible.
  • the electron beam irradiating device includes an electron beam generating section for generating an electron beam, a housing section provided with an electron beam passing section for passing an electron beam generated from the electron beam generating section, and an electron beam passing section.
  • the electron beam irradiation window portion is provided with a support member having a mesh portion covering the electron beam passing portion, and the electron beam irradiation window portion is arranged on the mesh portion and has passed through the electron beam passing portion. It has a window foil member which is a metal film for transmitting a line, and the support member and the window foil member extend in a predetermined direction as a longitudinal direction, and the mesh portion has a through hole having an opening diameter R (mm).
  • the opening diameter R and the thickness t (mm) of the window foil member satisfy the relational expression of R ⁇ 3334t.
  • the maximum opening dimension R of the through hole and the thickness t of the window foil member satisfy the relational expression of R ⁇ 3334t. Since the mesh portion is configured to include such a through hole, the stress generated in the window foil member arranged on the mesh portion when the inside of the housing portion is made into a vacuum space has a constant pressure resistance. It can be less than or equal to the predetermined allowable stress value to be exerted. Therefore, the life of the window foil member can be extended.
  • the method for manufacturing an electron beam irradiating device includes an electron beam generating section for generating an electron beam, a housing section provided with an electron beam passing section for passing an electron beam generated from the electron beam generating section, and an electron.
  • the electron beam irradiation window portion is provided with an electron beam irradiation window portion arranged in the line passing portion, and the electron beam irradiation window portion is arranged on a mesh portion and a support member having a mesh portion covering the electron beam passing portion, and provides an electron beam passing portion.
  • a method for manufacturing an electron beam irradiator which comprises a window foil member which is a metal film for transmitting a passed electron beam, and the support member and the window foil member extend in a predetermined direction as a longitudinal direction.
  • a step of preparing a support member satisfying the above conditions, a step of arranging the window foil member on the mesh portion, and a step of exhausting the window foil member from the housing portion so as to create a vacuum inside the housing portion are provided.
  • the method for manufacturing an electron beam irradiator according to the present disclosure includes a step of preparing a support member in the mesh portion in which the maximum opening dimension R of the through hole and the thickness t of the window foil member satisfy the relational expression of R ⁇ 3334t. I'm out.
  • the mesh portion is configured to include such a through hole, it is arranged on the mesh portion when the inside of the housing portion is made into a vacuum space by the step of exhausting from the housing portion.
  • the stress generated in the window foil member can be set to be equal to or less than a predetermined allowable stress value that exhibits a certain compressive strength. Therefore, the life of the window foil member can be extended.
  • the opening shape of the through hole is circular, and the longest opening dimension R may be the diameter of the through hole. In this case, it becomes easy to form the through hole by a mechanical method using, for example, a tool or the like.
  • the opening shape of the through hole is a polygon, and the longest opening dimension R may be the diameter of a virtual circumscribed circle of the polygon.
  • the diameter of the virtual circumscribed circle of the polygon as the longest opening dimension R, it is possible to improve the opening ratio of the through hole in the mesh portion while extending the life of the window foil member.
  • the opening shape of the through hole is an ellipse, and the longest opening dimension R may be the major axis of the ellipse.
  • the longest opening dimension R by regarding the major axis of the ellipse as the longest opening dimension R, it is possible to extend the life of the window foil member and improve the amount of electron beam transmission per through hole.
  • the longest opening dimension R and the thickness t of the window foil member may further satisfy the relational expression of t ⁇ R.
  • the opening area of the through hole is equal to or larger than a certain level, it is possible to achieve both the electron beam irradiation performance and the extension of the life of the window foil member.
  • the mesh portion may consist of a plurality of through holes having the longest opening dimension R satisfying the relational expression.
  • the life of the window foil member can be extended more reliably than in the case where such a plurality of through holes are included only in a part of the mesh portion.
  • the life of the window foil member can be extended.
  • FIG. 1 is a perspective view of the electron beam irradiation device according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the internal structure of the electron beam irradiation device of FIG.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG.
  • FIG. 4 is an exploded perspective view of the window member.
  • FIG. 5 is an enlarged perspective view of a through hole in the mesh portion.
  • FIG. 6 is a conceptual diagram of a calculation example of stress generated in a window foil member.
  • FIG. 7 is a diagram showing the results of a pressure resistance experiment of the window foil member.
  • FIG. 8 is a diagram showing an existing range of thickness of the window foil member.
  • FIG. 1 is a perspective view of the electron beam irradiation device according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the internal structure of the electron beam irradiation device of FIG.
  • FIG. 3 is a cross-sectional
  • FIG. 9 is a flowchart showing a method of manufacturing an electron beam irradiation device.
  • FIG. 10A is a schematic view showing a modified example of the through hole.
  • FIG. 10B is a schematic view showing another modification of the through hole.
  • FIG. 11 is a side sectional view of the electron beam irradiation device according to the second embodiment.
  • the electron beam irradiation device 1 shown in FIG. 1 is used to cure, sterilize, or modify the surface of the ink of the irradiation target by irradiating the irradiation target with the electron beam EB.
  • the electron beam emitting side (window member 9 side), which is the side on which the electron beam EB is irradiated by the electron beam irradiating device 1, will be described as the “front side”.
  • the electron beam irradiating device 1 includes a filament unit (electron beam generating portion) 2, a vacuum container (housing portion) 3, a cathode holding member 4, a cathode holding member 5, and a high voltage introduction. It includes an insulating member 7, an insulating support member 8, and a window member (electron beam irradiation window portion) 9.
  • the filament unit 2 is an electron beam generating unit that generates an electron beam EB.
  • the filament unit 2 is a long unit.
  • the vacuum container 3 is made of a conductive material such as metal.
  • the vacuum container 3 has a substantially cylindrical shape.
  • the vacuum vessel 3 forms a substantially columnar vacuum space VR inside.
  • the filament unit 2 is arranged inside the vacuum vessel 3 along the axial direction of a substantially columnar vacuum space VR.
  • An electron beam passing portion 3a which is an opening connecting the vacuum space VR and the external space, is provided at a position on the front side of the filament unit 2 in the vacuum container 3.
  • the electron beam passing portion 3a is an electron beam passing portion through which the electron beam EB generated from the filament unit 2 is passed.
  • the window member 9 is fixed to the electron beam passing portion 3a so as to cover the entire window member 9 and vacuum-seal. The details of the window member 9 will be described later.
  • An exhaust port 3b for exhausting the air in the vacuum vessel 3 is provided at a position on the rear side of the filament unit 2 in the vacuum vessel 3.
  • a vacuum pump (not shown) is connected to the exhaust port 3b, and the air in the vacuum container 3 is discharged by the vacuum pump.
  • the inside of the vacuum container 3 becomes a vacuum space VR.
  • the openings 3c and 3d (see FIG. 2) at both ends of the vacuum vessel 3 having a substantially cylindrical shape are closed by the flange portion 7a and the lid portion 3e of the high voltage introduction insulating member 7, respectively.
  • the pair of cathode holding members 4 and 5 that serve as the cathode potential are arranged in the vacuum vessel 3, respectively.
  • a part of the filament unit 2 is formed between the cathode holding member 4 and the cathode holding member 5, and a surrounding electrode 6 which is a cathode potential is provided.
  • the surrounding electrode 6 is a conductive and long member having a substantially C-shaped cross section.
  • the surrounding electrode 6 is arranged so that the opening having a substantially C-shaped cross section faces the front side (window member 9 side).
  • the surrounding electrode 6 houses the filament 10 (see FIG. 3) in the inner portion.
  • the filament unit 2 is inserted into the surrounding electrode 6 through the insertion holes provided in the cathode holding member 5 and the insulating support member 8 in a state where the lid portion 3e of the vacuum container 3 is removed. It is held by the surrounding electrode 6.
  • the high voltage introduction insulating member 7 is provided at the end of the vacuum vessel 3 on the opening 3c side. One end of the high voltage introduction insulating member 7 projects to the outside of the vacuum vessel 3 through the opening 3c.
  • the high voltage introduction insulating member 7 has a flange portion 7a overhanging to the outside, and seals the opening portion 3c of the vacuum vessel 3.
  • the high voltage introduction insulating member 7 is formed of an insulating material (for example, an insulating resin such as an epoxy resin, ceramic, or the like).
  • the cathode holding member 4 holds the other end of the high voltage introduction insulating member 7 in a state of being electrically insulated from the vacuum vessel 3 which is the ground potential.
  • the high voltage introduction insulating member 7 is a high withstand voltage type connector for receiving a high voltage supply from an external power supply device of the electron beam irradiation device 1.
  • a high voltage supply plug is inserted into the high voltage introduction insulating member 7 from a power supply device (not shown).
  • the internal wiring is covered with an insulating material constituting the high voltage introduction insulating member 7, and insulation with the vacuum vessel 3 is ensured.
  • the insulating support member 8 is provided at the end portion of the vacuum vessel 3 on the opening 3d side (the end portion on the lid portion 3e side).
  • the insulating support member 8 is formed of an insulating material (for example, an insulating resin such as an epoxy resin, ceramic, or the like).
  • the cathode holding member 5 holds the insulating support member 8 in a state of being electrically insulated from the vacuum container 3.
  • the filament unit 2 includes a surrounding electrode 6, a filament 10, and a grid electrode 12.
  • the filament 10 is an electron emitting unit that emits an electron that becomes an electron beam EB when heated by energization.
  • the filament 10 is a linear member.
  • the filament 10 extends on a desired axis extending along the longitudinal direction of the vacuum vessel 3 (the axial direction of the vacuum space VR).
  • the filament 10 is formed of a refractory metal material, for example, a material containing tungsten as a main component.
  • the grid electrode 12 is arranged on the front side of the filament 10 so as to cover the opening of the surrounding electrode 6. A plurality of holes are formed in the grid electrode 12.
  • the filament 10 emits electrons when a high negative voltage such as minus several 100 kV or more and minus several 10 kV or less is applied in a state of being heated by energization.
  • a predetermined voltage is applied to the grid electrode 12.
  • a voltage on the positive side of 100 V or more and 150 V or less may be applied to the grid electrode 12 with respect to the negative voltage applied to the filament 10.
  • the grid electrode 12 forms an electric field for drawing out electrons and suppressing diffusion. As a result, the electrons emitted from the filament 10 are emitted forward as electron beams EB from the holes provided in the grid electrode 12.
  • the range in which the difference (tube voltage) between the voltage of the grid electrode 12 and the voltage of the filament 10 can be set is 40 kV or more and 100 kV or less, 40 kV or more and 110 kV or less, 40 kV or more and 120 kV or less, 40 kV or more and 130 kV or less, 40 kV or more and 140 kV. It may be 50 kV or more and 100 kV or less, 50 kV or more and 110 kV or less, 50 kV or more and 120 kV or less, 50 kV or more and 130 kV or less, and 50 kV or more and 140 kV or less.
  • FIG. 4 is an exploded perspective view of the window member.
  • the window member 9 includes a window foil (window foil member) 9a, a support (support member) 9b, a window flange 9c, a sealing material 9d, and a holding flange 9e. doing.
  • the window flange 9c is attached so as to cover the electron beam passing portion 3a of the vacuum container 3.
  • a window foil 9a, a support 9b, and a sealing material 9d are arranged in the inner region of the window member 9. That is, the window foil 9a, the support 9b, and the sealing material 9d are arranged so as to fit inside the window member 9 when the window member 9 is viewed from the front side.
  • the window flange 9c and the holding flange 9e are made of, for example, oxygen-free copper.
  • the window flange 9c and the holding flange 9e may be made of a material containing copper.
  • the window flange 9c and the holding flange 9e have a rectangular frame-shaped outer shape with the axial direction of the vacuum space VR as the longitudinal direction.
  • a groove extending so as to surround the support 9b is provided on the outside of the region where the support 9b is arranged on the front surface of the window flange 9c.
  • a sealing material 9d which is an airtight sealing member, is arranged in the groove.
  • a resin O-ring can be used as the sealing material 9d.
  • the window foil 9a is a metal film formed in the form of a thin film.
  • the window foil 9a allows the electron beam EB that has passed through the electron beam passing portion 3a to pass through.
  • a material having excellent transparency of the electron beam EB for example, beryllium, titanium, aluminum, etc.
  • the window foil 9a here is a titanium foil as an example.
  • the window foil 9a is arranged on the mesh portion 9m so as to be in contact with the mesh portion 9m of the support 9b.
  • the window foil 9a extends in the axial direction (predetermined direction) of the vacuum space VR as the longitudinal direction.
  • the thickness of the window foil 9a is expressed as, for example, a thickness t (mm).
  • the thickness t is, for example, in the range of 1 ⁇ 10 -3 mm or more and 1 ⁇ 10 ⁇ 2 mm or less.
  • the value of the thickness t does not necessarily have to be an actually measured value, and may be a nominal value as a specification of the window foil 9a.
  • the support 9b is a flat plate-shaped member that supports the window foil 9a.
  • the support 9b is arranged on the vacuum space VR side with respect to the window foil 9a.
  • the support 9b is a mesh-like member.
  • the support 9b extends in the axial direction (predetermined direction) of the vacuum space VR as the longitudinal direction.
  • As the material of the support 9b for example, copper, titanium, or aluminum can be used.
  • the support 9b has a mesh portion 9m that covers the electron beam passing portion 3a.
  • the mesh portion 9m is composed of, for example, a plurality of through holes 9h.
  • the through hole 9h is a hole for passing the electron beam EB from the inside to the outside of the vacuum container 3.
  • the window flange 9a, the support 9b, and the sealing material 9d are pressed against the window flange 9c, and are airtightly fixed to the window flange 9c by, for example, a plurality of bolts. ing.
  • FIG. 5 is an enlarged perspective view of a through hole in the mesh portion. As shown in FIG. 5, a plurality of through holes 9h are arranged side by side in a matrix in the mesh portion 9m. The arrangement of the plurality of through holes 9h is not limited to this example, and a known arrangement can be adopted.
  • the opening shape of the through hole 9h is, for example, a circle with a diameter of R (mm).
  • through holes 9h having the same shape and the same diameter are formed in the mesh portion 9m.
  • the plurality of through holes 9h can be formed by mechanically sequentially drilling holes using a tool such as a drill having a diameter R (mm).
  • the edges of the plurality of through holes 9h may be appropriately chamfered so as not to damage the window foil 9a.
  • the diameter R of the plurality of through holes 9h is the longest opening dimension in the circular opening.
  • the longest opening dimension means the dimension of the straight line region having the longest opening in the opening shape when focusing on one of the through holes 9h.
  • the longest opening dimension corresponds to the diameter of the circle for a circular opening.
  • the maximum opening dimension R (mm) of all the through holes 9h is a common value.
  • the longest opening dimensions R different from each other may exist for the plurality of through holes 9h.
  • the maximum opening dimension R provides sufficient pressure resistance to the window foil 9a by appropriately supporting the force acting on the window foil 9a due to the pressure difference when the inside of the vacuum container 3 is a vacuum space VR. It is set to be demonstrated.
  • the window is formed only by the force acting on the window foil 9a due to the pressure difference.
  • the foil 9a may be damaged.
  • the damage of the window foil 9a also depends on the temperature (for example, heat history) applied to the window foil 9a. For example, when the window foil 9a transmits the electron beam EB, at least a part of the electron beam EB cannot pass through the window foil 9a and is absorbed by the window foil 9a. By being heated by the heat generated at that time, it is oxidized over time and gradually becomes fragile.
  • the window foil 9a may be easily damaged due to stress as compared with the case before oxidation over time. Therefore, even if the maximum opening dimension R is not excessive, when the inside of the vacuum vessel 3 is a vacuum space VR in the portion where the temperature becomes high due to the electron beam EB in the mesh portion 9 m, the window foil 9a is used. Even if the damage does not occur, the window foil 9a may be damaged as the electron beam irradiation device 1 is driven. Therefore, from the viewpoint of extending the life of the window foil 9a, it is considered useful to set the maximum opening dimension R so that the window foil 9a is less likely to be damaged due to the driving of the electron beam irradiation device 1.
  • the maximum opening dimension R of the plurality of through holes 9h and the thickness t of the window foil 9a satisfy the following relational expression (1).
  • FIG. 6 is a conceptual diagram of a calculation example of stress generated in a window foil member.
  • the stress acting on the window foil 9a due to the pressure difference is the window foil 9a when the window foil 9a is regarded as a double-sided beam in a cross-sectional view including a linear region having the longest opening dimension R. It can be approximated as if an evenly distributed load corresponding to the pressure p acts on the window.
  • the stress acting on the window foil 9a due to the pressure difference can be approximately calculated using the stress and load equations at the center of the window foil 9a such as the following equations (2) and (3).
  • D in the formula (3) is given by the formula (4).
  • r is half the distance (mm) between the support points of the window foil 9a, and is half the longest opening dimension R.
  • is Poisson's ratio.
  • t is the thickness (mm) of the window foil 9a.
  • E Young's modulus.
  • FIG. 7 is a diagram showing the results of a pressure resistance experiment of the window foil member.
  • a support 9b having a through hole 9h having a through hole 9h having an opening diameter of one of a plurality of opening diameters as the maximum opening dimension R is formed in a mesh portion 9m, and the inside of the vacuum container 3 is a vacuum space.
  • the thickness of the window foil 9a is 3 ⁇ 10 -3 mm and 5 ⁇ 10 -3 mm.
  • “Damage after vacuum exhaust” means that the window foil 9a is damaged within 1000 hours after vacuum exhaust.
  • Non-damaged after vacuum exhaust means that 1000 hours have passed after vacuum exhaust without causing damage to the window foil 9a.
  • FIG. 8 is a diagram showing the existence range of the thickness of the window foil member.
  • the horizontal axis of FIG. 8 is the thickness of the window foil 9a, and the vertical axis is the opening diameter of the through hole 9h (the longest opening dimension R).
  • the longest opening dimension R and the thickness t of the window foil member may further satisfy the relational expression of t ⁇ R. From the viewpoint of increasing the transmission area of the electron beam EB, it is required not to make the maximum opening dimension R too small. Therefore, by setting the lower limit value of the maximum opening dimension R to t, it is possible to achieve both a long life of the window foil 9a and a transmission area of the electron beam EB.
  • the lower limit of R as a specific numerical value is 0.001 mm.
  • FIG. 9 is a flowchart showing a method of manufacturing an electron beam irradiation device.
  • Each step shown in FIG. 9 is, for example, in the electron beam irradiating device 1 shown in FIG. 1, in a situation where the window member 9 to be arranged in the electron beam passing portion 3a is prepared, the operator of manufacturing the electron beam irradiating device 1 Is executed by.
  • the manufacturing method of the electron beam irradiation device 1 includes a step S01 for preparing the window foil 9a, a step S02 for preparing the support 9b, and a step for arranging the window foil 9a on the mesh portion 9m. S03 and step S04 for exhausting from the vacuum container 3 are provided.
  • step S01 the operator prepares a window foil 9a having a thickness t.
  • the window foil 9a here is, for example, a titanium foil cut into the shape of the window foil 9a.
  • the thickness t is not particularly limited, but may be, for example, 3 ⁇ 10 -3 mm or 5 ⁇ 10 -3 mm.
  • step S02 the operator installs a support 9b in the mesh portion 9m including the through hole 9h, in which the longest opening dimension R of the through hole 9h and the thickness t of the window foil 9a satisfy the relational expression t ⁇ R ⁇ 3334t.
  • the operator may form, for example, a through hole 9h having a circular opening shape with a diameter of R (mm) in the mesh portion 9m.
  • the operator may specify the maximum opening dimension R of the through hole 9h by the dimension of a tool or the like for forming the through hole 9h, for example, a drill, or may be specified by a mask when it is formed by etching. ..
  • the operator may appropriately measure the diameter R (mm) of the through holes 9h in the chamfering step of the edges of the plurality of through holes 9h.
  • the arrangement of the plurality of through holes 9h of the mesh portion 9m may be, for example, a matrix shape.
  • the arrangement of the plurality of through holes 9h is not limited to this example. It is not always necessary to satisfy the relational expression of t ⁇ R.
  • step S03 the worker arranges the window foil 9a on the mesh portion 9 m.
  • the operator places the window foil 9a on the mesh portion 9m so as to come into contact with the mesh portion 9m of the support 9b.
  • the operator arranges the window foil 9a on the mesh portion 9m so as to cover all of the through holes 9h of the mesh portion 9m.
  • step S04 the operator exhausts air from the vacuum container 3 so that the inside of the vacuum container 3 becomes a vacuum.
  • the maximum opening dimension R of the through hole 9h and the thickness t of the window foil 9a satisfy the above relational expression (1) of R ⁇ 3334t. .. Since the mesh portion 9m is configured to include such a through hole 9h, the stress generated in the window foil 9a arranged on the mesh portion 9m when the inside of the vacuum container 3 is a vacuum space VR is constant. It can be set to a predetermined allowable stress value or less that exhibits the withstand voltage strength of. Therefore, the life of the window foil 9a can be extended.
  • the opening shape of the through hole 9h is circular, and the longest opening dimension R is the diameter of the through hole 9h. According to this configuration, it becomes easy to form the through hole 9h by a mechanical method using, for example, a tool or the like (for example, a drill).
  • the support 9b has a mesh portion 9m provided with a through hole 9h having a desired diameter even when a metal plate having a certain thickness is used so that the support 9b can obtain a desired mechanical strength.
  • the support 9b can be created.
  • the longest opening dimension R and the thickness t of the window foil member further satisfy the relational expression of t ⁇ R. According to this configuration, since the opening area of the through hole 9h is equal to or larger than a certain level, it is possible to achieve both the irradiation performance of the electron beam EB and the extension of the life of the window foil 9a.
  • the mesh portion 9m is composed of a plurality of through holes 9h having the longest opening dimension R satisfying the above relational expression (1). According to this configuration, the life of the window foil 9a can be more reliably extended as compared with the case where such a plurality of through holes 9h are included only in a part of the mesh portion 9m.
  • a support 9b is prepared in which the maximum opening dimension R of the through hole 9h and the thickness t of the window foil 9a satisfy the above relational expression (1) of R ⁇ 3334t in the mesh portion 9m.
  • Step S02 is included. Since the mesh portion 9m is configured to include such a through hole 9h by this step S02, the mesh is formed when the inside of the vacuum container 3 is made into a vacuum space VR by the step S04 of exhausting from the vacuum container 3.
  • the stress generated in the window foil 9a arranged on the portion 9m can be set to be equal to or less than a predetermined allowable stress value exhibiting a certain pressure resistance strength. Therefore, the life of the window foil 9a can be extended.
  • FIG. 11 is a side sectional view of the electron beam irradiation device 1A according to the second embodiment.
  • the electron beam irradiation window portion exemplified as the window member 9 in the first embodiment can also be applied to the electron beam irradiation device 1A as shown in FIG. ..
  • the electron beam irradiator 1A airtightly closes the chamber (housing portion) 30 forming the electron beam passing region 20 and the rear end 20a of the electron beam passing region 20.
  • the electron gun (electron beam generating portion) 40 attached and the electron beam transmitting unit (electron beam irradiation window portion) 50 airtightly attached to the chamber 30 so as to close the front end 20b of the electron beam passing region 20 are provided. ing.
  • the electron beam EB generated by the electron gun 40 travels forward in the electron beam passing region 20 in the Z-axis direction, passes through the electron beam transmitting unit 50, and is emitted to the outside.
  • the side on which the electron beam EB is irradiated by the electron beam irradiation device 1A is the front side, and the opposite side is the rear side.
  • the chamber 30 has a metal cylindrical portion 31 to which the electron gun 40 is attached.
  • the cylindrical portion 31 is provided with an alignment coil 21 and a focusing coil 22.
  • the electron beam EB emitted from the electron gun 40 is adjusted by the alignment coil 21 so that the center line of the electron beam EB coincides with the center line CL of the electron beam passing region 20, and then the electron beam is transmitted by the focusing coil 22. Focused on the unit 50.
  • the columnar portion 31 is provided with an exhaust pipe 23 to which a vacuum pump is connected. As a result, the inside of the chamber 30 (that is, the electron beam passing region 20) is evacuated.
  • the chamber 30 has a deflection tube (housing portion) 32.
  • the deflection tube 32 has, for example, a square columnar outer shape.
  • the electron beam passing region 24 is a portion of the electron beam passing region 20 formed by the deflection tube 32.
  • the cross section of the electron beam passing region 24 has a rectangular shape with the Y-axis direction as the longitudinal direction.
  • a deflection coil 25 for deflecting the electron beam EB passing through the inside of the deflection tube 32 is attached to the outside of the deflection tube 32.
  • the electron beam EB focused by the focusing coil 22 and passing through the electron beam passing region 24 is deflected in the Y-axis direction by the deflection coil 25.
  • the chamber 30 has a scanning tube (housing portion) 33 fixed to the front end surface of the deflection tube 32.
  • the scanning tube 33 has a square columnar outer shape that expands toward the front side.
  • the electron beam passing region 26 is a portion of the electron beam passing region 20 formed by the scanning tube 33.
  • the cross section of the electron beam passing region 26 has a rectangular shape with the Y-axis direction as the longitudinal direction.
  • a flange 34 is provided at the front end of the scanning tube 33.
  • the electron beam transmission unit 50 is fixed to the scanning tube 33 so as to cover and seal the electron beam passing portion 20c of the front end 20b of the electron beam passing region 20.
  • the scanning tube 33 and the electron beam transmitting unit 50 are airtightly fixed by, for example, a plurality of bolts in a state where the flange 34 and the window frame body 50A are in contact with each other via an O-ring.
  • the detailed configuration of the electron beam transmission unit 50 is the same as that of the main part of the configuration of the window member 9 of the first embodiment, except for the configuration change such as the shape and dimensions accompanying the attachment to the flange 34. Therefore, duplicate explanations will be omitted.
  • each step shown in FIG. 9 is, for example, in the electron beam irradiation device 1A shown in FIG. 11, the electron beam transmission unit 50 arranged in the electron beam passing portion 20c. In the situation of preparation, it is carried out by a worker who manufactures the electron beam irradiation device 1A.
  • the details of the manufacturing method of the electron beam irradiation device 1A are the same as those of each step shown in FIG. 9 except that the vacuum vessel 3 is replaced with the chamber 30 in step S04, and thus the overlapping description will be omitted.
  • the maximum opening dimension R of the through hole 9h and the thickness t of the window foil 9a are the above relational expressions of R ⁇ 3334t. 1) is satisfied. Since the mesh portion 9m is configured to include such a through hole 9h, the stress generated in the window foil 9a arranged on the mesh portion 9m when the inside of the chamber 30 is made into a vacuum space has a constant pressure resistance. It can be less than or equal to a predetermined allowable stress value that exerts strength. Therefore, the life of the window foil 9a can be extended.
  • the opening shape of the through hole 9h is circular, and the longest opening dimension R is the diameter of the through hole 9h. According to this configuration, it becomes easy to form the through hole 9h by a mechanical method using, for example, a tool or the like (for example, a drill).
  • the support 9b has a mesh portion 9m provided with a through hole 9h having a desired diameter even when a metal plate having a certain thickness is used so that the support 9b can obtain a desired mechanical strength.
  • the support 9b can be created.
  • the longest opening dimension R and the thickness t of the window foil member further satisfy the relational expression of t ⁇ R. According to this configuration, since the opening area of the through hole 9h is equal to or larger than a certain level, it is possible to achieve both the irradiation performance of the electron beam EB and the extension of the life of the window foil 9a.
  • the mesh portion 9m is composed of a plurality of through holes 9h having the longest opening dimension R satisfying the above relational expression (1). According to this configuration, the life of the window foil 9a can be more reliably extended as compared with the case where such a plurality of through holes 9h are included only in a part of the mesh portion 9m.
  • the support 9b in which the maximum opening dimension R of the through hole 9h and the thickness t of the window foil 9a satisfy the above relational expression (1) of R ⁇ 3334t. includes step S02 to prepare. Since the mesh portion 9m is configured to include such a through hole 9h by this step S02, the mesh portion 9m is above the mesh portion 9m when the inside of the chamber 30 is made into a vacuum space by the step S04 of exhausting from the chamber 30.
  • the stress generated in the window foil 9a arranged in the above can be set to be equal to or less than a predetermined allowable stress value exhibiting a certain pressure resistance strength. Therefore, the life of the window foil 9a can be extended.
  • FIG. 10A is a schematic diagram showing a modified example of the through hole.
  • the opening shape of the through hole 9hA may be a polygon (here, a regular hexagon).
  • the longest opening dimension R can be the diameter of a virtual circumscribed circle C1 of a regular hexagon. According to this configuration, the diameter of the virtual circumscribed circle C1 of the polygon is regarded as the longest opening dimension R, so that the life of the window foil 9a is extended and the opening ratio of the through hole 9hA in the mesh portion 9m is improved. can do.
  • FIG. 10B is a schematic view showing another modification of the through hole. As shown in FIG. 10B, the opening shape of the through hole 9hB may be elliptical.
  • the longest opening dimension R can be the major axis of an ellipse. According to this configuration, by regarding the major axis of the ellipse as the longest opening dimension R, it is possible to extend the life of the window foil 9a and improve the amount of electron beam transmission per through hole.
  • the mesh portion 9m is composed of a plurality of through holes 9h satisfying the relational expression (1), but the present invention is not limited to this.
  • the mesh portion 9m may include a plurality of through holes 9h satisfying the above relational expression (1).
  • a part of the mesh portion 9m may be formed of a through hole 9h satisfying the above relational expression (1).
  • the other portion of the mesh portion 9 m may be a through hole that does not necessarily satisfy the above relational expression (1).
  • the longest opening dimension R in the peripheral region of the support 9b may be larger than the central region of the support 9b within the range satisfying the above relational expression (1).
  • the maximum opening dimension R may be different depending on the opening ratio of the through hole 9h in the mesh portion 9m.
  • the aperture ratio means the ratio of the opening area of the through hole 9h to the predetermined unit area of the mesh portion 9m.
  • the aperture ratio of the support 9b in the first embodiment is, for example, about 80% over the entire mesh portion 9m.
  • the maximum opening dimension R As an example of making the maximum opening dimension R different depending on the opening ratio of the through hole 9h in the mesh portion 9m, a region where the opening ratio of the mesh portion 9m is about 60% or more and 80% or less, and an opening of the mesh portion 9m.
  • the maximum opening dimension R satisfies the above relational expression (1).
  • the longest opening dimension R may be a value that does not satisfy the relational expression (1) (that is, R> 3334t).
  • the aperture ratio may be about 30% or more and 50% or less, about 50% or more and 70% or less.
  • the mesh portion 9m is composed of a plurality of through holes 9h, but the present invention is not limited to this.
  • the longest opening dimension as compared with the first and second embodiments is due to the large thickness t. R can be increased.
  • the mesh portion 9 m may be composed of one through hole.
  • Electron beam irradiation device 2 ... Filament unit (electron beam generation part), 3 ... Vacuum container (housing part), 3a, 20c ... Electron beam passage part, 9 ... Window member (electron beam irradiation window part) , 9a ... Window foil (window foil member), 9b ... Support (support member), 9h ... Through hole, 9m ... Mesh part, 30 ... Chamber (housing part), 32 ... Deflection tube (housing part), 33 ... Scan tube (housing part), 40... electron gun (electron beam generation part), 50... electron beam transmission unit (electron beam irradiation window part), EB... electron beam, R... longest opening dimension.

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Abstract

電子線照射装置は、電子線を発生する電子線発生部と、電子線発生部から発生した電子線を通過させる電子線通過部が設けられた筐体部と、電子線通過部に配置された電子線照射窓部と、を備える。電子線照射窓部は、電子線通過部を覆うメッシュ部を有する支持部材と、メッシュ部上に配置され、電子線通過部を通過した電子線を透過させる金属膜である窓箔部材と、を有する。支持部材及び窓箔部材は、所定方向を長手方向として延在しており、メッシュ部は、開口最長寸法R(mm)の貫通孔を含み、開口最長寸法R及び窓箔部材の厚さt(mm)は、R≦3334tの関係式を満たす。

Description

電子線照射装置及び電子線照射装置の製造方法
 本開示は、電子線照射装置及び電子線照射装置の製造方法に関する。
 従来の電子線照射装置として、電子線を発生する電子線発生部と、電子線発生部から発生した電子線を通過させる電子線通過部が設けられた筐体と、電子線通過部に配置された電子線照射窓部と、を備えるものが知られている(特許文献1参照)。特許文献1に記載の電子線照射装置では、電子線照射窓部は、電子線通過部を覆うメッシュ部を有する支持部材と、メッシュ部上に配置され、電子線通過部を通過した電子線を透過させる金属膜である窓箔部材と、を有している。
特開2013-24558号公報
 上述したような電子線照射装置は、筐体内が真空となるように筐体から排気して用いられる。そのため、電子線照射窓部は、筐体内の真空と外部との圧力差に耐えるための強度(耐圧強度)を保持できるように、メッシュ部上に配置された窓箔部材が構成されている必要がある。ここで、適切な窓箔部材の材料が選択されたとしても、圧力差によって窓箔部材に作用する力を支持する支持部材のメッシュ部の構成次第では、窓箔部材が十分な耐圧強度を発揮できないおそれがある。
 本開示は、窓箔部材の長寿命化を図ることができる電子線照射装置及び電子線照射装置の製造方法を提供することを目的とする。
 本開示に係る電子線照射装置は、電子線を発生する電子線発生部と、電子線発生部から発生した電子線を通過させる電子線通過部が設けられた筐体部と、電子線通過部に配置された電子線照射窓部と、を備え、電子線照射窓部は、電子線通過部を覆うメッシュ部を有する支持部材と、メッシュ部上に配置され、電子線通過部を通過した電子線を透過させる金属膜である窓箔部材と、を有し、支持部材及び窓箔部材は、所定方向を長手方向として延在しており、メッシュ部は、開口径R(mm)の貫通孔からなり、開口径R及び窓箔部材の厚さt(mm)は、R≦3334tの関係式を満たす。
 本開示に係る電子線照射装置では、メッシュ部において、貫通孔の開口最長寸法R及び窓箔部材の厚さtが、R≦3334tの関係式を満たしている。メッシュ部がこのような貫通孔を含んで構成されることで、筐体部の内部が真空空間とされた場合にメッシュ部上に配置される窓箔部材に生じる応力を、一定の耐圧強度を発揮する所定の許容応力値以下とすることができる。よって、窓箔部材の長寿命化を図ることができる。
 本開示に係る電子線照射装置の製造方法は、電子線を発生する電子線発生部と、電子線発生部から発生した電子線を通過させる電子線通過部が設けられた筐体部と、電子線通過部に配置された電子線照射窓部と、を備え、電子線照射窓部は、電子線通過部を覆うメッシュ部を有する支持部材と、メッシュ部上に配置され、電子線通過部を通過した電子線を透過させる金属膜である窓箔部材と、を有し、支持部材及び窓箔部材は、所定方向を長手方向として延在している電子線照射装置の製造方法であって、厚さt(mm)の窓箔部材を用意するステップと、貫通孔を含むメッシュ部において、貫通孔の開口最長寸法R(mm)及び窓箔部材の厚さtが、R≦3334tの関係式を満たす支持部材を用意するステップと、メッシュ部上に窓箔部材を配置するステップと、筐体部内が真空となるように筐体部から排気するステップと、を備える。
 本開示に係る電子線照射装置の製造方法では、メッシュ部において、貫通孔の開口最長寸法R及び窓箔部材の厚さtが、R≦3334tの関係式を満たす支持部材を用意するステップを含んでいる。このステップにより、メッシュ部がこのような貫通孔を含んで構成されることとなるため、筐体部から排気するステップによって筐体部の内部が真空空間とされた場合にメッシュ部上に配置される窓箔部材に生じる応力を、一定の耐圧強度を発揮する所定の許容応力値以下とすることができる。よって、窓箔部材の長寿命化を図ることができる。
 貫通孔の開口形状は、円形であり、開口最長寸法Rは、貫通孔の直径であってもよい。この場合、貫通孔を、例えば工具等を用いた機械的手法によって形成することが容易となる。
 貫通孔の開口形状は、多角形であり、開口最長寸法Rは、多角形の仮想的な外接円の直径であってもよい。この場合、多角形の仮想的な外接円の直径を開口最長寸法Rと捉えることで、窓箔部材の長寿命化を図りつつ、メッシュ部における貫通孔の開口率を向上することができる。
 貫通孔の開口形状は、楕円であり、開口最長寸法Rは、楕円の長径であってもよい。この場合、楕円の長径を開口最長寸法Rと捉えることで、窓箔部材の長寿命化を図りつつ、貫通孔あたりの電子線透過量を向上することができる。
 開口最長寸法R及び窓箔部材の厚さtは、t≦Rの関係式を更に満たしてもよい。この場合、貫通孔の開口面積が一定以上となるため、電子線の照射性能と窓箔部材の長寿命化との両立を図ることができる。
 メッシュ部は、関係式を満たす開口最長寸法Rの複数の貫通孔からなってもよい。この場合、このような複数の貫通孔をメッシュ部の一部にのみ含む場合よりも、より確実に窓箔部材の長寿命化を図ることができる。
 本開示によれば、窓箔部材の長寿命化を図ることができる。
図1は、第1実施形態に係る電子線照射装置の斜視図である。 図2は、図1の電子線照射装置の内部構造を示す一部断面図である。 図3は、図1のIII-III線に沿った断面図である。 図4は、窓部材の分解斜視図である。 図5は、メッシュ部の貫通孔の拡大斜視図である。 図6は、窓箔部材に生じる応力の計算例の概念図である。 図7は、窓箔部材の耐圧実験の結果を示す図である。 図8は、窓箔部材の厚さの存在範囲を示す図である。 図9は、電子線照射装置の製造方法を示すフローチャートである。 図10(a)は、貫通孔の変形例を示す模式図である。図10(b)は、貫通孔の他の変形例を示す模式図である。 図11は、第2実施形態に係る電子線照射装置の側断面図である。
 以下、本開示の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、各図において、同一又は相当する要素同士には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
[第1実施形態]
 図1に示される電子線照射装置1は、照射対象物への電子線EBの照射によって当該照射対象物のインキの硬化、滅菌、又は表面改質等を行うために使用される。なお、以下、電子線照射装置1によって電子線EBが照射される側である電子線出射側(窓部材9側)を、「前側」として説明する。
 図1~図3に示されるように、電子線照射装置1は、フィラメントユニット(電子線発生部)2、真空容器(筐体部)3、陰極保持部材4、陰極保持部材5、高電圧導入絶縁部材7、絶縁支持部材8、及び窓部材(電子線照射窓部)9を備えている。フィラメントユニット2は、電子線EBを発生させる電子線発生部である。フィラメントユニット2は、長尺状のユニットとなっている。
 真空容器3は、金属等の導電性材料によって形成されている。真空容器3は、略円筒状を呈している。真空容器3は、内部に略円柱状の真空空間VRを形成する。フィラメントユニット2は、真空容器3の内部において、略円柱状の真空空間VRの軸線方向にそって配置されている。真空容器3におけるフィラメントユニット2の前側の位置には、真空空間VRと外部の空間とをつなぐ開口部である電子線通過部3aが設けられている。電子線通過部3aは、フィラメントユニット2から発生した電子線EBを通過させる電子線通過部である。窓部材9は、電子線通過部3aに対して、その全体を覆って真空封止するように固定されている。窓部材9の詳細については、後述する。
 真空容器3におけるフィラメントユニット2の後ろ側の位置には、真空容器3内の空気を排出するための排気口3bが設けられている。排気口3bに図示しない真空ポンプが接続され、真空ポンプによって真空容器3内の空気が排出される。これにより、真空容器3の内部が真空空間VRとなる。略円筒状を呈する真空容器3の両端の開口部3c及び開口部3d(図2参照)は、高電圧導入絶縁部材7のフランジ部7a及び蓋部3eによってそれぞれ閉じられている。
 陰極電位となる一対の陰極保持部材4及び5は、それぞれ真空容器3内に配置される。陰極保持部材4と陰極保持部材5との間には、フィラメントユニット2の一部を構成し、陰極電位である包囲電極6が設けられている。包囲電極6は、断面略C字状を呈する導電性かつ長尺状の部材である。包囲電極6は、断面略C字状の開口部が前側(窓部材9側)を向くように配置されている。包囲電極6は、内側部分においてフィラメント10(図3参照)を収容する。例えば、フィラメントユニット2は、真空容器3の蓋部3eが取り外された状態において、陰極保持部材5及び絶縁支持部材8に設けられた挿入孔を介して包囲電極6の内側に差し込まれることによって、包囲電極6に保持される。
 高電圧導入絶縁部材7は、真空容器3における開口部3c側の端部に設けられている。高電圧導入絶縁部材7の一方の端部は、開口部3cを介して真空容器3の外部に突出している。高電圧導入絶縁部材7は、外側に張り出すフランジ部7aを有し、真空容器3の開口部3cを封止する。高電圧導入絶縁部材7は、絶縁材料(例えばエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂、セラミック等)によって形成されている。陰極保持部材4は、接地電位である真空容器3に対して電気的に絶縁された状態で高電圧導入絶縁部材7の他方の端部を保持する。
 また、高電圧導入絶縁部材7は、電子線照射装置1の外部の電源装置から高電圧の供給を受けるための高耐電圧型のコネクタである。高電圧導入絶縁部材7には、図示しない電源装置から高電圧供給用プラグが挿入される。高電圧導入絶縁部材7の内部には、外部から供給された高電圧をフィラメントユニット2に供給するための内部配線が設けられている。内部配線は、高電圧導入絶縁部材7を構成する絶縁材料によって覆われており、真空容器3との絶縁が確保されている。
 絶縁支持部材8は、真空容器3における開口部3d側の端部(蓋部3e側の端部)に設けられている。絶縁支持部材8は、絶縁材料(例えばエポキシ樹脂等の絶縁性樹脂、セラミック等)によって形成されている。陰極保持部材5は、真空容器3に対して電気的に絶縁された状態で絶縁支持部材8を保持する。
 図3に示されるように、フィラメントユニット2は、包囲電極6、フィラメント10、及びグリッド電極12を備えている。
 フィラメント10は、通電によって加熱されることで電子線EBとなる電子を放出する電子放出部である。フィラメント10は、線状の部材である。フィラメント10は、真空容器3の長軸方向(真空空間VRの軸線方向)に沿って延びる所望の軸線上において延在している。フィラメント10は、高融点金属材料、例えばタングステンを主成分とした材料等によって形成されている。
 グリッド電極12は、フィラメント10の前側に包囲電極6の開口部を覆うように配置されている。グリッド電極12には、複数の孔が形成されている。
 フィラメント10は、通電によって加熱された状態で、マイナス数100kV以上マイナス数10kV以下といった高い負電圧が印加されることにより、電子を放出する。グリッド電極12には、所定の電圧が印加される。例えば、グリッド電極12には、フィラメント10に印加される負電圧よりも100V以上150V以下程度プラス側の電圧が印加されてもよい。グリッド電極12は、電子を引き出すとともに拡散を抑制するための電界を形成する。これにより、フィラメント10から放出された電子は、グリッド電極12に設けられた孔から電子線EBとして前側に出射される。
 なお、グリッド電極12の電圧とフィラメント10の電圧との差(管電圧)の設定し得る範囲としては、40kV以上100kV以下,40kV以上110kV以下,40kV以上120kV以下,40kV以上130kV以下,40kV以上140kV以下であってもよいし、50kV以上100kV以下,50kV以上110kV以下,50kV以上120kV以下,50kV以上130kV以下,50kV以上140kV以下であってもよい。
 次に、窓部材9の詳細について説明する。図4は、窓部材の分解斜視図である。図4に示されるように、窓部材9は、窓箔(窓箔部材)9aと、支持体(支持部材)9bと、窓フランジ9cと、封止材9dと、押さえフランジ9eと、を有している。
 窓部材9では、窓フランジ9cが真空容器3の電子線通過部3aを覆うように取り付けられている。窓部材9の内側領域には、窓箔9a、支持体9b、及び封止材9dが配置されている。つまり、窓部材9を前側から見た場合に窓部材9内に収まるように、窓箔9a、支持体9b、及び封止材9dが配置されている。窓フランジ9c及び押さえフランジ9eは、例えば無酸素銅からなる。窓フランジ9c及び押さえフランジ9eは、銅を含む材料からなっていてもよい。窓フランジ9c及び押さえフランジ9eは、真空空間VRの軸線方向を長手方向とする長方形枠状の外形を有している。
 窓フランジ9cの前面において支持体9bが配置される領域の外側には、支持体9bを包囲するように延在する溝が設けられている。溝内には、気密封止部材である封止材9dが配置されている。封止材9dは、例えば樹脂製のOリングを用いることができる。
 窓箔9aは、薄膜状に形成された金属膜である。窓箔9aは、電子線通過部3aを通過した電子線EBを透過させる。窓箔9aの材料としては、電子線EBの透過性に優れた材料(例えば、ベリリウム、チタン、アルミニウム等)が用いられる。ここでの窓箔9aは、一例としてチタン箔である。窓箔9aは、支持体9bのメッシュ部9mと接触するように、メッシュ部9m上に配置されている。窓箔9aは、真空空間VRの軸線方向(所定方向)を長手方向として延在している。窓箔9aの厚さは、例えば厚さt(mm)と表される。厚さtは、例えば1×10-3mm以上1×10-2mm以下の範囲となっている。厚さtの値は、必ずしも実測値でなくてもよく、窓箔9aの仕様としての公称値であってもよい。
 支持体9bは、窓箔9aを支持する平板状の部材である。支持体9bは、窓箔9aよりも真空空間VR側に配置されている。支持体9bは、メッシュ状の部材である。支持体9bは、真空空間VRの軸線方向(所定方向)を長手方向として延在している。支持体9bの材料は、例えば銅、チタン、又はアルミニウムを用いることができる。支持体9bは、電子線通過部3aを覆うメッシュ部9mを有する。メッシュ部9mは、例えば複数の貫通孔9hからなる。貫通孔9hは、真空容器3の内側から外側に電子線EBを通過させるための孔である。
 以上のような構成を有する窓部材9では、窓フランジ9cに対して窓箔9a、支持体9b、及び封止材9dを押圧した状態で、例えば複数のボルトにより窓フランジ9cに気密に固定されている。
 メッシュ部9mの構成について、より詳しく説明する。図5は、メッシュ部の貫通孔の拡大斜視図である。図5に示されるように、メッシュ部9mには、複数の貫通孔9hがマトリクス状に並設されている。複数の貫通孔9hの配置は、この例に限定されず、公知の配置を採用することができる。
 貫通孔9hの開口形状は、一例として直径がR(mm)の円形である。ここでは、同一形状および同一の直径の貫通孔9hがメッシュ部9mに形成されている。この場合、複数の貫通孔9hは、直径R(mm)のドリルのような工具を用いて機械的に順次穴開け加工をすることで形成できる。なお、複数の貫通孔9hの縁は、窓箔9aを傷つけないように、適宜面取りが施されていてもよい。
 複数の貫通孔9hの直径Rは、円形の開口における開口最長寸法である。開口最長寸法とは、貫通孔9hの1つに着目した場合に、開口形状のうち最も長く開口している直線領域の寸法を意味する。開口最長寸法は、円形の開口については、円の直径に対応する。ここでは、複数の貫通孔9hの直径が一律に直径Rであるため、全ての貫通孔9hの開口最長寸法R(mm)は共通の値である。例えば複数の貫通孔9hの開口形状が互いに異なる場合には、複数の貫通孔9hに対して、それぞれ互いに異なる開口最長寸法Rが存在してもよい。
 ここで、開口最長寸法Rは、真空容器3の内部が真空空間VRとされた場合に、圧力差によって窓箔9aに作用する力を適切に支持することで窓箔9aに十分な耐圧強度を発揮させられるように設定されている。
 基本的に、開口最長寸法Rが過大であると、真空容器3の内部が真空空間VRとされた際(真空排気をした際)に、圧力差によって窓箔9aに作用する力のみによって、窓箔9aが破損してしまう場合がある。また、窓箔9aの破損は、窓箔9aにかかった温度(例えば熱履歴)に依存する側面もある。例えば、窓箔9aが電子線EBを透過させる際、電子線EBの少なくとも一部は、窓箔9aを透過しきれず、窓箔9aに吸収される。その際の発熱によって加熱されることで経時的に酸化され、徐々に脆弱となっていく。その結果、経時的に酸化する前と比べて、窓箔9aの応力による破損が容易に発生する可能性もある。よって、開口最長寸法Rが過大ではない場合であっても、メッシュ部9mにおいて電子線EBによって高温となる部位においては、真空容器3の内部が真空空間VRとされた際には窓箔9aの破損が生じなかったとしても、電子線照射装置1の駆動に伴って、窓箔9aの破損が生じてしまう場合もある。したがって、窓箔9aの長寿命化の観点では、電子線照射装置1の駆動に伴う窓箔9aの破損も生じにくいような開口最長寸法Rに設定することが有用であると考えられる。
 具体的には、ここでは、複数の貫通孔9hの開口最長寸法R及び窓箔9aの厚さtは、下記の関係式(1)を満たしている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 上記関係式(1)は、次のようにして導くことができる。図6は、窓箔部材に生じる応力の計算例の概念図である。圧力差によって窓箔9aに作用する応力は、図6に示されるように、開口最長寸法Rとなる直線領域を含む断面視にて、窓箔9aを両持ち梁とみなした場合に窓箔9aに圧力pに応じた等分布荷重が作用するものとして近似することができる。圧力差によって窓箔9aに作用する応力は、下記式(2)及び式(3)のような窓箔9aの中心の応力及び荷重の式を用いて近似的に算出することができる。式(3)中のDについては、式(4)で与えられる。但し、rは窓箔9aの支持点間距離(mm)の半分であり、開口最長寸法Rの半分である。νは、ポアソン比である。tは、窓箔9aの厚さ(mm)である。Eは縦弾性係数である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 図7は、窓箔部材の耐圧実験の結果を示す図である。図7には、複数通りの開口径のうちの1つの開口径を開口最長寸法Rとする貫通孔9hがメッシュ部9mに形成された支持体9bを用いて、真空容器3の内部が真空空間VRとされた場合に窓箔9aの破損が生じるか否かを実験した結果である。なお、窓箔9aの厚さは3×10-3mm及び5×10-3mmの2通りである。「真空排気後、破損」とは、真空排気後、1000時間以内に窓箔9aの破損が生じたことを意味する。「真空排気後、非破損」とは、窓箔9aの破損が生じることなく真空排気後、1000時間を経過できたことを意味する。
 図7に示されるように、厚さ3×10-3mmの窓箔9aにあっては、開口最長寸法Rが6mmの場合に「真空排気後、非破損」であったが、開口最長寸法Rが10mmの場合に「真空排気後、破損」であった。そこで、窓箔9aの厚さ=3×10-3mmについて開口最長寸法Rが10mmの場合に許容応力値となったと仮定して、上記式(2)及び式(3)を2r(=開口最長寸法R)について解くと、等号で結ばれる場合の上記式(1)を得ることができる。開口最長寸法Rが小さいほど窓箔9aの破損が生じにくくなるため、上記式(1)の数値範囲に属する開口最長寸法Rであれば、真空排気後1000時間を経過しても破損しない蓋然性が高いということができる。
 図8は、窓箔部材の厚さの存在範囲を示す図である。図8の横軸は、窓箔9aの厚さであり、縦軸は、貫通孔9hの開口径(開口最長寸法R)である。図8に示されるように、図8の原点を通るy=3334xの直線上を含む当該直線の右下領域に属する開口最長寸法Rであれば、真空排気後1000時間を経過しても破損しない蓋然性が高いことがわかる。
 なお、開口最長寸法R及び窓箔部材の厚さtは、t≦Rの関係式を更に満たすようにしてもよい。電子線EBの透過面積を増やす観点からは、開口最長寸法Rを小さくし過ぎないことが求められる。そこで、開口最長寸法Rの下限値をtとすることで、窓箔9aの長寿命化と電子線EBの透過面積との両立を図ることができる。また、Rの具体的数値としての下限値は0.001mmである。
 引き続き、電子線照射装置1の製造方法について説明する。図9は、電子線照射装置の製造方法を示すフローチャートである。図9に示される各ステップは、例えば図1に示される電子線照射装置1において、電子線通過部3aに配置される窓部材9を準備する状況において、電子線照射装置1の製造の作業者により実行される。
 図9に示されるように、電子線照射装置1の製造方法は、窓箔9aを用意するステップS01と、支持体9bを用意するステップS02と、メッシュ部9m上に窓箔9aを配置するステップS03と、真空容器3から排気するステップS04と、を備える。
 ステップS01では、作業者は、厚さtの窓箔9aを用意する。ここでの窓箔9aは、一例として、窓箔9aの形状へと切り出されたチタン箔である。厚さtは、特に限定されないが、例えば3×10-3mm又は5×10-3mmであってもよい。
 ステップS02では、作業者は、貫通孔9hを含むメッシュ部9mにおいて、貫通孔9hの開口最長寸法R及び窓箔9aの厚さtが、t≦R≦3334tの関係式を満たす支持体9bを用意する。作業者は、メッシュ部9mに、一例として直径がR(mm)の円形の開口形状となる貫通孔9hを形成してもよい。作業者は、貫通孔9hの開口最長寸法Rは、貫通孔9hを形成する工具等、例えばドリルの寸法で規定してもよいし、エッチングによって形成する場合には、マスクによって規定してもよい。また、作業者は、複数の貫通孔9hの縁の面取り工程において貫通孔9hの直径R(mm)を適宜計測してもよい。メッシュ部9mの複数の貫通孔9hの配置は、例えばマトリクス状であってもよい。複数の貫通孔9hの配置は、この例に限定されない。なお、必ずしもt≦Rの関係式を満たさなくてもよい。
 ステップS03では、作業者は、メッシュ部9m上に窓箔9aを配置する。作業者は、支持体9bのメッシュ部9mと接触するように、メッシュ部9m上に窓箔9aを載置する。作業者は、メッシュ部9mの貫通孔9hの全てを覆うように、メッシュ部9m上に窓箔9aを配置する。
 ステップS04では、作業者は、真空容器3内が真空となるように真空容器3から排気する。以上の各ステップにより、電子線照射装置1が使用可能な状態に製造される。
 以上説明したように、電子線照射装置1では、メッシュ部9mにおいて、貫通孔9hの開口最長寸法R及び窓箔9aの厚さtが、R≦3334tの上記関係式(1)を満たしている。メッシュ部9mがこのような貫通孔9hを含んで構成されることで、真空容器3の内部が真空空間VRとされた場合にメッシュ部9m上に配置される窓箔9aに生じる応力を、一定の耐圧強度を発揮する所定の許容応力値以下とすることができる。よって、窓箔9aの長寿命化を図ることができる。
 電子線照射装置1では、貫通孔9hの開口形状は円形であり、開口最長寸法Rは、貫通孔9hの直径である。この構成によれば、貫通孔9hを、例えば工具等(例えばドリル)を用いた機械的手法によって形成することが容易となる。この場合、支持体9bが所望の機械的強度を得られるように、ある程度の厚みを持った金属板を用いた場合であっても、所望の径の貫通孔9hを備えたメッシュ部9mを持つ支持体9bを作成することができる。
 電子線照射装置1では、開口最長寸法R及び窓箔部材の厚さtは、t≦Rの関係式を更に満たしている。この構成によれば、貫通孔9hの開口面積が一定以上となるため、電子線EBの照射性能と窓箔9aの長寿命化との両立を図ることができる。
 電子線照射装置1では、メッシュ部9mは、上記関係式(1)を満たす開口最長寸法Rの複数の貫通孔9hからなっている。この構成によれば、このような複数の貫通孔9hをメッシュ部9mの一部にのみ含む場合よりも、より確実に窓箔9aの長寿命化を図ることができる。
 電子線照射装置1の製造方法では、メッシュ部9mにおいて、貫通孔9hの開口最長寸法R及び窓箔9aの厚さtが、R≦3334tの上記関係式(1)を満たす支持体9bを用意するステップS02を含んでいる。このステップS02により、メッシュ部9mがこのような貫通孔9hを含んで構成されることとなるため、真空容器3から排気するステップS04によって真空容器3の内部が真空空間VRとされた場合にメッシュ部9m上に配置される窓箔9aに生じる応力を、一定の耐圧強度を発揮する所定の許容応力値以下とすることができる。よって、窓箔9aの長寿命化を図ることができる。
[第2実施形態]
 図11は、第2実施形態に係る電子線照射装置1Aの側断面図である。電子線照射装置1に代えて、図11に示されるような電子線照射装置1Aにおいても、上記第1実施形態で窓部材9として例示された電子線照射窓部を適用することが可能である。
 図11に示されるように、電子線照射装置1Aは、電子線通過領域20を形成するチャンバ(筐体部)30と、電子線通過領域20の後端20aを塞ぐようにチャンバ30に気密に取り付けられた電子銃(電子線発生部)40と、電子線通過領域20の前端20bを塞ぐようにチャンバ30に気密に取り付けられた電子線透過ユニット(電子線照射窓部)50と、を備えている。電子銃40が発生した電子線EBは、電子線通過領域20をZ軸方向前側に進行し、電子線透過ユニット50を透過して外部に出射する。なお、電子線照射装置1Aによって電子線EBが照射される側を前側、その反対側を後側とする。
 チャンバ30は、電子銃40が取り付けられた金属製の円柱部31を有している。円柱部31には、アライメントコイル21及び集束コイル22が設けられている。電子銃40から出射した電子線EBは、アライメントコイル21によって、電子線EBの中心線が電子線通過領域20の中心線CLに一致するように調整された後、集束コイル22によって、電子線透過ユニット50に集束される。なお、円柱部31には、真空ポンプが接続される排気管23が設けられている。これにより、チャンバ30内(すなわち、電子線通過領域20)が真空引きされる。
 チャンバ30は、偏向管(筐体部)32を有している。偏向管32は、例えば四角柱状の外形を有している。電子線通過領域24は、電子線通過領域20のうち偏向管32によって形成される部分である。電子線通過領域24の断面は、Y軸方向を長手方向とする長方形状となっている。偏向管32の外側には、偏向管32の内側を通過する電子線EBを偏向する偏向コイル25が取り付けられている。集束コイル22によって集束されて電子線通過領域24を通過する電子線EBは、偏向コイル25によってY軸方向に偏向される。
 更に、チャンバ30は、偏向管32の前端面に固定された走査管(筐体部)33を有している。走査管33は、前側に向かって末広がりの四角柱状の外形を有している。電子線通過領域26は、電子線通過領域20のうち走査管33によって形成される部分である。電子線通過領域26の断面は、Y軸方向を長手方向とする長方形状となっている。なお、走査管33の前端部には、フランジ34が設けられている。
 電子線透過ユニット50は、電子線通過領域20の前端20bの電子線通過部20cを覆って封止するように、走査管33に固定されている。走査管33と電子線透過ユニット50とは、フランジ34と窓枠体50AとがOリングを介して接触した状態で、例えば複数のボルトにより気密に固定されている。電子線透過ユニット50の詳細な構成は、フランジ34への取り付けに伴う形状及び寸法等の構成変更を除いて、上記第1実施形態の窓部材9の構成の要部と同様である。そのため、重複する説明を省略する。
 なお、電子線照射装置1Aの製造方法については、図9に示される各ステップが、例えば図11に示される電子線照射装置1Aにおいて、電子線通過部20cに配置される電子線透過ユニット50を準備する状況において、電子線照射装置1Aの製造の作業者により実行される。電子線照射装置1Aの製造方法の詳細については、ステップS04において真空容器3がチャンバ30に置き換わる以外、図9に示される各ステップと同様であるため、重複する説明を省略する。
 以上説明した電子線照射装置1Aにおいても、電子線照射装置1と同様、メッシュ部9mにおいて、貫通孔9hの開口最長寸法R及び窓箔9aの厚さtが、R≦3334tの上記関係式(1)を満たしている。メッシュ部9mがこのような貫通孔9hを含んで構成されることで、チャンバ30の内部が真空空間とされた場合にメッシュ部9m上に配置される窓箔9aに生じる応力を、一定の耐圧強度を発揮する所定の許容応力値以下とすることができる。よって、窓箔9aの長寿命化を図ることができる。
 電子線照射装置1Aでは、貫通孔9hの開口形状は円形であり、開口最長寸法Rは、貫通孔9hの直径である。この構成によれば、貫通孔9hを、例えば工具等(例えばドリル)を用いた機械的手法によって形成することが容易となる。この場合、支持体9bが所望の機械的強度を得られるように、ある程度の厚みを持った金属板を用いた場合であっても、所望の径の貫通孔9hを備えたメッシュ部9mを持つ支持体9bを作成することができる。
 電子線照射装置1Aでは、開口最長寸法R及び窓箔部材の厚さtは、t≦Rの関係式を更に満たしている。この構成によれば、貫通孔9hの開口面積が一定以上となるため、電子線EBの照射性能と窓箔9aの長寿命化との両立を図ることができる。
 電子線照射装置1Aでは、メッシュ部9mは、上記関係式(1)を満たす開口最長寸法Rの複数の貫通孔9hからなっている。この構成によれば、このような複数の貫通孔9hをメッシュ部9mの一部にのみ含む場合よりも、より確実に窓箔9aの長寿命化を図ることができる。
 また、電子線照射装置1Aの製造方法では、メッシュ部9mにおいて、貫通孔9hの開口最長寸法R及び窓箔9aの厚さtが、R≦3334tの上記関係式(1)を満たす支持体9bを用意するステップS02を含んでいる。このステップS02により、メッシュ部9mがこのような貫通孔9hを含んで構成されることとなるため、チャンバ30から排気するステップS04によってチャンバ30の内部が真空空間とされた場合にメッシュ部9m上に配置される窓箔9aに生じる応力を、一定の耐圧強度を発揮する所定の許容応力値以下とすることができる。よって、窓箔9aの長寿命化を図ることができる。
[変形例]
 以上、本開示に係る実施形態について説明したが、本開示は、上述した実施形態に限られるものではない。
 上記第1及び第2実施形態では、同一形状の貫通孔9hがメッシュ部9mに形成されていたが、これに限定されない。メッシュ部9mにおいて、例えば互いに異なる開口形状の貫通孔9hが形成されていてもよい。この場合、互いに異なる開口形状であっても、開口形状のうち最も長く開口している直線領域の寸法(開口最長寸法R)に着目することで、各貫通孔9hが上記関係式(1)を満たすように構成されているか否かを評価することができる。例えば、図10(a)は、貫通孔の変形例を示す模式図である。図10(a)に示されるように、貫通孔9hAの開口形状は、多角形(ここでは正六角形)であってもよい。この場合、開口最長寸法Rは、正六角形の仮想的な外接円C1の直径とすることができる。この構成によれば、多角形の仮想的な外接円C1の直径を開口最長寸法Rと捉えることで、窓箔9aの長寿命化を図りつつ、メッシュ部9mにおける貫通孔9hAの開口率を向上することができる。図10(b)は、貫通孔の他の変形例を示す模式図である。図10(b)に示されるように、貫通孔9hBの開口形状は、楕円であってもよい。この場合、開口最長寸法Rは、楕円の長径とすることができる。この構成によれば、楕円の長径を開口最長寸法Rと捉えることで、窓箔9aの長寿命化を図りつつ、貫通孔あたりの電子線透過量を向上することができる。
 上記第1及び第2実施形態では、メッシュ部9mは、上記関係式(1)を満たす複数の貫通孔9hからなっていたが、これに限定されない。メッシュ部9mは、上記関係式(1)を満たす複数の貫通孔9hを含んでいればよい。例えば、メッシュ部9mの一部分が上記関係式(1)を満たす貫通孔9hからなっていてもよい。メッシュ部9mの他の部分が上記関係式(1)を必ずしも満たさない貫通孔からなっていてもよい。
 例えば、支持体9bの周縁領域では、電子線EBの透過量が比較的大きい支持体9bの中央領域と比べて、電子線EBの透過に起因する発熱量が小さく、熱負荷が小さい傾向にある。更に、支持体9bの周縁領域では、窓フランジ9c又はフランジ34に熱が逃げやすい。よって、支持体9bの周縁領域における開口最長寸法Rを、上記関係式(1)を満たす範囲で支持体9bの中央領域と比べて大きくしてもよい。あるいは、支持体9bの中央領域における開口最長寸法Rを、上記関係式(1)を満たす最大値(つまりR=3334t)とし、支持体9bの周縁領域における開口最長寸法Rを、関係式(1)を満たさない値(つまりR>3334t)としてもよい。
 また、例えば、メッシュ部9mにおける貫通孔9hの開口率に応じて、開口最長寸法Rを異ならせてもよい。開口率とは、メッシュ部9mの所定単位面積における貫通孔9hの開口面積の比率を意味する。ちなみに、上記第1実施形態での支持体9bの開口率としては、例えば、メッシュ部9mの全体にわたって約80%程度とされている。
 メッシュ部9mにおける貫通孔9hの開口率に応じて開口最長寸法Rを異ならせる一例として、メッシュ部9mの開口率が約60%以上80%以下程度とされている領域と、メッシュ部9mの開口率が約40%以上60%以下程度とされている領域とがある場合、約60%以上80%以下程度とされている領域では、開口最長寸法Rを、上記関係式(1)を満たす最大値(つまりR=3334t)とし、約40%以上60%以下程度とされている領域では、開口最長寸法Rを、関係式(1)を満たさない値(つまりR>3334t)としてもよい。なお、開口率の範囲としては、上記の他、約30%以上50%以下程度、約50%以上70%以下程度などであってもよい。
 上記第1及び第2実施形態では、メッシュ部9mは、複数の貫通孔9hからなっていたが、これに限定されない。例えば、窓箔9aと比べて相対的に厚い(厚さtが大きい)窓箔部材を使用する場合には、厚さtが大きい分だけ上記第1及び第2実施形態と比べて開口最長寸法Rを大きくできる。この場合、貫通孔1つあたりの電子線EBの通過面積が大きくなるため、メッシュ部9mが1つの貫通孔からなっていてもよい。
 以上に記載された実施形態及び種々の変形例の少なくとも一部が任意に組み合わせられてもよい。
 1,1A…電子線照射装置、2…フィラメントユニット(電子線発生部)、3…真空容器(筐体部)、3a,20c…電子線通過部、9…窓部材(電子線照射窓部)、9a…窓箔(窓箔部材)、9b…支持体(支持部材)、9h…貫通孔、9m…メッシュ部、30…チャンバ(筐体部)、32…偏向管(筐体部)、33…走査管(筐体部)、40…電子銃(電子線発生部)、50…電子線透過ユニット(電子線照射窓部)、EB…電子線、R…開口最長寸法。

Claims (12)

  1.  電子線を発生する電子線発生部と、
     前記電子線発生部から発生した前記電子線を通過させる電子線通過部が設けられた筐体部と、
     前記電子線通過部に配置された電子線照射窓部と、を備え、
     前記電子線照射窓部は、
     前記電子線通過部を覆うメッシュ部を有する支持部材と、
     前記メッシュ部上に配置され、前記電子線通過部を通過した前記電子線を透過させる金属膜である窓箔部材と、を有し、
     前記支持部材及び前記窓箔部材は、所定方向を長手方向として延在しており、
     前記メッシュ部は、開口最長寸法R(mm)の貫通孔を含み、
     前記開口最長寸法R及び前記窓箔部材の厚さt(mm)は、R≦3334tの関係式を満たす、電子線照射装置。
  2.  前記貫通孔の開口形状は、円形であり、
     前記開口最長寸法Rは、前記貫通孔の直径である、請求項1記載の電子線照射装置。
  3.  前記貫通孔の開口形状は、多角形であり、
     前記開口最長寸法Rは、前記多角形の仮想的な外接円の直径である、請求項1記載の電子線照射装置。
  4.  前記貫通孔の開口形状は、楕円であり、
     前記開口最長寸法Rは、前記楕円の長径である、請求項1記載の電子線照射装置。
  5.  前記開口最長寸法R及び前記窓箔部材の厚さtは、t≦Rの関係式を更に満たす、請求項1~4の何れか一項記載の電子線照射装置。
  6.  前記メッシュ部は、前記関係式を満たす開口最長寸法Rの複数の貫通孔からなる、請求項1~5の何れか一項記載の電子線照射装置。
  7.  電子線を発生する電子線発生部と、
     前記電子線発生部から発生した前記電子線を通過させる電子線通過部が設けられた筐体部と、
     前記電子線通過部に配置された電子線照射窓部と、を備え、
     前記電子線照射窓部は、
     前記電子線通過部を覆うメッシュ部を有する支持部材と、
     前記メッシュ部上に配置され、前記電子線通過部を通過した前記電子線を透過させる金属膜である窓箔部材と、を有し、
     前記支持部材及び前記窓箔部材は、所定方向を長手方向として延在している電子線照射装置の製造方法であって、
     厚さt(mm)の前記窓箔部材を用意するステップと、
     貫通孔を含む前記メッシュ部において、前記貫通孔の開口最長寸法R(mm)及び前記窓箔部材の厚さtが、R≦3334tの関係式を満たす前記支持部材を用意するステップと、
     前記メッシュ部上に前記窓箔部材を配置するステップと、
     前記筐体部内が真空となるように前記筐体部から排気するステップと、を備える、電子線照射装置の製造方法。
  8.  前記貫通孔の開口形状は、円形であり、
     前記開口最長寸法Rは、前記貫通孔の直径である、請求項7記載の電子線照射装置の製造方法。
  9.  前記貫通孔の開口形状は、多角形であり、
     前記開口最長寸法Rは、前記多角形の仮想的な外接円の直径である、請求項7記載の電子線照射装置の製造方法。
  10.  前記貫通孔の開口形状は、楕円であり、
     前記開口最長寸法Rは、前記楕円の長径である、請求項7記載の電子線照射装置の製造方法。
  11.  前記開口最長寸法R及び前記窓箔部材の厚さtは、t≦Rの関係式を更に満たす、請求項7~10の何れか一項記載の電子線照射装置の製造方法。
  12.  前記メッシュ部は、前記関係式を満たす開口最長寸法Rの複数の貫通孔からなる、請求項7~11の何れか一項記載の電子線照射装置の製造方法。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08240542A (ja) * 1995-03-01 1996-09-17 Kobe Steel Ltd 大気圧下測定用イオンビーム分析装置のイオンビーム出口窓
JP2003504605A (ja) * 1999-07-09 2003-02-04 アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド 電子ビーム加速器
JP2005091107A (ja) * 2003-09-16 2005-04-07 Hamamatsu Photonics Kk 真空密閉容器及びその製造方法
US20110012495A1 (en) * 2009-07-20 2011-01-20 Advanced Electron Beams, Inc. Emitter Exit Window
JP2013160721A (ja) * 2012-02-08 2013-08-19 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置及び電子線透過ユニット
US20150016593A1 (en) * 2012-03-11 2015-01-15 Mark Larson Radiation window with support structure

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08240542A (ja) * 1995-03-01 1996-09-17 Kobe Steel Ltd 大気圧下測定用イオンビーム分析装置のイオンビーム出口窓
JP2003504605A (ja) * 1999-07-09 2003-02-04 アドバンスト・エレクトロン・ビームズ・インコーポレーテッド 電子ビーム加速器
JP2005091107A (ja) * 2003-09-16 2005-04-07 Hamamatsu Photonics Kk 真空密閉容器及びその製造方法
US20110012495A1 (en) * 2009-07-20 2011-01-20 Advanced Electron Beams, Inc. Emitter Exit Window
JP2013160721A (ja) * 2012-02-08 2013-08-19 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置及び電子線透過ユニット
US20150016593A1 (en) * 2012-03-11 2015-01-15 Mark Larson Radiation window with support structure

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