JP2017034121A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 カップ22は、溶媒の供給源と管路32を介して接続されている。この管路中32中には、開閉バルブ34が配設されており、開閉バルブ34を開放することにより、カップ22内に溶媒が供給される。また、このカップ22は、排液の回収部と管路31を介して接続されている。この管路31中には、開閉バルブ33が配設されており、開閉バルブ33を開放することにより、処理液および溶媒の混合液は、排液の回収部に排出される。さらに、このカップ22には、カップ22内に貯留された溶媒20の液位を検出するための、互いに異なる高さ位置に配置された3個のセンサ23、24、25が配設されている。
【選択図】 図1
Description
12 処理液ノズル
13 スピンチャック
14 チャック部材
15 スピンドルモータ
19 排気口
21 液受け部
22 カップ
23 センサ
24 センサ
25 センサ
31 管路
32 管路
33 開閉バルブ
34 開閉バルブ
50 制御部
51 チャック駆動部
52 液受け部昇降部
53 ノズル駆動部
100 基板
Claims (5)
- 基板を保持して回転するスピンチャックと、
前記スピンチャックに保持された基板に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記処理液ノズルから供給され基板から飛散する処理液を受ける液受け部と、
を備えた基板処理装置において、
前記液受け部の下方に配設され、前記液受け部から流下する処理液を受けるカップと、
前記カップ内に溶媒を供給する溶媒供給機構と、
前記カップ内に貯留される溶媒を排出するための排出管に配設されたバルブを備え、前記カップ内に貯留される溶媒の液位を制御するための液位調整機構と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記溶媒は、処理液を構成する溶媒である基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、
前記液位調整機構は、前記カップ内に貯留させる溶媒の液位を検出するためのセンサを備える基板処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記液受け部の下端と前記カップの上端とは、ラビリンス構造を有し、
少なくとも前記処理液ノズルから前記基板に処理液を供給しているときには、前記液受け部の下端と前記カップの上端との間から、前記液受け部内の雰囲気が排気される基板処理装置。 - 請求項4に記載の基板処理装置において、
前記液受け部を昇降させる昇降機構を備え、前記処理液ノズルから前記基板に処理液を供給していないときに、前記液受け部を下降させることにより、前記液受け部の下端部を前記カップに貯留された溶媒中に浸漬する液受け部昇降部を備える基板処理装置。
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