JP2009141280A - 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板Wを保持し、基板Wとともに回転可能な基板保持部1と、基板保持部1に保持された基板Wに対してアルカリを含む処理液を供給する第1の処理液供給部2aと、基板保持部1に保持された基板Wに対して酸を含む処理液を供給する第2の処理液供給部2bとを、備える処理液供給機構2と、基板保持部1の外側に設けられ、基板Wに供給された処理液を回収可能なドレインカップ3と、ドレインカップ3の外側に設けられ、洗浄液を貯留可能で、かつ、洗浄液をドレインカップ3に対してオーバーフロー可能な外カップ4と、を具備する。
【選択図】図1
Description
(基板処理装置)
図1は、この発明の第1の実施形態に係る基板処理装置の一例を概略的に示す断面図である。
本例の第1処理液供給部2aは、アルカリを含む処理液を吐出するノズル2cと、洗浄液と気体とを噴霧する二流体スプレーノズル2dとを備える。なお、二流体スプレーノズル2dは必要に応じて設けられれば良い。アルカリを含む処理液の一例は、アルカリとしてアンモニアを含む処理液である。より詳しい一例は、過酸化水素水、及び/又は水に、アルカリであるアンモニアを混合したアルカリ性処理液である。例えば、APM洗浄液やSC−1洗浄液、あるいはこれら洗浄液に類似した洗浄液を挙げることができる。さらに、ノズル2cは、バルブ切り換えにより、リンス液を吐出する。リンス液の一例は純水(DIW)である。二流体スプレーノズル2dが噴霧する洗浄液としては純水(DIW)を挙げることができ、同じく気体としては窒素ガス又は窒素を含むガス等を挙げることができる。
図7は、第1の実施形態に係る基板処理装置100aを用いた基板処理方法の一例を示す流れ図、図8乃至図12は、主要な工程における基板処理装置100aの状態を概略的に示した断面図である。本例は、アルカリを含む処理液を用いた基板処理、酸を含む処理液を用いた基板処理、及び有機系乾燥溶媒を用いた乾燥処理を順次行う例である。
図13は、この発明の第2の実施形態に係る基板処理装置の一例を概略的に示す断面図である。図13においては、図1と同一の部分には同一の参照符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
図16は、第2の実施形態に係る基板処理装置100bを用いた基板処理方法の第1例を示す流れ図、図17乃至図20は、主要な工程における基板処理装置100bの状態を概略的に示した断面図である。本例は、アルカリを含む処理液を用いた基板処理、酸を含む処理液を用いた基板処理、及び有機系乾燥溶媒を用いた乾燥処理を順次行う例である。
昇降カップ8は、アルカリ性ミストを遮蔽するだけではなく、例えば、二流体スプレー工程におけるミストの遮蔽にも利用することができる。昇降カップ8を、二流体スプレー工程におけるミストの遮蔽に利用した例を、基板処理方法の第2例として説明する。
図25は、この発明の第3の実施形態に係る基板処理装置の一例を概略的に示す断面図である。図25においては、図1と同一の部分には同一の参照符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。
Claims (17)
- 基板を保持し、基板とともに回転可能な基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に対してアルカリを含む処理液を供給する第1の処理液供給部と、前記基板保持部に保持された基板に対して酸を含む処理液を供給する第2の処理液供給部とを、備える処理液供給機構と、
前記基板保持部の外側に設けられ、前記基板に供給された処理液を回収可能なドレインカップと、
前記ドレインカップの外側に設けられ、洗浄液を貯留可能で、かつ、前記洗浄液を前記ドレインカップに対してオーバーフロー可能な外カップと、
を具備することを特徴とする基板処理装置。 - 前記ドレインカップが、
前記基板保持部の周囲に設けられた外周壁と、
前記外周壁の下方部分に設けられた、前記処理液を回収し、収容する液収容部と、を備え、
前記外カップが、
前記ドレインカップの外周壁の周囲に設けられ、前記洗浄液を貯留する貯留槽と、
前記貯留槽に前記洗浄液を供給する洗浄液供給部と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記外カップが、前記貯留槽から前記洗浄液を、前記ドレインカップとは異なる箇所に排液する洗浄液排液部、を備え、
前記外カップの洗浄液排液部が、前記ドレインカップの外周壁の上端部よりも低い位置にあり、
前記外カップの洗浄液供給部が、前記外カップの洗浄液排液部よりも低い位置にあることを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記ドレインカップの上端部が、前記外カップの貯留槽から前記ドレインカップの液収容部に向かって低くなるように傾斜していることを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記外カップの貯留槽内と、この貯留槽上方との間で昇降する昇降カップを、さらに具備することを特徴とする請求項2乃至請求項4いずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記昇降カップの上昇時、前記昇降カップの上端部が、前記第2の処理液供給部の酸を含む処理液を供給する部分よりも上に位置されることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記昇降カップの上昇時、前記昇降カップの下端部が、前記貯留槽内に満たされた洗浄液中に水没されることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記昇降カップの下降時、前記昇降カップの全体が、前記貯留槽内に満たされた洗浄液中に水没されることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記昇降カップを昇降させる昇降機構が、前記貯留槽の外側から前記貯留槽の中にかけて設けられ、
前記昇降機構のうち、前記貯留槽の中に設けられた部分が、前記貯留槽内で洗浄可能なように構成されていることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。 - 前記処理液供給機構が、有機系乾燥溶媒を供給する乾燥溶媒供給部を、備え、
前記第1の処理液供給部が処理位置にあるとき、前記乾燥溶媒供給部が前記処理位置とは異なる位置にあることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記有機系乾燥溶媒が、イソプロパノールを含む有機系乾燥溶媒であり、
前記アルカリを含む処理液が、アンモニアを含む処理液であり、
前記酸を含む処理液が、弗酸を含む処理液であり、
前記洗浄液が純水であることを特徴とする請求項10に記載の基板処理装置。 - 基板を保持し、基板とともに回転可能な基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板に対してアルカリを含む処理液を供給する第1の処理液供給部と、前記基板保持部に保持された基板に対して酸を含む処理液を供給する第2の処理液供給部とを、備える処理液供給機構と、前記基板保持部の外側に設けられ、前記基板に供給された処理液を回収可能なドレインカップと、前記ドレインカップの外側に設けられ、洗浄液を貯留可能で、かつ、前記洗浄液を前記ドレインカップに対してオーバーフロー可能な外カップと、を備えた基板処理装置の基板処理方法であって、
前記基板保持部に保持された基板に対して前記アルカリを含む処理液を供給し、前記基板を基板処理する第1の基板処理工程と、
前記外カップに貯留された洗浄液を、この外カップから前記ドレインカップに対してオーバーフローさせて、前記アルカリを含む処理液を回収した前記ドレインカップを洗浄するドレインカップ洗浄工程と、
前記基板保持部に保持された基板に対して前記酸を含む処理液を供給し、前記基板を基板処理する第2の基板処理工程と、
を具備することを特徴とする基板処理方法。 - 前記ドレインカップ洗浄工程時、前記第1の基板処理工程を終えた基板をリンスすることを特徴とする請求項12に記載の基板処理方法。
- 前記処理液供給機構が、有機系乾燥溶媒を供給する乾燥溶媒供給部を、備え、
前記第2の基板処理工程の後、前記第2の基板処理工程を終えた基板を、有機系乾燥溶媒を用いて乾燥させることを特徴とする請求項12又は請求項13いずれかに記載の基板処理方法。 - 前記有機系乾燥溶媒が、イソプロパノールを含む有機系乾燥溶媒であり、
前記アルカリを含む処理液が、アンモニアを含む処理液であり、
前記酸を含む処理液が、弗酸を含む処理液であり、
前記洗浄液が純水であることを特徴とする請求項14に記載の基板処理方法。 - 前記ドレインカップが、前記基板保持部の周囲に設けられた外周壁を備え、
前記外カップが、前記ドレインカップの外周壁の周囲に設けられ、前記洗浄液を貯留する貯留槽を備え、
前記基板処理装置が、前記外カップの貯留槽内と、この貯留槽上方との間で昇降する昇降カップを備え、
前記第1の基板処理工程時、前記昇降カップを前記貯留槽の上方に上昇させて、前記アルカリを含む処理液の前記基板保持部の周囲への飛散を遮断し、
前記ドレインカップ洗浄工程時、前記昇降カップを前記貯留槽内に下降させて、前記貯留槽内に貯留された前記洗浄液に浸漬し、前記アルカリを含む処理液の飛散を遮断した前記昇降カップを洗浄することを特徴とする請求項12乃至請求項15いずれか一項に記載の基板処理方法。 - コンピュータ上で動作し、基板処理装置を制御するプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記プログラムは、実行時に、請求項12に記載の基板処理方法が行われるように、コンピュータに基板処理装置を制御させることを特徴とする記憶媒体。
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