JP2006128424A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 遮断板への洗浄流体の付着を十分に防止でき、かつ基板を十分な清浄度で洗浄できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 洗浄処理部5a〜5dは、基板Wを回転可能に保持するスピンチャック21を備える。スピンチャック21の上方には、中心部に開口を有する円板状の遮断板50が設けられている。遮断板50は回転支持軸51取り付けられ、回転支持軸51は水平方向に延びるアーム60により保持されている。回転支持軸51の上端部には不活性ガス供給管52が取り付けられている。回転支持軸51および不活性ガス供給管52の内部空間には処理液供給管61およびノズル70が設けられている。アーム60には、遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39が接続されている。遮断板昇降駆動機構37は、遮断板50を上下動作させる。ノズル昇降駆動機構39は、処理液供給管61およびノズル70を上下動作させる。
【選択図】 図2
【解決手段】 洗浄処理部5a〜5dは、基板Wを回転可能に保持するスピンチャック21を備える。スピンチャック21の上方には、中心部に開口を有する円板状の遮断板50が設けられている。遮断板50は回転支持軸51取り付けられ、回転支持軸51は水平方向に延びるアーム60により保持されている。回転支持軸51の上端部には不活性ガス供給管52が取り付けられている。回転支持軸51および不活性ガス供給管52の内部空間には処理液供給管61およびノズル70が設けられている。アーム60には、遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39が接続されている。遮断板昇降駆動機構37は、遮断板50を上下動作させる。ノズル昇降駆動機構39は、処理液供給管61およびノズル70を上下動作させる。
【選択図】 図2
Description
本発明は、基板に種々の処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。
従来より、半導体ウェハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられている。例えば、半導体デバイスの製造プロセスでは、生産効率を高めるために一連の処理の各々をユニット化し、複数の処理ユニットを統合した基板処理装置が用いられている。
基板処理装置の処理ユニットとして、基板の洗浄を行う洗浄処理部がある。洗浄処理部においては、回転する基板の表面に薬液等の洗浄液が供給され、純水等のリンス液が供給される。その後、リンス液の供給が停止され、基板が高速回転される。それにより、リンス液が遠心力により振り切られ、基板の表面が乾燥する(スピンドライ)。
上記のように洗浄処理時において、基板は高速回転されている。それにより、基板上に供給される処理液(洗浄液またはリンス液)は、その遠心力により外方に飛散する。また、基板の回転とともに基板周辺に気流が発生する。
これにより、飛散した処理液がミスト状に分散され、気流とともに基板上に再付着する。スピンドライ時にミスト状の処理液が基板の回転中心近傍に付着すると、処理液が基板上に残留して基板を汚染する。
このような基板の汚染を防止するために、遮断板を有する基板洗浄装置が開発されている(例えば、特許文献1参照)。遮断板について説明する。遮断板は、基板の回転中心と同軸の回転中心を有し、洗浄処理時において基板の上面に近接した位置で基板に対向するように配置される。
遮断板の中心部には、基板へ処理液を供給するノズルおよび基板の上面へ不活性ガスを供給する不活性ガス供給口が設けられている。
基板の回転時において、遮断板は基板の回転速度とほぼ同じ速度で回転される。そこで、処理液がノズルから基板に供給され、不活性ガスが基板に供給される。それにより、遮断板が基板の上面を覆うとともに遮断板と基板との間が陽圧となり、ミスト状に分散された処理液が基板に再付着することが防止される。その結果、洗浄処理時における基板の汚染が防止される。
特開2002−177909号公報
しかしながら、遮断板は基板の上面に近接した位置に配置されているので、洗浄処理時に、基板上で跳ね返った洗浄液が遮断板に付着する。遮断板に付着した洗浄液が乾燥した状態で遮断板を回転させると、パーティクルが発生し、そのパーティクルが落下することにより基板が汚染される。
本発明の目的は、遮断板への洗浄流体の付着を十分に防止でき、かつ基板を十分な清浄度で洗浄できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
第1の発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、基板を保持しつつ回転させる基板保持手段と、基板保持手段に保持された基板の上面に処理流体を供給する流体供給手段と、基板保持手段に保持された基板の上面に対向するように設けられた遮断板と、基板保持手段に保持された基板の上方で、流体供給手段を上下方向に移動させる第1の移動手段と、基板保持手段に保持された基板の上方で、遮断板を上下方向に移動させる第2の移動手段と、第1および第2の移動手段を制御する制御手段とを備え、制御手段は、流体供給手段と遮断板とが互いに相対的に移動するように第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御するものである。
第1の発明に係る基板処理装置においては、基板保持手段により基板が回転され、流体供給手段により基板の上面に処理流体が供給される。
基板保持手段に保持された基板の上方で、流体供給手段と遮断板とが互いに相対的に移動するように第1および第2の移動手段の少なくとも一方が制御手段により制御される。
これにより、処理流体が薬液等の洗浄流体である場合には、基板の上面に洗浄流体が供給される際に、遮断板と基板の上面との間の距離を流体供給手段と基板の上面との間の距離よりも大きくすることができる。それにより、基板の上面からの洗浄流体の跳ね返りを低減することができる。その結果、遮断板に跳ね返った洗浄流体が付着することを十分に防止することができる。
さらに、処理流体が純水等のリンス流体である場合には、基板の上面にリンス流体が供給される際および基板の上面にリンス流体が供給された後に、遮断板と基板の上面との間の距離を流体供給手段と基板の上面との間の距離にかかわらず小さくすることができる。これにより、リンス流体が飛散することにより発生するミスト状のリンス流体が基板の回転中心の近傍に再付着することが防止される。その結果、基板を十分な清浄度で洗浄することができる。
処理流体は、基板を洗浄するための洗浄流体を含み、制御手段は、流体供給手段から基板の上面に洗浄流体が供給される際に、流体供給手段と基板の上面との間の距離が第1の距離となり、遮断板と基板の上面との間の距離が第1の距離よりも大きい第2の距離となるように第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御してもよい。
この場合、基板の上面に洗浄流体が供給される際に、遮断板と基板の上面との間の距離が第1の距離よりも大きい第2の距離となるように第1および第2の移動手段の少なくとも一方が制御手段により制御される。
これにより、基板の上面に洗浄流体が供給される際に、基板の上面からの洗浄流体の跳ね返りを低減することができる。その結果、遮断板に跳ね返った洗浄流体が付着することを十分に防止することができる。
前記処理流体は、洗浄流体を洗い流すためのリンス流体をさらに含み、制御手段は、流体供給手段から基板の上面にリンス流体が供給される際に、遮断板と基板の上面との間の距離が第2の距離よりも小さい第3の距離となるように第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御してもよい。
この場合、基板の上面にリンス流体が供給される際に、遮断板と基板の上面との間の距離が第2の距離よりも小さい第3の距離となるように第1および第2の移動手段の少なくとも一方が制御手段により制御される。
これにより、遮断板と基板の上面との間の距離を小さくすることができる。それにより、リンス流体が飛散することにより発生するミスト状のリンス流体が基板の回転中心の近傍に再付着することが防止される。その結果、基板を十分な清浄度で洗浄することができる。
基板処理装置は、基板の上面に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段をさらに備えてもよい。これにより、基板の上面側の空間を不活性ガス雰囲気とすることができるので、洗浄された基板の上面が清浄な状態で保たれる。
不活性ガス供給手段は、遮断板の下面に開口するガス供給口を有し、制御手段は、不活性ガス供給手段のガス供給口から基板の上面に不活性ガスが供給される際に、流体供給手段と基板の上面との間の距離が第4の距離となり、ガス供給口と基板の上面との間の距離が第4の距離よりも小さい第5の距離となるように第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御してもよい。
この場合、ガス供給口から基板の上面に不活性ガスが供給される際に、流体供給手段と基板の上面との間の距離が第4の距離となり、ガス供給口と基板の上面との間の距離が第4の距離よりも小さい第5の距離となるように第1および第2の移動手段の少なくとも一方が制御手段により制御される。
これにより、不活性ガスが流体供給手段に妨げられることなくガス供給口から基板の上面に供給される。それにより、不活性ガスを十分に基板の上面に供給することができる。
制御手段は、遮断板の上下方向の移動にかかわらず、流体供給手段が基板の上面と一定の距離を保つように第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御してもよい。この場合、流体供給手段と基板の上面との間の距離を最適な距離に保ちつつ、遮断板を流体供給手段に対して相対的に上下に移動させることができる。
第2の発明に係る基板処理方法は、基板の上面に、基板を洗浄するための洗浄流体を供給する流体供給手段と、基板の上面に対向するように設けられた遮断板とを用いて基板に所定の処理を行う基板処理方法であって、基板を回転させる工程と、流体供給手段および遮断板の少なくとも一方を上下方向に移動させることにより、流体供給手段と基板の上面との間の距離を第1の距離とし、遮断板と基板の上面との間の距離を第1の距離よりも大きい第2の距離とした後、流体供給手段から回転する基板の上面に洗浄流体を供給する工程とを備えたものである。
第2の発明に係る基板処理方法においては、流体供給手段と基板の上面との間の距離が第1の距離となり、遮断板と基板の上面との間の距離を第1の距離よりも大きい第2の距離となるように流体供給手段および遮断板の少なくとも一方が上下方向に移動される。この状態で、流体供給手段から回転する基板の上面に洗浄流体が供給される。それにより、基板の上面からの洗浄流体の跳ね返りを低減することができる。その結果、遮断板に跳ね返った洗浄流体が付着することを十分に防止することができる。
流体供給手段は、洗浄流体を洗い流すためのリンス流体をさらに供給するものであり、流体供給手段から回転する基板の上面に洗浄流体を供給する工程の後に、流体供給手段から回転する基板の上面にリンス流体を供給しつつ、流体供給手段および遮断板の少なくとも一方を上下方向に移動させることにより、遮断板と基板の上面との間の距離を第2の距離よりも小さい第3の距離とする工程とを備えてもよい。
この場合、遮断板と基板の上面との間の距離が第2の距離よりも小さい第3の距離となるように流体供給手段および遮断板の少なくとも一方が上下方向に移動される。それにより、リンス流体が飛散することにより発生するミスト状のリンス流体が基板の回転中心の近傍に再付着することが防止される。その結果、基板を十分な清浄度で洗浄することができる。
本発明に係る基板処理装置によれば、遮断板への洗浄流体の付着が十分に防止され、かつ基板を十分な清浄度で洗浄することができる。
以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置について図1〜図6に基づき説明する。
以下の説明において、基板とは、半導体ウェハ、液晶表示装置用ガラス基板、PDP(プラズマディスプレイパネル)用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等をいう。
図1は本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。図1に示すように、基板処理装置100は、処理領域A,Bを有し、処理領域A,B間に搬送領域Cを有する。
処理領域Aには、制御部4、流体ボックス部2a,2bおよび洗浄処理部5a,5bが配置されている。
図1の流体ボックス部2a,2bは、それぞれ洗浄処理部5a,5bへの洗浄液の供給および洗浄処理部5a,5bからの排液等に関する配管、継ぎ手、バルブ、流量計、レギュレータ、ポンプ、温度調節器、処理液貯留タンク等の流体関連機器を収納する。流体ボックス部2a,2bおよび洗浄処理部5a,5bの具体的な構成例については後述する。
洗浄処理部5a,5bでは、洗浄液を用いた洗浄処理および乾燥処理が行われる。洗浄液としては、BHF(バッファードフッ酸)、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸、シュウ酸およびアンモニア等の薬液が用いられる。リンス液としては、IPA(イソプロピルアルコール)等の有機溶剤または純水、炭酸水、水素水、電解イオン水等が用いられる。
処理領域Bには、流体ボックス部2c,2dおよび洗浄処理部5c,5dが配置されている。流体ボックス部2c,2dおよび洗浄処理部5c,5dの各々は、上記流体ボックス部2a,2bおよび洗浄処理部5a,5bと同様の構成を有し、洗浄処理部5c,5dは洗浄処理部5a,5bと同様の処理を行う。
以下、洗浄処理部5a,5b,5c,5dを処理ユニットと総称する。搬送領域Cには、基板搬送ロボットCRが設けられている。
処理領域A,Bの一端部側には、基板Wの搬入および搬出を行うインデクサIDが配置されており、インデクサロボットIRはインデクサIDの内部に設けられている。インデクサIDには、基板Wを収納するキャリア1が載置される。本実施の形態においては、キャリア1として、基板Wを密閉した状態で収納するFOUP(Front Opening Unified Pod)を用いているが、これに限定されるものではなく、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッド、OC(Open Cassette)等を用いてもよい。
インデクサIDのインデクサロボットIRは、矢印Uの方向に移動し、キャリア1から基板Wを取り出して基板搬送ロボットCRに渡し、逆に、一連の処理が施された基板Wを基板搬送ロボットCRから受け取ってキャリア1に戻す。
基板搬送ロボットCRは、インデクサロボットIRから渡された基板Wを指定された処理ユニットに搬送し、または、処理ユニットから受け取った基板Wを他の処理ユニットまたはインデクサロボットIRに搬送する。
本実施の形態においては、洗浄処理部5a〜5dのいずれかにおいて基板Wに洗浄処理および乾燥処理が行われた後に、基板搬送ロボットCRにより基板Wが洗浄処理部5a〜5dから搬出され、インデクサロボットIRを介してキャリア1に搬入される。
制御部4は、CPU(中央演算処理装置)を含むコンピュータ等からなり、処理領域A,Bの各処理ユニットの動作、搬送領域Cの基板搬送ロボットCRの動作およびインデクサIDのインデクサロボットIRの動作を制御する。制御部4の詳細については後述する。
図2は本発明の一実施の形態に係る基板処理装置100の洗浄処理部5a〜5dの構成を説明するための図である。
図2の洗浄処理部5a〜5dは、流体ボックス部2a〜2dより供給される洗浄液およびリンス液を用いて基板Wの表面に付着した不純物を洗浄処理により除去し、清浄な基板Wの表面を乾燥させる。
図2に示すように、洗浄処理部5a〜5dは、基板Wを水平に保持するとともに基板Wの中心を通る鉛直な回転軸の周りで基板Wを回転させるためのスピンチャック21を備える。スピンチャック21は、チャック回転駆動機構36によって回転される回転軸25の上端に固定されている。
基板Wは、洗浄処理および乾燥処理を行う場合に、スピンチャック21により水平に保持された状態で回転される。
スピンチャック21の上方には、中心部に開口部を有する円板状の遮断板50が設けられている。遮断板50は略円筒形状を有する回転支持軸51の下端部に略水平に取り付けられ、回転支持軸51は水平方向に延びるアーム60により基板Wの中心を通る鉛直な回転軸の周りで回転可能に保持されている。これにより、遮断板50がスピンチャック21に保持された基板Wの上面と対向する。
回転支持軸51の上端部には不活性ガス供給管52が取り付けられている。回転支持軸51および不活性ガス供給管52の内部空間は連通しており、その内部空間には処理液供給管61およびノズル70が設けられている。
アーム60には、遮断板昇降駆動機構37、遮断板回転駆動機構38およびノズル昇降駆動機構39が接続されている。遮断板昇降駆動機構37は、遮断板50をスピンチャック21に保持された基板Wの上面に近接した位置とスピンチャック21から上方に離れた所定位置との間で上下動作させる。
遮断板回転駆動機構38は、スピンチャック21に保持された基板Wの回転に応じて回転支持軸51を基板Wの中心を通る鉛直な回転軸の周りで回転させる。これにより、遮断板50が基板Wの回転速度と同じ回転速度で回転される。
ノズル昇降駆動機構39は、回転支持軸51および不活性ガス供給管52の内部空間に位置する処理液供給管61およびノズル70をスピンチャック21に保持された基板Wの上面に近接した位置とスピンチャック21から上方に離れた所定位置との間で上下動作させる。
図2に示すように、処理液供給管61には流体ボックス部2a〜2dから薬液等の洗浄液または純水等のリンス液が供給される。流体ボックス部2a〜2dには洗浄液制御バルブ91およびリンス液制御バルブ92が設けられている。これにより、所定のタイミングで洗浄液およびリンス液のいずれか一方を選択的にノズル70から吐出させることができる。それにより、基板Wの上面へ洗浄液およびリンス液を供給することができる。
また、回転支持軸51および不活性ガス供給管52の内部空間には流体ボックス部2a〜2dからN2 (窒素)ガスまたはAr(アルゴン)ガス等の不活性ガスが供給される。流体ボックス部2a〜2dには不活性ガス制御バルブ93が設けられている。これにより、所定のタイミングで回転支持軸51および不活性ガス供給管52の内部空間を通じて遮断板50の開口部から不活性ガスを基板Wの上面へ供給することができる。
スピンチャック21は、処理カップ23内に収容されている。処理カップ23の内側には、筒状の仕切壁33が設けられている。また、スピンチャック21の周囲を取り囲むように、基板Wの処理に用いられた処理液(洗浄液またはリンス液)を排液するための排液空間31が形成されている。さらに、排液空間31を取り囲むように、処理カップ23と仕切壁33の間に基板Wの処理に用いられた処理液を回収するための回収液空間32が形成されている。
排液空間31には、排液処理装置(図示せず)へ処理液を導くための排液管34が接続され、回収液空間32には、回収処理装置(図示せず)へ処理液を導くための回収管35が接続されている。
処理カップ23の上方には、基板Wからの処理液が外方へ飛散することを防止するためのガード24が設けられている。このガード24は、回転軸25に対して回転対称な形状からなっている。ガード24の上端部の内面には、断面く字状の排液案内溝41が環状に形成されている。
また、ガード24の下端部の内面には、外側下方に傾斜する傾斜面からなる回収液案内部42が形成されている。回収液案内部42の上端付近には、処理カップ23の仕切壁33を受け入れるための仕切壁収納溝43が形成されている。
このガード24には、ボールねじ機構等で構成されたガード昇降駆動機構(図示せず)が設けられている。ガード昇降駆動機構は、ガード24を、回収液案内部42がスピンチャック21に保持された基板Wの外周端面に対向する回収位置と、排液案内溝41がスピンチャック21に保持された基板Wの外周端面に対向する排液位置との間で上下動させる。ガード24が回収位置(図2に示すガードの位置)にある場合には、基板Wから外方へ飛散した処理液が回収液案内部42により回収液空間32に導かれ、回収管35を通して回収される。一方、ガード24が排液位置にある場合には、基板Wから外方へ飛散した処理液が排液案内溝41により排液空間31に導かれ、排液管34を通して排液される。以上の構成により、処理液の排液および回収が行われる。
ここで、遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39の詳細について説明する。
図3は遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39の具体的構成例を示す断面図である。なお、図3では説明を容易にするために遮断板回転駆動機構38を省略している。
図3に示すように、水平に延びるアーム60の一端側では回転支持軸51が回転可能に保持されている。一方、アーム60の他端側には、ねじ切り加工の施された貫通孔60Hが形成されている。貫通孔60Hに送りねじ37Nが螺合される。これにより、アーム60が所定の高さで保持される。
送りねじ37Nの下端部はモータ37Mと接続されている。モータ37Mにより、送りねじ37Nが回転する。送りねじ37Nが回転することにより、矢印U1に示すようにアーム60が上下方向に移動される。
本実施の形態では、送りねじ37Nおよびモータ37Mによりノズル昇降駆動機構39が構成されている。
図示しない遮断板回転駆動機構38により回転支持軸51が矢印R2に示すように回転する。この回転方向は、矢印R1で示すスピンチャック21の回転軸25の回転方向と同じである。なお、回転支持軸51の回転速度も回転軸25の回転速度とほぼ同じである。
図3の例では、アーム60の一端側で保持された回転支持軸51の上端部に断面がくし状のシール部51kが形成されている。また、回転支持軸51の上端部に取り付けられる不活性ガス供給管52の下端部にも、断面がくし状のシール部52kが形成されている。シール部51k,52kによりラビリンス構造が実現されている。ここで、回転支持軸51は不活性ガス供給管52に対して回転可能である。
不活性ガス供給管52の上端部は水平方向に延びるノズルアーム53に接続されている。不活性ガス供給管52はベローズ管である。これにより、不活性ガス供給管52は上下方向に伸縮自在となっている。
ノズルアーム53の一端側には、不活性ガス供給管52の上端部を覆うように蓋部53fが形成されている。ノズルアーム53の他端側には、ねじ切り加工の施された貫通孔53Hが形成されている。貫通孔53Hに送りねじ39Nが螺合される。これにより、ノズルアーム53が所定の高さで保持される。
送りねじ39Nの下端部はモータ39Mと接続されている。モータ39Mにより、送りねじ39Nが回転する。送りねじ39Nが回転することにより、矢印U2に示すようにノズルアーム53が上下方向に移動される。
本実施の形態では、送りねじ39Nおよびモータ39Mによりノズル昇降駆動機構39が構成されている。
蓋部53fには、N2 ガス等の不活性ガスを不活性ガス供給管52内へ供給するための孔部53hが形成されている。孔部53hに不活性ガスが供給されることにより、不活性ガス供給管52および回転支持軸51の内部空間を介して遮断板50の開口部50Hから不活性ガスが基板Wに向かって噴出される。
また、蓋部53fには、処理液供給管61が取り付けられている。不活性ガス供給管52および回転支持軸51の内部空間において、処理液供給管61は蓋部53fから下方へ延びている。処理液供給管61の下端部にはノズル70が取り付けられている。
処理液供給管61に洗浄液(薬液等)またはリンス液(純水等)が供給されることにより、ノズル70から洗浄液またはリンス液が基板Wに向かって吐出される。
ここで、処理液供給管61およびノズル70はノズルアーム53の上下動作に追従する。それにより、処理液供給管61およびノズル70は遮断板50の上下動作に影響を受けることなく、上下動作可能となっている。
遮断板50およびノズル70の上下動作の詳細について説明する。以下の説明では、洗浄液として薬液が用いられ、リンス液として純水が用いられるものとする。また、不活性ガスとしてN2 ガスが用いられるものとする。
図4および図5は基板Wの洗浄処理時および乾燥処理時における遮断板50およびノズル70の上下動作ならびに処理手順を説明するための説明図である。なお、図4および図5では、スピンチャック21に保持された基板Wの上面からノズル70の先端部までの距離が符号a,a1で示され、基板Wの上面から遮断板50の下面までの距離が符号b,b1,b2で示されている。スピンチャック21に保持された基板Wおよび遮断板50は回転しているものとする。
図4(a)に示すように、基板Wの洗浄処理開始時に遮断板50はノズル70よりも高い位置で保持される。一方、遮断板50から突出したノズル70の先端部は基板Wの上面に近接した状態で保持される。距離bは距離aよりも大きい。距離aは例えば10mmであり、距離bは例えば150mmである。
この状態で、ノズル70から薬液が吐出される。吐出された薬液が基板W上に供給され、基板Wの表面が洗浄される。この場合、ノズル70が基板Wに近接するので、基板W上に供給される薬液の跳ね返りが低減される。さらに、遮断板50がノズル70よりも高い位置で保持されるので、基板W上で跳ね返った薬液が遮断板50の下面に付着することが防止される。薬液の基板Wへの供給は例えば20秒程度である。
続いて、図4(b)に示すように、基板Wの薬液による洗浄が終了すると、ノズル70から純水が吐出される。この工程においても、距離bは距離aよりも大きい。距離aは例えば10mmであり、距離bは例えば150mmである。
吐出された純水が基板W上に供給され、基板Wの上面に残る薬液が除去される。この場合、ノズル70が基板Wに近接しているので、純水が供給されることによる基板Wの上面に残る薬液の跳ね返りが低減される。さらに、遮断板50がノズル70よりも高い位置で保持されるので、基板W上で跳ね返った薬液が遮断板50の下面に付着することが防止される。
図4(b)の状態で基板W上に純水が供給されると、基板W上の薬液の濃度が減少される。基板W上の薬液の濃度が十分に減少され、純水に置換されると、遮断板50が下降する。遮断板50の下降動作は純水の供給開始から例えば10秒程度で行われる。
また、遮断板50の下降動作時において、ノズル70は基板Wとの距離aを常に維持している。すなわち、図2および図3のノズル昇降駆動機構39は、遮断板昇降駆動機構37の動作に応じて距離aが常に一定となるようにノズル70を遮断板50に対して相対的に移動させる。このように、本例では、ノズル70と基板Wの上面との間の距離を最適な距離に保ちつつ、遮断板50がノズル70に対して相対的に上下に移動される。
図4(c)に示すように、下降された遮断板50はノズル70よりも基板Wに近接した状態で保持される。距離b1は距離aに略等しく、好ましくは距離b1は距離aよりもわずかに小さい。距離aは例えば10mmであり、距離b1は例えば5mmである。この状態で、ノズル70からは継続して純水が吐出される。さらに、不活性ガス供給管52からN2 ガス(不活性ガス)が供給される。
この場合、基板W上には薬液の成分が除去されているので、基板W上で純水が跳ね返っても、薬液は遮断板50の下面に付着しない。純水が遮断板50の下面に付着すると、純水は遮断板50の回転とともに外方に飛散される。それにより、遮断板50の下面に残留しないのでパーティクルが発生しない。
また、この場合遮断板50と基板Wの上面との間の距離を小さくすることができるので、純水が飛散することにより発生するミスト状の純水が基板Wの回転中心の近傍に再付着することが防止される。その結果、基板Wを十分な清浄度で洗浄することができる。
さらに、この工程においては、基板W上にN2 ガスが供給される。それにより、遮断板50と基板Wとの間がN2 ガス雰囲気となる。これにより、基板Wの上面側の空間を不活性ガス雰囲気とすることができるので、後工程においても洗浄された基板Wの上面が清浄な状態で保たれる。遮断板50を基板W上に近接させた状態での基板Wへの純水の供給は例えば20秒程度行われる。また、基板WへのN2 ガスの供給は後工程に継続して行われる。
次に、図5(d)に示すように、ノズル70から基板Wへの純水の供給が停止される。この場合、N2 ガスの供給は維持される。これにより、基板W上の純水が遠心力およびN2 ガスの供給による風圧で外方へ飛散する。それにより、基板W上の純水が徐々に除去される。上述のように、乾燥処理時においては、基板W上の空間に常にN2 ガスが供給されているので、純水に起因するウォーターマーク等の基板Wの汚染が防止される。図5(d)においても、距離b1は距離aに略等しく、好ましくは距離b1は距離aよりもわずかに小さい。距離aは例えば10mmであり、距離b1は例えば5mmである。
さらに、この工程においては、遮断板50と基板Wの上面との間にノズル70が位置しないので、N2 ガスがノズル70に妨げられることなく基板Wの上面に供給される。それにより、N2 ガスを十分に基板の上面に供給することができる。
その後、図5(e)に示すように、遮断板50およびノズル70が下降する。この場合、遮断板50およびノズル70の上下方向における位置関係は維持される。また、この状態においても、基板W上へのN2 ガスの供給は継続される。図5(e)において、距離a1は距離aよりもわずかに小さく、距離b2は距離b1よりもわずかに小さい。距離a1は例えば7.5mmであり、距離b2は例えば2.5mmである。
これにより、基板W上の空間がN2 ガス雰囲気の状態で純水が振り切られ、十分に乾燥される。その結果、遮断板50への薬液の付着が十分に防止され、かつ基板Wが十分な清浄度で洗浄される。
図6は図1の基板処理装置100の制御系の構成を示すブロック図である。
制御部4は、図1のインデクサロボットIRおよび基板搬送ロボットCRの動作を制御するとともに、洗浄処理部5a〜5dおよび流体ボックス部2a〜2dの各構成部を制御する。
特に、制御部4は、洗浄処理部5a〜5dのチャック回転駆動機構36、遮断板昇降駆動機構37、遮断板回転駆動機構38およびノズル昇降駆動機構39の動作を制御する。
例えば、制御部4はインデクサロボットIRおよび基板搬送ロボットCRを制御して基板Wをスピンチャック21上に搬送した後、チャック回転駆動機構36を制御して基板Wを所定の回転速度で回転させる。
また、制御部4は基板Wの洗浄処理時および乾燥処理時においてノズル昇降駆動機構39を制御し、ノズル70を基板Wに対して所定の高さに移動させる。さらに、制御部4は基板Wの洗浄処理時および乾燥処理時において遮断板回転駆動機構38を制御して遮断板50を基板Wと同じ回転速度で回転させる。
その上、制御部4は基板Wの洗浄処理時および乾燥処理時において遮断板昇降駆動機構37を制御し、遮断板50を基板Wに対して所定の高さに移動させる。
上記の他、制御部4は、流体ボックス部2a〜2dの洗浄液制御バルブ91、リンス液制御バルブ92および不活性ガス制御バルブ93の開閉動作を制御する。
例えば、制御部4は図4(a)の状態で洗浄液制御バルブ91を開き、リンス液制御バルブ92および不活性ガス制御バルブ93を閉じるように制御する。また、制御部4は図4(b)の状態でリンス液制御バルブ92を開き、洗浄液制御バルブ91および不活性ガス制御バルブ93を閉じるように制御する。
制御部4は図4(c)の状態でリンス液制御バルブ92および不活性ガス制御バルブ93を開き、洗浄液制御バルブ91を閉じるように制御する。制御部4は図5(d)および図5(e)の状態で不活性ガス制御バルブ93を開き、洗浄液制御バルブ91およびリンス液制御バルブ92を閉じるように制御する。
上記のように、本実施の形態に係る基板処理装置100の洗浄処理部5a〜5dにおいては、スピンチャック21により基板Wが回転され、ノズル70により基板Wの上面に洗浄液およびリンス液が選択的に供給される。
そこで、スピンチャック21に保持された基板Wの上方で、ノズル70と遮断板50とが互いに相対的に移動するように遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39の少なくとも一方が制御部4により制御される。
これにより、基板Wの上面に洗浄液が供給される際に、遮断板50と基板Wの上面との間の距離をノズル70と基板Wの上面との間の距離よりも大きくすることができる。それにより、基板Wの上面からの洗浄液の跳ね返りを低減することができる。その結果、遮断板50に跳ね返った洗浄液が付着することを十分に防止することができる。
さらに、基板Wの上面にリンス液が供給される際および基板Wの上面にリンス液が供給された後に、遮断板50と基板Wの上面との間の距離をノズル70と基板Wの上面との間の距離にかかわらず小さくすることができる。これにより、リンス液が飛散することにより発生するミスト状のリンス液が基板Wの回転中心の近傍に再付着することが防止される。その結果、基板Wを十分な清浄度で洗浄することができる。
(他の構成例)
図3に示すように、本実施の形態において遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39は、それぞれモータ37Mおよび送りねじ37Nならびにモータ39Mおよび送りねじ39Nにより構成されている。
図3に示すように、本実施の形態において遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39は、それぞれモータ37Mおよび送りねじ37Nならびにモータ39Mおよび送りねじ39Nにより構成されている。
しかしながら、遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39は、基板W上で遮断板50およびノズル70を互いに相対的に上下動作させることができるのであれば他の構成を有してもよい。例えば、遮断板昇降駆動機構37およびノズル昇降駆動機構39はそれぞれ油圧シリンダにより構成されてもよい。
また、上記ではノズル70の構成について説明していないが、ノズル70は基板Wに対して洗浄液およびリンス液を供給できるのであれば、液体を吐出する通常のノズルであってもよいし、液体と気体の混合流体を吐出する二流体ノズルであってもよい。
さらに、上記ではノズル70が洗浄液およびリンス液のいずれか一方を選択的に基板の上面に供給するとしているが、ノズル70に代えて、基板の上面に洗浄液を供給するノズルと基板の上面にリンス液を供給するノズルとを個別に設けてもよい。
以上、本実施の形態においては、基板処理装置100が基板処理装置に相当し、スピンチャック21および回転軸25が基板保持手段に相当し、洗浄液および薬液が洗浄流体に相当し、リンス液および純水がリンス流体に相当し、洗浄液、薬液、リンス液、および純水が処理流体に相当する。
また、処理液供給管61およびノズル70が流体供給手段に相当し、遮断板50が遮断板に相当し、ノズル昇降駆動機構39が第1の移動手段に相当し、遮断板昇降駆動機構37が第2の移動手段に相当し、制御部4が制御手段に相当する。距離aが第1および第4の距離に相当し、距離bが第2の距離に相当し、距離b1が第3および第5の距離に相当する。
さらに、孔部53hならびに回転支持軸51および不活性ガス供給管52の内部空間が不活性ガス供給手段に相当し、遮断板50の開口部50Hがガス供給口に相当する。
本発明に係る基板処理装置および基板処理方法は、半導体ウェハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板等の基板の製造に有効に利用できる。
100 基板処理装置
4 制御部
21 スピンチャック
25 回転軸
37 遮断板昇降駆動機構
39 ノズル昇降駆動機構
50 遮断板
50H 開口部
51 回転支持軸
52 不活性ガス供給管
53h 孔部
61 処理液供給管
70 ノズル
a,b,b1 距離
4 制御部
21 スピンチャック
25 回転軸
37 遮断板昇降駆動機構
39 ノズル昇降駆動機構
50 遮断板
50H 開口部
51 回転支持軸
52 不活性ガス供給管
53h 孔部
61 処理液供給管
70 ノズル
a,b,b1 距離
Claims (8)
- 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、
基板を保持しつつ回転させる基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の上面に処理流体を供給する流体供給手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の上面に対向するように設けられた遮断板と、
前記基板保持手段に保持された基板の上方で、前記流体供給手段を上下方向に移動させる第1の移動手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の上方で、前記遮断板を上下方向に移動させる第2の移動手段と、
前記第1および第2の移動手段を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記流体供給手段と前記遮断板とが互いに相対的に移動するように前記第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御することを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理流体は、基板を洗浄するための洗浄流体を含み、
前記制御手段は、前記流体供給手段から基板の上面に前記洗浄流体が供給される際に、前記流体供給手段と基板の上面との間の距離が第1の距離となり、前記遮断板と基板の上面との間の距離が前記第1の距離よりも大きい第2の距離となるように前記第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記処理流体は、前記洗浄流体を洗い流すためのリンス流体をさらに含み、
前記制御手段は、前記流体供給手段から基板の上面に前記リンス流体が供給される際に、前記遮断板と基板の上面との間の距離が前記第2の距離よりも小さい第3の距離となるように前記第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。 - 基板の上面に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記不活性ガス供給手段は、前記遮断板の下面に開口するガス供給口を有し、
前記制御手段は、前記不活性ガス供給手段の前記ガス供給口から基板の上面に不活性ガスが供給される際に、前記流体供給手段と基板の上面との間の距離が第4の距離となり、前記ガス供給口と基板の上面との間の距離が前記第4の距離よりも小さい第5の距離となるように前記第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。 - 前記制御手段は、前記遮断板の上下方向の移動にかかわらず、前記流体供給手段が基板の上面と一定の距離を保つように前記第1および第2の移動手段の少なくとも一方を制御することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 基板の上面に、基板を洗浄するための洗浄流体を供給する流体供給手段と、基板の上面に対向するように設けられた遮断板とを用いて基板に所定の処理を行う基板処理方法であって、
基板を回転させる工程と、
前記流体供給手段および前記遮断板の少なくとも一方を上下方向に移動させることにより、前記流体供給手段と基板の上面との間の距離を第1の距離とし、前記遮断板と基板の上面との間の距離を前記第1の距離よりも大きい第2の距離とした後、前記流体供給手段から回転する基板の上面に洗浄流体を供給する工程とを備えることを特徴とする基板処理方法。 - 前記流体供給手段は、前記洗浄流体を洗い流すためのリンス流体をさらに供給するものであり、
前記流体供給手段から回転する基板の上面に洗浄流体を供給する工程の後に、前記流体供給手段から回転する基板の上面に前記リンス流体を供給しつつ、前記流体供給手段および前記遮断板の少なくとも一方を上下方向に移動させることにより、前記遮断板と基板の上面との間の距離を前記第2の距離よりも小さい第3の距離とする工程をさらに備えることを特徴とする請求項7記載の基板処理方法。
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- 2004-10-29 JP JP2004315088A patent/JP2006128424A/ja not_active Abandoned
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