JP2017005194A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017005194A JP2017005194A JP2015120297A JP2015120297A JP2017005194A JP 2017005194 A JP2017005194 A JP 2017005194A JP 2015120297 A JP2015120297 A JP 2015120297A JP 2015120297 A JP2015120297 A JP 2015120297A JP 2017005194 A JP2017005194 A JP 2017005194A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- labyrinth
- gas
- processing apparatus
- processing liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Weting (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】基板処理装置では、ノズル間隙56の上方において処理液ノズル71の周囲にラビリンス57が設けられ、ラビリンス57にシールガスが供給されることにより、ノズル間隙56が外部空間からシールされる。その結果、外部空間の雰囲気がノズル間隙56を介して処理空間90へと侵入することを抑制することができる。また、トッププレート5の対向部材フランジ部522の上面に第1凹凸部55が設けられ、対向部材移動機構6の保持部本体611の下面に第2凹凸部615が設けられる。そして、トッププレート5が第2の位置に位置する状態(すなわち、処理空間90が形成された状態)においてのみ、第1凹凸部55および第2凹凸部615の一方の凹部内に他方の凸部が間隙を介して配置されることによりラビリンス57が形成される。これにより、基板処理装置の扁平化を実現することができる。
【選択図】図3
Description
5 トッププレート
6 対向部材移動機構
9 基板
31 基板保持部
33 基板回転機構
51 対向部材本体
55 第1凹凸部
56 ノズル間隙
57,57a,57b ラビリンス
71 処理液ノズル
73 ガス供給部
90 処理空間
91 (基板の)上面
521 対向部材筒部
522 対向部材フランジ部
551 (第1凹凸部の)凹部
553 面
582 第1マニホールド
584 第2マニホールド
585 ガス噴射口
591 ガス吸引口
611 保持部本体
613 フランジ支持部
615 第2凹凸部
J1 中心軸
S11〜S19 ステップ
Claims (7)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
水平状態で基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上面に対向するとともに中央部に対向部材開口が設けられる対向部材と、
前記対向部材を保持し、上下方向の第1の位置と前記第1の位置よりも下方の第2の位置との間で前記対向部材を前記基板保持部に対して相対的に移動する対向部材移動機構と、
前記上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転させる基板回転機構と、
前記対向部材開口を介して前記基板の前記上面に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記対向部材と前記基板との間の空間に処理雰囲気用ガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記対向部材が、
前記基板の前記上面に対向するとともに中央部に前記対向部材開口が設けられる対向部材本体と、
前記対向部材本体の前記対向部材開口の周囲から上方に突出するとともに前記処理液ノズルが挿入される筒状の対向部材筒部と、
前記対向部材筒部の上端部から径方向外方に環状に広がるとともに前記対向部材移動機構に保持される対向部材フランジ部と、
前記対向部材フランジ部の上面において凹部と凸部とが同心円状に交互に配置される第1凹凸部と、
を備え、
前記対向部材移動機構が、
前記対向部材フランジ部の下面と前記上下方向に対向する保持部下部と、
前記対向部材フランジ部の前記上面と前記上下方向に対向する保持部上部と、
前記保持部上部の下面において凹部と凸部とが同心円状に交互に配置される第2凹凸部と、
を備え、
前記対向部材が前記第1の位置に位置する状態では、前記対向部材フランジ部が前記保持部下部により下側から支持されることにより、前記対向部材が前記対向部材移動機構により保持されて前記基板保持部から上方に離間し、
前記対向部材が前記第2の位置に位置する状態では、前記対向部材が、前記対向部材移動機構から離間し、前記基板保持部により保持されて前記基板回転機構により前記基板保持部と共に回転可能となり、前記第1凹凸部および前記第2凹凸部の一方の凹部内に他方の凸部が間隙を介して配置されることによりラビリンスが形成され、前記ラビリンスにシールガスが供給されることにより、前記処理液ノズルと前記対向部材筒部との間の空間であるノズル間隙が、前記ラビリンスの径方向外側の空間からシールされることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記保持部上部が、前記ラビリンスの径方向内端と径方向外端との間にて前記ラビリンスに向けて前記シールガスを噴射する周状噴射口を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記シールガスの供給源であるシールガス供給部と前記周状噴射口との間にて、前記シールガス供給部からの前記シールガスを一時的に貯留する環状のマニホールドをさらに備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2または3に記載の基板処理装置であって、
前記ラビリンスにおいて前記周状噴射口に対向する面が、径方向外方に向かうに従って下方へと向かう傾斜面であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記第1凹凸部が複数の凹部を有し、
前記複数の凹部のうち最も径方向内側の凹部が、前記対向部材筒部の上部に設けられ、他の凹部よりも前記上下方向の大きさが大きいことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記保持部上部が、前記ラビリンスの径方向外端部において前記ラビリンス内のガスを吸引する周状吸引口を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし6のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記ガス供給部により、前記処理液ノズルの側面から前記ノズル間隙へと斜め下方に向けて前記処理雰囲気用ガスが噴射されることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015120297A JP6402071B2 (ja) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | 基板処理装置 |
CN201610388454.XA CN106252258B (zh) | 2015-06-15 | 2016-06-02 | 基板处理装置 |
TW105117555A TWI625780B (zh) | 2015-06-15 | 2016-06-03 | 基板處理裝置 |
US15/172,613 US10249517B2 (en) | 2015-06-15 | 2016-06-03 | Substrate processing apparatus |
KR1020160071915A KR101878550B1 (ko) | 2015-06-15 | 2016-06-09 | 기판 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015120297A JP6402071B2 (ja) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017005194A true JP2017005194A (ja) | 2017-01-05 |
JP6402071B2 JP6402071B2 (ja) | 2018-10-10 |
Family
ID=57754741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015120297A Active JP6402071B2 (ja) | 2015-06-15 | 2015-06-15 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6402071B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110140198A (zh) * | 2017-01-16 | 2019-08-16 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置及基板处理方法 |
CN110164791A (zh) * | 2018-02-13 | 2019-08-23 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11102882A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
JP2004079909A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法 |
JP2004134431A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Sprout Co Ltd | 基板処理装置およびその製造方法 |
JP2006128424A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2012015506A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Asml Netherlands Bv | アクチュエータ |
-
2015
- 2015-06-15 JP JP2015120297A patent/JP6402071B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11102882A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板洗浄装置 |
JP2004079909A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-03-11 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板周縁処理装置および基板周縁処理方法 |
JP2004134431A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Sprout Co Ltd | 基板処理装置およびその製造方法 |
JP2006128424A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2012015506A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Asml Netherlands Bv | アクチュエータ |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110140198A (zh) * | 2017-01-16 | 2019-08-16 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置及基板处理方法 |
CN110140198B (zh) * | 2017-01-16 | 2023-03-21 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置及基板处理方法 |
CN110164791A (zh) * | 2018-02-13 | 2019-08-23 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置 |
CN110164791B (zh) * | 2018-02-13 | 2024-01-19 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6402071B2 (ja) | 2018-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101878550B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
JP6467292B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6017999B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR101867748B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
US10636682B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP6392046B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6422827B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6402071B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6491900B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6416652B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6442361B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP6405259B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6563098B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2018160508A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2017010977A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2017143125A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP6216279B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2015188031A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2018093133A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170829 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171222 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180620 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180816 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180910 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6402071 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |