JP3102831B2 - 回転処理装置 - Google Patents

回転処理装置

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【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、液晶用ガラス角型基
板、半導体ウエハ、カラーフィルタ用基板などの基板
(以下単に「基板」という)を回転させて当該基板の表
面に供給されたフォトレジストや洗浄水などの処理液を
表面全体に拡散流動させて、フォトレジストを基板表面
に塗布してその薄膜を形成したりあるいは洗浄液によっ
て基板表面の洗浄を行ったりする回転処理装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来より、この種の回転処理装置として
は、例えば特開平4−61955号公報に記載された装
置がある。この装置では基板を水平に支持しつつ回転さ
せる回転台が設けられており、基板の上面中央部に塗布
液(処理液)を滴下した後、基板を搭載した状態のまま
で回転台を回転させることによって塗布液を拡散流動さ
せて、均一な薄膜を基板の上面に形成させている。
【0003】上記のように構成された回転処理装置で
は、例えば図4に示すように、基板2を回転させること
によって、基板2上へ供給した塗布液(処理液)を遠心
力でその表面全体に拡散流動させるために、余剰の塗布
液Lは基板2から外周方向に排出される。ここで、この
ようにして排出された塗布液Lを放置しておくと、塗布
液Lにより装置が汚染されたり、固化した塗布液Lがパ
ーティクルとなって基板2に付着する等の問題が生じる
ため、当該装置では回転台から一定距離だけ離れて側壁
を設け、排出された塗布液を回収するようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように構成された装置では、同図(b)に示すように、
基板2から排出された塗布液(処理液)Lの一部が側壁
に達する前に回転する基板2の表面に再付着し、基板2
が汚染されると問題があった。特に角型基板2では隅部
から排出された塗布液Lが重大な問題となる。
【0005】なお、上記のような問題は、塗布液を基板
表面に回転塗布する装置にのみ生じるのではなく、現像
液や洗浄液などの処理液を基板に供給し、基板回転によ
り拡散流動させて所定の処理を行う回転処理装置全般に
おいて生じる問題である。
【0006】そこで、この発明は、上記課題を解決する
ためになされたもので、基板から排出された処理液を確
実に回収して、処理液の基板への再付着を防止すること
ができる回転処理装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、角型
基板を回転させて、当該角型基板に供給された処理液を
その表面全体に拡散流動させて、前記角型基板に所定の
処理を施す回転処理装置であって、上記目的を達成する
ため、角型基板の外形と同等以上の大きさを有し、角型
基板を水平支持した状態で回転させる回転支持手段と、
前記回転支持手段上に支持された角型基板を取り囲むよ
うに、角型基板の全周に沿ってその外周部に近接して配
置され、前記回転支持手段と一体に回転するとともに、
前記角型基板から外周方向に飛散した処理液を受ける処
理液受け手段と、を備えている。また、前記処理液受け
手段は、前記角型基板から外周方向に飛散した処理液が
受けられる傾斜案内部と、この傾斜案内部で受けられた
処理液が導かれる壁部と、この壁部に導かれた処理液を
外部に排出する排液口と、を有している。
【0008】請求項2の発明は、前記処理液受け手段
が、前記回転支持手段上に支持された角型基板と平行に
設けられて外周縁から前記傾斜案内部が延設されている
水平ひさし部をさらに有している。
【0009】
【0010】請求項の発明は、回転支持手段上に支持
された角型基板の上面と所定の間隔を隔てて平行に配設
されるとともに、角型基板の外形と同等以上の形状を有
し、かつ、回転支持手段と一体に回転される上部回転板
を、さらに備えている。
【0011】
【作用】請求項1の発明では、処理液受け手段が回転
支持手段上に支持された角型基板を取り囲むように、角
型基板の全周に沿ってその外周部に近接して配置され
さらに、処理液受け手段は、傾斜案内部、壁部、および
排液口を有している。このため、前記回転支持手段によ
って角型基板を回転させた際に当該角型基板から外周方
向に飛散した処理液が確実に、傾斜案内部で受けられ、
さらに壁部に導かれ、そして排液口から排出され、回収
される。したがって、角型基板への処理液の再付着が防
止される。
【0012】請求項2の発明では、さらに、前記回転支
持手段上に支持された角型基板と平行に設けられた水平
ひさし部が、前記傾斜案内部の外周縁から延設されてい
るので、角型基板から排出された処理液が、この水平ひ
さし部および傾斜案内部で受けられ、さらに壁部に導か
れ、そして排液口から排出される。
【0013】
【0014】請求項の発明では、上部回転板が回転
支持手段上に支持された角型基板の上面と所定の間隔を
隔てて平行に配設されて、密閉あるいは半密閉空間を形
成する。
【0015】
【実施例】図1は、この発明にかかる回転処理装置の一
実施例を示す断面図である。また、図2は、この装置の
部分拡大図である。この回転処理装置では、例えば角形
の基板2を搭載でき、しかも回転軸4回りに回転自在な
アンダープレート6が設けられている。すなわち、回転
軸4に沿って回転シャフト8が垂設されており、その上
端に連結ボス10を介して基板2の外形と同等以上の大
きさを有するアンダープレート6が水平に取り付けられ
る一方、その下端に図示を省略するモータが連結されて
いる。また、この回転シャフト8の先端部には、吸着チ
ャック14が固着されており、基板2を吸着支持可能と
なっている。このように、この実施例は、これらの構成
により、基板2を水平支持した状態で回転させる回転支
持手段が構成されている。
【0016】このアンダープレート6の上方側には、ト
ッププレート7がアンダープレート6に支持された基板
2と所定間隔を隔てた上方位置に平行配置されている。
このトッププレート7は、図1の一点鎖線に示すよう
に、図示しない昇降装置により上下方向に移動自在であ
り、下降時には後述するリング状のスペーサ34と嵌合
して、アンダープレート6,スペーサ34と一体化した
状態で回転軸4回りに回転するようになっている。
【0017】また、アンダープレート6の上面には、回
転軸4を同心としたリング状の整流板16が固定されて
おり、基板2やアンダープレート6と一体的に回転され
るようになっている。この整流板16を設けることで、
図2に示すように、基板2の外周下面には、わずかな隙
間しか存在しなくなり、基板2を回転させた場合でも、
基板2の外周部付近で渦状の気流が発生するのを抑制す
ることができ、レジスト液や洗浄液などの処理液が基板
2の裏面側に回り込むなどの不都合を防止することがで
きる。
【0018】さらに、アンダープレート6の上面に吸着
支持された基板2および整流板16を取り囲むように、
基板2とほぼ相似形の角型の処理液受け部材18が固定
されて、基板2と近接した状態で一体的に回転可能とな
っている。
【0019】図3は、処理液受け部材18を示す斜視図
である。処理液受け部材18には、同図に示すように、
上面側に基板2と同等以上の大きさの開口20が形成さ
れており、この開口20を介して基板2を搬入および搬
出することができるように構成されている。また、処理
液受け部材18は、水平ひさし部22と、傾斜案内部2
4と、水平案内部26と、壁部28とを有し、次のよう
に構成されている。すなわち、水平ひさし部22は基板
2と平行に延設され、また当該水平ひさし部22の外周
縁から裾広がり状に傾斜案内部24が延設されている。
そして、この傾斜案内部24の下端縁より水平外方に水
平案内部26が延設されている。さらに、水平案内部2
6の外周縁から下方に壁部28が立設され、アンダープ
レート6に固定される。このため、処理液を供給した
後、基板2を回転させると、図2に示すように、回転に
より発生した遠心力Fによって当該基板2から外周方向
に余剰の処理液Lが排出されるが、その処理液Lが直ち
に近接配置された処理液受け部材18の水平ひさし部2
2および傾斜案内部24で受けられ、水平案内部26と
アンダープレート6との間を矢印で示す経路Rに沿って
壁部28側に導かれる。そして、処理液受け部材18の
隅部に設けられた排液口32を介して水平外方に排出さ
れる。
【0020】この処理液受け部材18を取り囲むよう
に、アンダープレート6の上面の外周部にスペーサ34
が固設されている。また、このスペーサ34の上面側
で、トッププレート7はピンPの嵌め合いによってスペ
ーサ34に対して着脱自在となっており、トッププレー
ト7が下降してスペーサ34に装着されると、これらア
ンダープレート6,トッププレート7及びスペーサ34
とで基板2への処理液による所定の処理を行う閉空間S
が形成される。
【0021】このスペーサ34の下面の所定位置には溝
36が穿設されており(図2参照)、処理液受け部材1
8の排液口32から排出された処理液が溝36を介して
外部に流出される。スペーサ34の溝36の外周端部と
対向する位置には、断面形状が台形のトラップ部38が
設けられている。このトラップ部38は溝36を介して
閉空間Sと連通される。また、トラップ部38の下側に
は、アンダープレート6の半径方向内側に向かって低く
なる傾斜面40が形成され、傾斜面40の下端には、排
出穴42が設けられている。したがって、基板2および
アンダープレート6が高速回転し、遠心力Fが付加され
ている間、基板2からの余剰の処理液Lが処理液受け部
材18で受けられ、さらに溝36を介してトラップ部3
8に流入するとともに、そのトラップ部38で貯留され
る。そして、基板2およびアンダープレート6の回転数
が落ちて、遠心力Fが一定未満になる、あるいはゼロに
なったとき、トラップ部38に貯留されていた処理液
が、排出穴42から下方に流出する。
【0022】なお、図示を省略しているが、アンダープ
レート6のまわりには、環状のカップが配置されてお
り、上記のようにして排出された処理液を回収し、所定
の排液回収部に排出するようになっている。
【0023】以上のように、この実施例によれば、処理
液受け部材18を吸着チャック14上の支持された基板
2の外周部に近接して配置しているため、基板2を回転
させた際に当該基板2から外周方向に飛散する処理液L
を確実に回収することができ、基板2への処理液Lの再
付着を効果的に防止することができる。また、処理液受
け部材18により余剰の処理液Lを回収するようにして
いるので、処理液Lによるトッププレート7やスペーサ
34の汚染を防止することができ、トッププレート7や
スペーサ34のメンテナンスを簡素にすることができ
る。
【0024】なお、上記実施例では、ほぼ密閉された空
間Sを形成する半密閉タイプの回転処理装置について説
明したが、完全に密閉された閉空間を形成する半密閉タ
イプやトッププレート7を設けないオープンタイプの装
置にも本発明を適用することができる。
【0025】また、上記実施例では、処理液受け部材1
8を基板2の全周に沿って設けている
【0026】また、上記実施例では、排液口32を処理
液受け部材18の四隅部に設けたが、排液口32の配設
位置および個数はこの実施例に限定されるものではな
く、任意である。
【0027】また、上記では、処理液を供給した後に基
板を回転させているが、処理液を基板に供給しながら基
板を回転させる装置にも本発明を適用することができる
ことはいうまでもない。
【0028】
【0029】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、処理液受け手
段を回転支持手段上に支持された角型基板を取り囲む
ように、角型基板の全周に沿ってその外周部に近接して
配置し、さらに、処理液受け手段には、傾斜案内部、壁
部、および排液口が設けられている。このため、前記回
転支持手段によって角型基板を回転させた際に当該角型
基板から外周方向に排出された処理液を確実に、傾斜案
内部で受け、さらに壁部に導き、そして排液口から排出
して、回収することができ、その結果、処理液の角型
板への再付着を防止することができる。
【0030】請求項2の発明によれば、さらに、前記回
転支持手段上に支持された角型基板と平行に設けられた
水平ひさし部が、前記傾斜案内部の外周縁から延設され
ているので、角型基板から排出された処理液を、この水
平ひさし部および傾斜案内部で受け、さらに壁部に導
き、そして排液口を介して外部に排出することができ
る。
【0031】
【0032】請求項の発明によれば、上部回転板を回
転支持手段上に支持された角型基板の上面と所定の間隔
を隔てて平行に配設しているが、回転する角型基板から
排出した処理液を処理液受け手段によって受けるように
しているので、前記上部回転板が処理液により汚染さ
るのを効果的に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明にかかる回転処理装置の一実施例を示
す断面図である。
【図2】図1の装置の部分拡大図である。
【図3】処理液受け部材を示す斜視図である。
【図4】従来の回転処理装置における余剰の処理液の飛
散の様子を示す模式平面図である。
【符号の説明】
2 基台 6 アンダープレート 7 トッププレート 14 吸着チャック 18 処理液受け部材22 水平ひさし部 24 傾斜案内部 28 壁部 32 排液口 L 余剰の処理液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 21/308 H01L 21/30 564C (56)参考文献 特開 平4−87665(JP,A) 特開 平4−341367(JP,A) 特開 平2−249225(JP,A) 実開 平1−48171(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B05C 11/08 B05D 1/40 G03F 7/16 502 G03F 7/30 502 H01L 21/027 H01L 21/304 351 H01L 21/304 651 H01L 21/308

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 角型基板を回転させて、当該角型基板に
    供給された処理液をその表面全体に拡散流動させて、前
    角型基板に所定の処理を施す回転処理装置において、角型 基板の外形と同等以上の大きさを有し、角型基板を
    水平支持した状態で回転させる回転支持手段と、 前記回転支持手段上に支持された角型基板を取り囲むよ
    うに、角型基板の全周に沿ってその外周部に近接して配
    置され、前記回転支持手段と一体に回転するとともに、
    前記角型基板から外周方向に飛散した処理液を受ける処
    理液受け手段と、 を備え 前記処理液受け手段は、前記角型基板から外周方向に飛
    散した処理液が受けられる傾斜案内部と、この傾斜案内
    部で受けられた処理液が導かれる壁部と、この壁部に導
    かれた処理液を外部に排出する排液口と、を有する こと
    を特徴とする回転処理装置。
  2. 【請求項2】 前記処理液受け手段は、前記回転支持手
    段上に支持された角型基板と平行に設けられて外周縁か
    ら前記傾斜案内部が延設されている水平ひさし部をさら
    に有する請求項1記載の回転処理装置。
  3. 【請求項3】 回転支持手段上に支持された角型基板の
    上面と所定の間隔を隔てて平行に配設されるとともに、
    角型基板の外形と同等以上の形状を有し、かつ、回転支
    持手段と一体に回転される上部回転板を、さらに備えた
    請求項1または請求項2記載の回転処理装置。
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