JPH08262741A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の移し代えを要することなく、現像処理
直後に洗浄しても、現像排液と純水とを確実に分離でき
る現像装置を提供する。 【構成】 回転機構11で基板15を回転させ、現像液吐出
ノズル17から現像液を供給し、余剰分の現像液を基板15
上から振り切り、外方に向けて飛散する。可動容器36の
周面部37の内周面に衝突して排液回収部39に捕らえられ
るか、カバー46を伝わって下部の排液回収部39に流れ落
ちる。排液回収部39から排液配管40を通って排液タンク
に排出し、回収する。上下駆動機構44により可動容器36
を下降させる。純水吐出ノズル18から純水を供給して純
水置換する。純水を基板15上から振り切り、外方に向け
て飛散する。可動容器36の内周面には飛散した純水が衝
突することなく、固定容器30の周面部31の内周面に衝突
して捕らえられるか、連続する整流板を経て外方に流れ
る。現像液および純水をそれぞれ別個に回収する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板の表面に現像液お
よび洗浄液を供給する現像装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、たとえば液晶ディスプレイ用の
ガラス基板の表面に所定のパターンを形成する場合、予
め感光剤を塗布した基板表面に所定パターンの露光を行
ない、感光剤を現像処理することによってパターンを形
成する方法が用いられている。このようなパターンの形
成において、基板の表面上の露光された感光剤を現像処
理する基板現像装置としては、従来たとえば図３で示す
構成が知られている。

【０００３】図３において、11は回転機構で、この回転
機構11は基台12に取り付けられたモータ13により回転駆
動される回転チャック14を有し、この回転チャック14上
に被現像体である基板15が真空吸着によって保持されて
いる。また、回転チャック14の上方には、現像液吐出ノ
ズル17および純水吐出ノズル18が配置されており、この
回転チャック14上に保持されて、回転駆動されている基
板15の中心部に現像液または純水の対応するものを供給
する。

【０００４】さらに、装置全体には容器20が設けられ、
この容器20の内部には回転機構11が設けられており、こ
の回転機構11の外周および上面をそれぞれ間隔を保って
覆う周面部21および上面部22を有する。この周面部21の
下縁部はＵ字状に内方に向けて折曲されており、排液回
収部23を構成しており、この排液回収部23の底部には排
液配管24の一端が連結しており、この排液配管24の他端
は図示しない排液タンクに通じている。

【０００５】なお、上面部22には、図示していないが、
現像液および純水を透過させるための開口が形成されて
いる。

【０００６】また、回転チャック14の下方空間は、この
回転チャック14のネック部から排液回収部23に至る範囲
でカバー26で覆っている。

【０００７】そして、基板15を現像する場合は、この基
板15の表面を上向きにして回転チャック14上に真空吸着
により取り付ける。なお、この基板15の表面には感光剤
が塗布されるとともに、所定のパターンに露光されてい
る。

【０００８】次に、モータ13を制御して、回転チャック
14に保持された基板15を１００rpm程度の速度で回転さ
せる。この回転状態において、回転中の基板15の中央に
現像液吐出ノズル17から現像液を供給し、この供給され
た現像液は基板15の回転により基板15の全面に一様に広
げられる。そして、現像液の余剰分は基板15上から振り
切られ、破線で示すように、外方に向かって飛散し、容
器20の周面部21の内周に捕らえられ、下部の排液回収部
23に流れ落ちる。さらに、この排液回収部23から排液配
管24を通って図示しない排液タンクに排出される。

【０００９】このようにして、基板15の全面に現像液が
広がった後、現像液吐出ノズル17からの現像液の供給を
停止し、基板15の回転を停止し、静止状態で現像処理す
る。

【００１０】一定時間経過後、再びモータ13を駆動し、
基板15を１００rpm 程度の速度で回転させる。また、基
板15の中央部に純水吐出ノズル18から純水を供給し、現
像を停止させるべく純水置換する。この純水は現像液と
同様に基板15の回転によって基板15の全面に一様に広が
った後、基板15上から振り切られ、破線で示すように、
外方に向かって飛散する。そして、容器20の周面部21の
内周に捕らえられ、下部の排液回収部23に流れ落ち、排
液配管24を通って図示しない排液タンクに排出される。

【００１１】純水による置換終了後、純水吐出ノズル18
からの純水供給を停止するとともに、モータ13を制御し
て、基板15を２０００rpm 程度の速度で高速回転させ、
乾燥させる。この際に振り切られた純水も、同様に容器
20の周面部21の内周から排液回収部23に流れ落ち、排液
配管24を通って図示しない排液タンクに排出させる。

【００１２】ここで、排液回収部23から排液配管24を通
って排液される現像排液は、現像液と純水とが混合され
たものであるが、現像液は生物的酸素要求量（Ｂ．Ｏ．
Ｄ）が高いため、通常の酸アルカリ排液に使用される排
液処理設備では分解処理することができない。このた
め、現状は現像液を含む現像排液を、装置外部に設けた
排液タンク内に回収し、定期的に処理している。

【００１３】しかし、排液タンクは基板15の生産規模が
大きくなれば、生産規模に比例して容量を大きくしなけ
ればならず、また、回収に要する費用も高額になるな
ど、大容量化には限界があり、基板15の生産量を制限す
る原因となる。したがって、現像排液量を極力少なくす
ることが強く要望されている。

【００１４】また、排液量の削減策として、現像液と純
水の使用量を削減することのほかに、現像液と純水とを
分離することが考えられる。現像液は基板15の全面に液
盛りが可能な量であればよく、置換に必要な純水に比べ
３分の１以下の量である。そして、排液のうち純水は通
常の一般排液と同様に処理できるので、現像排液として
現像液と純水とを分離できれば、排液タンクに回収する
現像液分の排液量を大幅に削減できる。このことは、現
像液と純水との使用量を削減すること以上に、排液削減
効果が大きく重要である。

【００１５】そして、現像排液を現像液と純水とに分離
する方法としては、図３で示す基板現像装置により基板
15を回転させながら、まず、現像液を現像液吐出ノズル
17から供給し、所定の現像処理時間を経た後に、基板15
を回転チャック14上から取り外し、別の同種の基板現像
装置における回転チャック14上に取り付け、基板15を回
転させるとともに純水吐出ノズル18から純水を供給して
純水置換することが考えられる。

【００１６】このように、現像液供給と純水置換とを別
の装置でそれぞれ行なえば、各基板現像装置の排液回収
部23には、現像液のみの排液と、純水のみの排液とが、
それぞれ個別に回収されるので、現像液の排液のみ排液
タンクに回収し、純水による排液は一般の排液とともに
処理すれば、排液タンクに回収される現像液分の排液の
量を大幅に削減することができる。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の基板15に対する現像工程では、現像処理後すぐに純水
置換を行なわないと現像むらが発生し、現像後のパター
ンの線幅が面内で不均一になってしまう。このため、上
述のように、一方の基板現像装置で現像処理した後に、
他の基板現像装置に基板15を移し代えることは時間的に
困難であり、同一の基板現像装置の回転チャック14上に
基板15を保持したまま、現像から純水置換までの一連の
シーケンスを実行しなければならない。

【００１８】この場合、基板現像装置の排液回収部23に
は、現像処理および純水置換処理に伴って現像液と純水
とが時系列的に回収されて混合されてしまう。この混合
を防ぐために、排液回収部23に連結された排液配管24
を、上述した処理シーケンスに従って時分割で２系統に
切換えることも考えられるが、排液回収部23の底部に排
液の溜まりが生じるので現像液が純水と混ざってしま
い、実質的に分離が不可能である。

【００１９】このように、現像処理直後に純水置換を行
なわなければならないため、排液を現像排液と純水とに
分離することが困難で、多量の現像排液を回収しなけれ
ばならない問題を有している。

【００２０】本発明の目的は、基板の移し代えを要する
ことなく、現像処理直後に洗浄しても、現像排液と洗浄
液とを確実に分離することができる現像装置を提供する
ことにある。

【００２１】

【課題を解決するための手段】本発明は、回転機構によ
り回転駆動されている基板の表面に現像液を供給すると
ともに、この現像液により現像処理された基板の表面に
洗浄液を供給する現像装置において、前記回転機構の少
なくとも外周部分を覆って前記回転による前記基板の表
面からの前記現像液および前記洗浄液のいずれか一方を
捕らえて回収する第１の容器と、この第１の容器の内側
に同軸状に前記基板に対して相対的に上下動可能に設け
られ前記基板の表面からの前記現像液および前記洗浄液
のいずれか他方を捕らえて回収する第２の容器とを備
え、前記基板が前記第１の容器に対応する位置に位置す
る場合には、前記第１の容器に基板の表面からの前記現
像液および前記洗浄液のいずれか一方を回収し、前記基
板が前記第２の容器に対応する位置に位置する場合に
は、前記第２の容器に基板の表面からの前記現像液およ
び前記洗浄液のいずれか他方を回収するものである。

【００２２】

【作用】本発明は、第１の容器および第２の容器のいず
れか一方を可動容器を基板に対応させた位置に位置さ
せ、回転中の基板の表面に現像液を供給し、現像液が回
転状態の基板上に均一に広がり、余剰分は基板上から振
り切られ、外周部分に位置する対応する第１の容器また
は第２の容器に衝突し、余剰の現像液を排液回収部に回
収させるとともに現像処理し、次に、第２の容器を基板
に対して相対的に移動させ、第１の容器および第２の容
器のいずれか他方を基板に対応させて、回転機構を再び
駆動して基板を回転させ、この回転状態にある基板上に
洗浄液を供給して洗浄し、基板上に供給された純水は、
基板上で一様に広がった後、基板上から振り切られ、外
周部分に位置する対応する第１の容器または第２の容器
に衝突し、洗浄液を排液回収部に回収させ、現像液およ
び洗浄液をそれぞれ個別に回収することができ、特別の
処理を要する現像排液量を大幅に削減できる。

【００２３】

【実施例】以下、本発明の現像装置の一実施例を図面を
参照して説明する。なお、図３に示す従来例に対応する
部分には、同一符号を付して説明する。

【００２４】図１および図２に示すように、回転機構11
は基台12に取り付けられたモータ13により回転駆動され
る回転チャック14を有し、この回転チャック14上に被現
像体であるたとえばガラスなどの基板15が真空吸着によ
って保持されている。また、回転チャック14の上方に
は、現像液吐出ノズル17および純水吐出ノズル18が配置
されており、この回転チャック14上に保持されて、回転
駆動されている基板15の中心部に現像液または純水の対
応するものを供給する。

【００２５】また、回転機構11は第１の容器としての固
定容器30に覆われ、この固定容器30は回転機構11の外周
および上面を間隔を保って覆う周面部31および上面部32
を有している。そして、この周面部31の下縁部はＵ字状
に内方に向けて折曲されており、排液回収部33を構成
し、この排液回収部33の底部には排液配管34の一端が連
結している。

【００２６】なお、上面部32には、図示していないが、
現像液および洗浄液としての純水を透過させるための開
口が形成されている。

【００２７】また、固定容器30の内側には第２の容器と
しての可動容器36が同軸状に配置されており、回転チャ
ック14の上に保持された基板15の外周を間隔を保って覆
う周面部37および基板15の上面を間隔を保って覆う上面
部38を有する。そして、周面部37の下縁部はＵ字状に内
方に向けて折曲されており、排液回収部39を構成し、こ
の排液回収部39の底部には排液配管40の一端が連結して
おり、他端は図示しない排液タンクに通じている。

【００２８】また、この可動容器36の上面部38には、図
示していないが、回転チャック14上に保持された基板15
を透過させる大きさの開口が設けられている。

【００２９】さらに、可動容器36の外周部分には、その
上面部38から斜め下方に立ち下がり、固定容器30の排液
回収部33を形成する立上り部41に上下動作可能に接触す
るガイド部42が一体に設けられている。

【００３０】さらに、この可動容器36の内側には支持フ
レーム43が一体に設けられており、この支持フレーム43
を介して基台12上に設けられた上下駆動機構44と連結し
ており、この上下駆動機構44により上下方向に駆動され
る。

【００３１】ここで、可動容器36は、図１で示す所定の
上昇位置にあるとき、周面部37の内周面が回転チャック
14に保持された基板15の外周を間隔を保って覆うように
位置設定される。また、図２で示す所定の下降位置にあ
るときは、上面部38が回転チャック14の下面より下方に
位置し、回転中の基板15から振り切られた液がより外方
に達するように位置設定されている。

【００３２】回転チャック14の下方空間には、この回転
チャック14のネック部から可動容器36の排液回収部39に
至る範囲を覆い整流板として機能するカバー46が設けら
れている。

【００３３】次に、上記実施例の動作について説明す
る。

【００３４】基板15を現像する場合は、まず、基板15の
表面を上向きにして回転チャック14上に真空吸着により
取り付ける。この基板15の表面には感光剤が塗布され、
所定のパターンに露光されている。この状態で、可動容
器36を上下駆動機構44により所定の上昇位置に上昇させ
ておく。また、回転機構11を構成するモータ13を制御し
て、回転チャック14上に真空吸着保持された基板15を１
００rpm 程度の速度で回転させる。

【００３５】そして、この回転中の基板15の表面中央部
に現像液吐出ノズル17から現像液を供給し、供給された
現像液は基板15の回転により基板15の全面に一様に広げ
られる。また、余剰分は基板15上から振り切られ、破線
で示すように、外方に向かって飛散し、上昇位置にある
可動容器36の周面部37の内周面に衝突して排液回収部39
に捕らえられ、あるいは、整流板を兼ねるカバー46を伝
わって下部の排液回収部39に流れ落ちる。さらに、排液
は、この排液回収部39から排液配管40を通って図示しな
い排液タンクに排出され、回収される。

【００３６】このようにして、基板15の全面に現像液が
広がった後、現像液吐出ノズル17からの現像液の供給を
停止し、基板15の回転を停止させ、静止状態で所定時間
現像処理する。この現像処理後、モータ13を制御して基
板15を５００rpm 程度の速度で３秒程度回転させ、基板
15上に残った現像液を振り切る。振り切られた現像液
は、可動容器36の排液回収部39から図示しない廃液回収
タンクに回収される。

【００３７】次に、モータ13を制御して基板15の回転速
度を１００rpm 程度に減速し、その後、上下駆動機構44
により可動容器36を所定の下降位置まで下降させる。こ
の下降位置において、可動容器36の上面部38は、図２で
示すように、回転チャック14より低く位置し、かつ、整
流板を兼ねるカバー46の外縁部と連続的に接合する。こ
のため、回転チャック14のネック部から、カバー46、可
動容器36の上面部38およびその外周部に設けられたガイ
ド部42により、回転チャック14のネック部から固定容器
30の排液回収部33に至る連続した整流板が形成される。

【００３８】この状態において、前述のように、１００
rpm に減速された速度で回転している基板15の表面中央
部に純水吐出ノズル18から純水を供給して純水置換す
る。そして、基板15上に供給された純水は、基板15上で
一様に広がった後に、基板15上から振り切られ、外方に
飛散する。このとき、可動容器36は下降位置にあるた
め、この可動容器36の内周面に飛散した純水が衝突する
ことはなく、上部を通過してさらに外方に飛散し、固定
容器30の周面部31の内周面に衝突して捕らえられ、ある
いは、連続する整流板を経て外方に流れ出る。そして、
最終的には、それぞれ固定容器30の排液回収部33に流れ
落ち、排液配管34により通常の排水処理装置に排出され
る。

【００３９】そして、純水による置換を終了した後、純
水吐出ノズル18からの純水供給を停止するとともにモー
タ13を制御して、基板15を２０００rpm 程度の速度で高
速回転させ、乾燥させる。この際に、基板15から振り切
られた純水も、固定容器30の周面部31の内周面から排液
回収部33に流れ落ち、排液配管34を通って通常の排水処
理装置に排出される。

【００４０】このように、基板15の現像の際に、現像処
理と純水置換とを、共通の基板現像装置により、基板の
移し代えを要することなく順次処理することができるの
で、現像から純水置換までの間に時間がかかり過ぎるこ
とによる現像むらの発生を防止でき、現像後のパターン
線幅を均一にできる。

【００４１】しかも、現像排液は可動容器36の排液回収
部39に、純水排液は固定容器30の排液回収部33に、それ
ぞれ個別に回収することができるので、純水による排液
は通常の排水処理装置により処理でき、外部業者の回収
など、特別の処理を要する現像排液量を大幅に削減する
ことができる。したがって、排液回収のためのランニン
グコストが低減されるとともに、排液回収量による制限
を受けていた基板の生産量を大幅に増大できる。

【００４２】なお、上記実施例では、現像排液を可動容
器36の排液回収部39に、純水排液を固定容器30の排液回
収部33に回収していたが、この関係を逆にしてもよい。
すなわち、現像液供給時に可動容器36を所定の下降位置
に位置させ、基板15から振り切られた現像液を固定容器
30の排液回収部33に回収させ、純水供給時は、可動容器
36を所定の上昇位置に上昇させ、基板15から振り切られ
た純水を可動容器36の排液回収部39に回収させるように
してもよい。

【００４３】

【発明の効果】本発明によれば、第２の容器を基板に対
して相対的に上下動可能に設け、第１および第２の容器
にそれぞれ現像液および洗浄液を別個に回収するため、
基板の移し代えを要することなく、現像処理および洗浄
処理を連続的に実行できるので、現像むらのない良好な
現像状態が得られるとともに、現像排液と純水排液とを
分離できるので、特別な処理を必要とする現像排液の量
を大幅に削減できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の現像装置に一実施例を示す断面図であ
る。

【図２】同上現像装置の他の動作状態を示す断面図であ
る。

【図３】従来の現像装置を示す断面図である。

【符号の説明】

11 回転機構 15 基板 30 第１の容器としての固定容器 36 第２の容器としての可動容器

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転機構により回転駆動されている基板
   の表面に現像液を供給するとともに、この現像液により
   現像処理された基板の表面に洗浄液を供給する現像装置
   において、 前記回転機構の少なくとも外周部分を覆って前記回転に
   よる前記基板の表面からの前記現像液および前記洗浄液
   のいずれか一方を捕らえて回収する第１の容器と、 この第１の容器の内側に同軸状に前記基板に対して相対
   的に上下動可能に設けられ前記基板の表面からの前記現
   像液および前記洗浄液のいずれか他方を捕らえて回収す
   る第２の容器とを備え、 前記基板が前記第１の容器に対応する位置に位置する場
   合には、前記第１の容器に基板の表面からの前記現像液
   および前記洗浄液のいずれか一方を回収し、 前記基板が前記第２の容器に対応する位置に位置する場
   合には、前記第２の容器に基板の表面からの前記現像液
   および前記洗浄液のいずれか他方を回収することを特徴
   とした現像装置。