JPH1041270A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】所定の種類の処理液を良好に回収できる基板処
理装置を提供する。 【解決手段】基板Ｗの処理のために用いられた後の処理
液は、内容器１０の排出口１１から排出され、樋部材１
５を介して、廃棄ドレン口２１ａまたは回収ドレン口２
１ｂのいずれかに導かれる。廃棄ドレン口２１ａには処
理液廃棄管２１Ａが接続されており、回収ドレン口２１
ｂには処理液回収管２１Ｂが接続されている。回収ドレ
ン口２１ｂの入り口部には、回収される処理液中の異物
を除去するためのメッシュフィルタ１２２が配置されて
いる。 【効果】メッシュフィルタ１２２を通る処理液は回収対
象の処理液のみであるから、メッシュフィルタ１２２に
処理液が残留したとしても、回収対象の処理液の純度が
落ちたり、処理液の回収効率が悪くなることはない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示装置用ガラス基板のような被処理基板に対して処
理を施すための基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置の製造工程に
は、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板のよう
な被処理基板に処理液を供給することにより、被処理基
板の表面やその表面に形成された薄膜に対する処理を施
す工程が含まれる。このような工程を実施するための装
置は、たとえば、実開平５−２０３２１号公報に開示さ
れており、その構成は、本願の図４に示されている。

【０００３】この装置は、基板Ｗを保持した状態で回転
可能なスピンチャック１と、支軸３を介してスピンチャ
ック１を高速回転するためのモータ５と、処理される基
板Ｗを包囲して処理室を形成する容器１０と、基板Ｗに
対して斜め上方または斜め下方から処理液を供給するた
めの処理液ノズル８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄとを備えてい
る。容器１０の底部には、基板Ｗの処理のために使用さ
れた後の処理液を排出するための排出口１１が形成され
ており、この排出口１１の上方には、処理液中の異物を
除去するためのメッシュフィルタ１２が配置されてい
る。より具体的には、図５に示すように、容器１１の底
面部には、支軸３を包囲する円に沿って、円弧状の排出
口１１が複数個形成されており、排出口１１の大きさお
よび形状に対応した円弧形状のメッシュフィルタ１２が
各排出口１１の上に配置されている。

【０００４】容器１０の下方には、排出口１１に対向す
るリング状の樋溝１７を有するほぼ円盤状の樋部材１５
が、支軸３を包囲する保護筒４に回転自在に取り付けら
れている。樋溝１７の底部の所定の１箇所には、排液流
下口１８が形成されている。また、樋部材１５の外周に
はリングギア２８が固定されており、このリングギア２
８には、モータ２６の駆動軸に取り付けられた駆動ギア
２７が噛合している。

【０００５】樋部材１５のさらに下方には、処理液を廃
棄するための廃棄ドレン口２１ａと、処理液を回収する
ための回収ドレン口２１ｂとが設けられている。このよ
うな構成により、モータ２６を駆動することによって、
樋部材１５の排液流下口１８を廃棄ドレン口２１ａまた
は回収ドレン口２１ｂのいずれかの上方に選択的に位置
させることができる。これにより、たとえば、エッチン
グ液や現像液のような薬液を基板に供給する際には、排
液流下口１８を回収ドレン口２１ｂの上方に位置させる
ことによって、薬液を再利用のために回収することがで
きる。これに対して、たとえば、基板Ｗに付いた薬液を
洗い落とすために基板Ｗに純水を噴射するような場合に
は、排液流下口１８を廃棄ドレン口２１ａの上方に位置
させることによって、薬液の混入した水を廃棄すること
ができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、図５から理
解されるとおり、排液を速やかに排出するために、容器
１０の排出口１１の開口面積は大きくする必要があり、
その上に配置されるメッシュフィルタ１２は、必然的に
大きな面積を有することになる。そのため、薬液処理の
後にメッシュフィルタ１２に残る薬液の量、純水による
洗浄処理の後にメッシュフィルタ１２に残る水の量は、
いずれも無視することができない。すなわち、純水によ
る処理の後に薬液処理を開始する際には、メッシュフィ
ルタ１２に残留している水が薬液とともに回収ドレン口
２１ｂに導かれ、薬液処理に引き続いて純水による処理
を開始した直後には、メッシュフィルタ１２に残留して
いる薬液は廃棄ドレン口２１ａに導かれることになる。

【０００７】その結果、薬液処理時に回収される薬液の
濃度が若干薄まることになり、また、純水による処理の
際には薬液の一部が廃棄されることになるから、薬液の
回収効率が悪いという問題が生じていた。そこで、本発
明の目的は、上述の技術的課題を解決し、所定の種類の
処理液を良好に回収することができる構成を備えた基板
処理装置を提供することである。。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明は、基板に対し
て複数種類の処理液を用いた処理を施すことができる基
板処理装置であって、処理対象の基板を収容することが
でき、基板の処理のために用いた後の処理液を排出する
ための排出口を有する容器と、上記容器の排出口に選択
的に結合され、いずれかの種類の処理液を回収するため
の処理液回収管と、上記容器の排出口に選択的に結合さ
れ、いずれかの種類の処理液を廃棄するための処理液廃
棄管と、上記処理液回収管のいずれかの位置に設けら
れ、回収される処理液中の異物を除去するための除去手
段とを含むことを特徴とする基板処理装置である。

【０００９】上記の構成によれば、処理液を回収するた
めの処理液回収管のいずれかの位置に異物を除去するた
めの除去手段が設けられている。処理液回収管には、回
収すべき種類の処理液のみが流通するから、除去手段に
おいて処理液が滞留したとしても、その処理液は、回収
対象の種類の処理液である。よって、処理液廃棄管を介
して廃棄すべき処理液が回収すべき処理液に混入するこ
とはない。

【００１０】また、容器の排出口に異物を除去するため
のフィルタ部材を配置する必要がないから、このような
フィルタ部材に回収対象の処理液が滞留することによる
不具合が生じることもない。すなわち、フィルタ部材に
滞留した回収対象の処理液が廃棄すべき処理液とともに
廃棄されてしまうといった問題は生じない。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発
明の実施の一形態に係る基板処理装置の構成を示す縦断
面図である。この基板処理装置は、半導体ウエハや液晶
表示パネル用ガラス基板のような基板Ｗにエッチング処
理や現像処理を施すための装置であり、基板Ｗを保持し
た状態で回転するスピンチャック１と、スピンチャック
１を支軸３を介して回転駆動するためのチャック駆動モ
ータ５と、処理中の基板Ｗを包囲するように配置された
内容器１０と、内容器１０の上部の開口１３から基板Ｗ
に向けて処理液を供給するための処理液ノズル８ａ，８
ｂと、内容器１０の底部に配置された処理液ノズル８
ｃ，８ｄとを備えている。処理液ノズル８ａは、たとえ
ば、エッチング液や現像液のような薬液を基板Ｗに供給
するためのノズルであり、処理液ノズル８ｂは、基板表
面の薬液を洗い落とすために純水を供給するノズルであ
る。また、処理液ノズル８ｃは、基板Ｗの裏面を洗浄す
るための洗浄薬液を基板Ｗに斜め下方から噴射するもの
であり、処理液ノズル８ｄは、洗浄薬液による処理によ
って基板Ｗに付着した薬液を洗い流すための純水を基板
Ｗに斜め下方から噴射するためのノズルである。

【００１２】内容器１０を包囲するように外容器２０が
設けられており、この外容器２０の底面板２０ａには、
処理液廃液管２１Ａの入り口に設けられた廃棄ドレン口
２１ａと、処理液回収管２１Ｂの入り口に設けられた回
収ドレン口２１ｂとが着脱自在に配設されている。そし
て、廃棄ドレン口２１ａおよび回収ドレン口２１ｂに
は、メッシュフィルタ１２１，１２２がそれぞれはめ込
まれている。

【００１３】ドレン口２１ａ，２１ｂと内容器１０の底
部との間には、大略的に円盤状の樋部材１５が介在され
ている。この樋部材１５は、支軸３を包囲する保護筒４
に軸受け７を介して回動自在に支持されており、内容器
１０の底面部に形成された排液口１１から流下する処理
液を受けるための樋溝１７と、この樋溝１７の底部の所
定の一箇所に形成された排液流下口１８とを有してい
る。これにより、樋部材１５を回転させて、排液流下口
１８を廃棄ドレン口２１ａまたは回収ドレン口２１ｂの
いずれかの上方に選択的に位置させることによって、内
容器１０から排出される処理液を処理液廃棄管２１Ａま
たは処理液回収管２１Ｂに選択的に導くことができる。

【００１４】各部の構成についてさらに詳述すれば、次
のとおりである。スピンチャック１は、上面に基板Ｗを
吸着して保持することができるものであり、その下面に
ボス部２を有している。このボス部２が支軸３の上端に
支持されており、支軸３の他端には、駆動モータ５の駆
動軸が連結されている。基板Ｗに対して処理を施すため
の処理室を形成する内容器１０は、保護筒４に固定され
た下カップ１０Ａと、下カップ１０Ａに対して分離自在
にはめ込まれた上カップ１０Ｂとからなる。スピンチャ
ック１に対して基板Ｗを着脱する際には、上カップ１０
Ｂを下カップ１０Ａから分離して上昇させる。

【００１５】下カップ１０Ａの底面部の最外周部には、
洗浄液Ｑ３，Ｑ４を基板Ｗに斜め下方から噴射するため
の洗浄液吐出ノズル８ｃ，８ｄが、下カップ１０Ａの底
面部の周方向に沿って配列されている。ノズル８ｃ，８
ｄの配列態様は、先行技術の構成を示す上述の図５の場
合と同様である。さらに、この図５に示されている構成
と同様に、下カップ１０Ａの底面部において、ノズル８
ｃ，８ｄよりも内周側の位置には、支軸３を中心とした
円に沿って配列された複数個（この実施形態では４個）
の円弧形状の排液口１１が形成されている。ただし、こ
の実施形態において、図４および図５に示された先行技
術の場合とは異なり、排液口１１にメッシュフィルタ１
２は配置されていない。

【００１６】図１に示されているとおり、下カップ１０
Ａの底面部は、排液口１１に向かって傾斜したテーパー
形状に形成されており、基板Ｗの処理のために使用され
た後の処理液は、全ていずれかの排液口１１に導かれる
ようになっている。下カップ１０Ａの側壁部には、排気
口１４が開口されており、内容器１０の上部開口１３か
ら気流Ｆを下降させるとともに、排気口１４から内容器
１０内の雰囲気を排気することによって、処理液ミスト
を内容器１０内の空間からすみやかに排出することがで
きるようになっている。

【００１７】下カップ１０Ａの底面部の下方に配置され
た樋部材１５は、全体がほぼ円盤状に形成されており、
軸受け７を介して保護筒４に回動自在に支持されてい
る。この樋部材１５の上面側には、図２に示すように、
排液口１１に沿って円形の樋溝１７が形成されている。
樋溝１７の底面部は、内側から外側下方に向けて傾斜し
た内側傾斜面と外側から内側下方に向けて傾斜した外側
傾斜面とを有し、両傾斜面が出会う箇所には円形の谷線
が形成されている。この樋溝１７の底面部の一箇所に
は、樋部材１５の下面側に連通する排液流下口１８が形
成されている。さらに、樋部材１５の外周面には、リン
グ状のギア部材２８が固設されており、このギア部材２
８は、駆動モータ２６の駆動軸に固定された駆動ギア２
７と噛合している。駆動モータ２６は、適当な固定具や
軸受けによって、外容器２０の底面板２０ａの下面に取
り付けられている。

【００１８】この構成により、駆動モータ２６を駆動す
ることによって、樋部材１５の排液流下口１８を、廃棄
ドレン口２１ａまたは回収ドレン口２１ｂのいずれかの
上方に位置させることができる。これにより、下カップ
１０Ａの排液口１１を、処理液廃液管２１Ａまたは処理
液回収管２１Ｂに選択的に結合することができる。その
結果、いずれかの種類の処理液を回収ドレン口２１ｂお
よび処理液回収管２１Ｂを通して選択的に回収すること
ができる。また、他の種類の処理液については、廃棄ド
レン口２１ａおよび処理廃棄管２１Ａを介して選択的に
廃棄することができる。もちろん、樋部材１５の下方に
ドレン口２１ａ，２１ｂ以外にもドレン口を設け、この
ドレン口に処理液流通管を接続すれば、２種類以上の処
理液を分離して回収したり、また、２種類以上の処理液
を分離して廃棄したりすることができる。

【００１９】廃棄ドレン口２１ａおよび回収ドレン口２
１ｂは、図３に示すように、たとえば、支軸３を挟んで
対向する位置に配置されている。これらの２つのドレン
口２１ａ，２１ｂには、処理液中の異物を取り除くため
のメッシュフィルタ１２１，１２２がそれぞれ被せられ
ている。このメッシュフィルタ１２１，１２２は、たと
えば、液晶表示装置用ガラス基板の処理中、または、基
板の搬入／搬出の過程でガラス基板が破損したような場
合に、ガラス基板の破片が、廃棄または回収される処理
液中に混入することを防止する。

【００２０】メッシュフィルタ１２１，１２２に捕獲さ
れた異物を取り除くために、廃棄ドレン口２１ａおよび
回収ドレン口２１ｂは、外容器２０の底面板２０ａに、
着脱自在であるようにされている。すなわち、外容器２
０の底面板２０ａには、ドレン口２１ａおよび２１ｂの
入り口部２１１を挿通させることができる挿通穴部４１
と、挿通穴部４１に連なり、ドレン口２１ｂの首部２１
２のスライドを許容するスロット部４２とからなるドレ
ン口取付穴４０Ａ，４０Ｂが形成されている。スロット
部４２は、挿通穴部４１から支軸３に近接する方向に沿
って延びている。このスロット部４２の支軸側３の端部
に首部２１２を当接させてドレン口２１ａ，２１ｂを配
置することにより、これらのドレン口２１ａ，２１ｂを
樋部材１５の樋溝１７の直下に位置させることができ
る。ドレン口２１ａ，２１ｂは、入り口部２１１がロー
ト状に広がっており、この入り口部２１１の下端に首部
２１２が結合された形状であるので、スロット部４２か
らドレン口２１ａ，２１ｂが脱落することはない。

【００２１】廃棄ドレン口２１ａおよび回収ドレン口２
１ｂにそれぞれ接続された処理液廃棄管２１Ａおよび処
理液回収管２１Ｂは、たとえばＰＴＦＥからなり、可撓
性を有している。そのため、ドレン口２１ａ，２１ｂを
スロット部４２に沿ってスライドさせてドレン口取付穴
４０から取り外す作業が難作業となるおそれはない。以
上のようにこの実施形態によれば、廃棄または回収すべ
き処理液中の異物を取り除くためのメッシュフィルタ１
２１，１２２は、回収ドレン口２１ｂの入り口部に配置
されており、内容器１２の底面部の排液口１１にはメッ
シュフィルタは配置されていない。そのため、薬液によ
る処理を行った直後に純水により基板を洗浄する場合で
あっても、洗浄水とともに廃棄される薬液の量を従来の
構成に比較して格段に少なくすることができる。また、
純水による基板洗浄の直後に薬液による処理を行った場
合に、回収される薬液中に混入する水の量を抑制できる
から、薬液の濃度の低下を防止できる。

【００２２】この実施形態の説明は以上のとおりである
が、この発明が他の実施の形態を採りうることはいうま
でもない。たとえば、上記の実施形態では、廃棄ドレン
口２１ａおよび回収ドレン口２１ｂの両方にメッシュフ
ィルタ１２１，１２２を被せているが、廃棄される処理
液中の異物を取り除く必要は必ずしもないから、廃棄ド
レン口２１ａにはメッシュフィルタ１２１を被せる必要
はない。また、この場合には、廃棄ドレン口２１ａが外
容器２０の底面板２０ａに対して着脱自在である必要も
ない。

【００２３】また、上記の実施形態においては、回収ド
レン口２１ｂの入り口部にメッシュフィルタ１２２を配
置した構成について説明したが、メッシュフィルタは、
処理液回収管のいずれかの位置に配置されてもよい。た
だし、その場合に、メッシュフィルタの配置は、メッシ
ュフィルタに捕獲された異物を定期的にまたは不定期に
除去する作業が容易であるように定められることが好ま
しい。廃棄ドレン口２１ａの入り口部に配置されたメッ
シュフィルタ１２１についても、同様のことが言える。

【００２４】さらに、上記の実施形態では、カップ内に
保持された基板に対して処理液を噴射する形態の基板処
理装置を例にとったが、本発明は、処理液層に基板を浸
漬して処理を行う形態の基板処理装置にも適用すること
ができる。この場合には、処理液槽内の処理液を廃棄す
るための廃棄管と、処理液槽内の処理液を回収するため
の回収管とを設けるとともに、処理液槽内の処理液を排
液する際に廃液管または回収管のいずれか一方に処理液
が導かれるようにバルブ等の分岐手段を設けるととも
に、分岐手段よりも下流側の回収管の途中部に、メッシ
ュフィルタを配置するようにすればよい。もちろん、図
１の構成における内容器１０の代わりに処理液槽を設け
るとともに、スピンチャック１およびこれを回転するた
めの回転駆動機構を消除した構成としてもよい。

【００２５】その他、特許請求の範囲に記載された技術
的事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能であ
る。

【００２６】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、廃棄すべ
き処理液が回収対象の処理液に混入することを防止でき
るから、処理液の純度を高く維持できる。また、廃棄す
べき処理液に混入して回収対象の処理液が廃棄されてし
まうことも防止できるので、処理液の回収効率が高ま
り、この処理液の総使用量を抑制することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構
成を示す縦断面図である。

【図２】樋部材の構成を説明するための横断平面図であ
る。

【図３】廃棄ドレン口および回収ドレン口に関連する構
成を説明するための横断平面図である。

【図４】従来の基板処理装置の構成を示す縦断面図であ
る。

【図５】従来の基板処理装置における内容器の底面部の
構成を説明するための横断平面図である。

【符号の説明】

１ スピンチャック ８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ ノズル １０ 内容器 １１ 排液口 １５ 樋部材 １７ 樋溝 １８ 排液流下口 ２１Ａ 処理液廃棄管 ２１Ｂ 処理液回収管 ２１ａ 廃棄ドレン口 ２１ｂ 回収ドレン口 １２１，１２２ メッシュフィルタ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板に対して複数種類の処理液を用いた処
   理を施すことができる基板処理装置であって、 処理対象の基板を収容することができ、基板の処理のた
   めに用いた後の処理液を排出するための排出口を有する
   容器と、 上記容器の排出口に選択的に結合され、いずれかの種類
   の処理液を回収するための処理液回収管と、 上記容器の排出口に選択的に結合され、いずれかの種類
   の処理液を廃棄するための処理液廃棄管と、 上記処理液回収管のいずれかの位置に設けられ、回収さ
   れる処理液中の異物を除去するための除去手段とを含む
   ことを特徴とする基板処理装置。