JP2533461Y2 - 基板の回転式現像処理装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この考案は、半導体ウエハ、ＬＣ
Ｄ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディス
ク用の基板等（以下単に基板という）をスピンチャック
で回転可能に保持して、当該基板に塗布されているポジ
・フォトレジスト、ネガ・フォトレジスト等の感光性樹
脂を現像するための、基板の回転式現像処理装置に関す
る。

【０００２】

【本考案の基本構造】この回転式現像処理装置は、例え
ば図１及び図３に示すような基本構造を有するものを前
提とする。即ち、この回転式現像処理装置は、基板１を
略水平に保持して回転するスピンチャック２と、スピン
チャック２で保持した基板１の上面に現像液を供給する
ノズル８と、上下に分離合体可能な上筒カバー１４と裾
拡がり状の下筒カバー１５とから成り、基板１の回転処
理に際して基板１を囲う飛散防止カバー１３と、飛散防
止カバー１３を囲うように設けられ、処理液を回収する
外容器２０と、上記飛散防止カバー１３の囲い領域内
で、外容器２０の底壁２０ａに排気出口２３ａを開口し
た負圧排気通路２３とを具備して成る。なお、上筒カバ
ー１４と下筒カバー１５とは、分離合体に際して摩耗塵
が発生するのを回避するため、その合体状態では両者の
合わせ目に若干の隙間ｄができるように造られている。

【０００３】

【従来の技術】上記基本構造において、従来では裾拡が
り状の下筒カバー１５は、図３で示すように、その下端
部１５ｂが真っすぐ下方へ向くように形成されている。
この回転式現像処理装置は、例えば図４(イ)〜(ニ)に示
す手順で、基板の現像処理が行われる。即ち、同図(イ)
では、上筒カバー１４と下筒カバー１５とが合体した状
態で、スピンチャック２が飛散防止カバー１３の上側ま
で上昇して基板１を受け取り、再びもとの位置まで下降
する。同図(ロ)では、上筒カバー１４だけが上昇して両
カバー１４・１５が分離し、分離した状態でノズル８よ
り基板１に現像液を供給し、スピンチャック２は静止な
いし低速回転しつつ基板表面のフォトレジストを現像す
る。

【０００４】同図(ハ)では、上筒カバー１４と下筒カバ
ー１５とが合体した状態で、飛散防止カバー１３全体が
上昇し、下筒カバー１５の傾斜壁面１５ａを基板保持面
の高さに位置させ、スピンチャック２を高速回転させて
現像液を振り切り、引き続き洗浄液を基板１の表面に供
給してリンス処理をする。なお、同図(ロ)〜(ハ)では外
容器２０内を強制排気しながら処理をする。同図(ニ)で
は、上筒カバー１４と下筒カバー１５とが合体した状態
で、飛散防止カバー１３全体が下降し、もとの位置に復
帰するとともに、スピンチャック２が上昇して基板１を
引き渡す。上記(イ)〜(ニ)の一連の動作を繰り返すこと
により、次々と基板の現像処理がなされる。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】ところが上記従来例の
ものにあっては、例えば上記図４(ハ)の現像液の振り切
り処理において、現像液のミストが基板１の表面に付着
してパーティクルを発生させる問題点があった。本考案
はこのような事情を考慮してなされたもので、基板１の
表面に現像液ミストが付着するのを防止して、基板の品
質向上を図ることを技術課題とする。

【０００６】

【考案の経過】かかる技術課題を解決するために本考案
者らが鋭意検討した結果、問題点の原因が以下の点にあ
ることを突き止め、本考案に想到した。即ち、前記図４
(ロ)のカバー分離状態での現像液供給時に、現像液のミ
ストが外容器２０と飛散防止カバー１３との間の空間に
入り込んでいた。一方、前記図４(ハ)のカバー合体状態
において、飛散防止カバー１３が上昇した位置では、飛
散防止カバー１３内を強制排気しても、外容器２０と飛
散防止カバー１３との間の空気を十分吸引排気すること
ができず、そのうえ現像液のミストを多量に含んだ下筒
カバー１５の下端部近傍の空気が、外容器２０と飛散防
止カバー１３との間の空間に漏れ出て、そこに溜まって
いた。

【０００７】そして、外容器２０と飛散防止カバー１３
との間に溜った現像液のミストを多量に含んだ空気は、
図５で示すように、上筒カバー１４と下筒カバー１５と
の合わせ目の隙間ｄから、排気により低圧となっている
飛散防止カバー１３内に向かって吸引されて飛散防止カ
バー１３内に入り込み、現像液ミストが基板１の表面に
付着していたことが判明した。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本考案は前記課題を解決
するために、本考案者らが鋭意検討した結果なされたも
ので、例えば図１〜図２に示すように構成する。即ち、
前記基本構造を有する基板の回転式現像処理装置におい
て、上記下筒カバー１５の下端部に、下方へ向かって小
径となる排気案内板１５ｃを形成したことを特徴とする
ものである。

【０００９】

【作 用】本考案では、下筒カバー１５の下端部に、下
方へ向かって小径となる排気案内板１５ｃを形成したの
で以下のように作用する。上筒カバー１４と下筒カバー
１５とを合体させ、両者を上昇させた位置で飛散防止カ
バー１３内を強制排気すると、飛散防止カバー１３内の
空気は下筒カバー１５の下端部に形成された排気案内板
１５ｃの内面に沿って、下方へ向かって小径となる方向
に流下して排気される。従って、現像液のミストを多量
に含んだ空気が外側へ漏れ出て溜まってしまうことはな
い。他方、排気案内板１５ｃの外面では、上記排気案内
板１５ｃの内面に沿って流下する空気に引っぱられ、ア
スピレートの原理により外側の空気の排気が促進され
る。これにより、外容器２０と飛散防止カバー１３との
間の現像液のミストを多量に含んだ空気は、下方へ吸引
排気され、上筒カバー１４と下筒カバー１５との合わせ
目の隙間ｄから飛散防止カバー１３内に入り込むことは
なくなる。

【００１０】

【実施例】以下本考案の実施例を図面に基づいてさらに
詳しく説明する。図１は本考案の実施例に係る回転式現
像処理装置の縦断面図、図２はその現像液の振り切り処
理における飛散防止カバーの作用を示す縦断面図であ
る。この回転式現像処理装置は、前記基本構成を具備し
て成る。即ち、基板１を略水平に保持して回転するスピ
ンチャック２と、スピンチャック２で保持した基板１の
上面に現像液を供給するノズル８と、基板１の回転処理
に際して基板１を囲う略円筒形の飛散防止カバー１３
と、飛散防止カバー１３を囲うように設けられ、処理液
を回収する平面視略矩形の外容器２０と、上記飛散防止
カバー１３の囲い領域内で、外容器２０の底壁２０ａに
排気出口２３ａを開口した負圧排気通路２３とを具備し
て成る。また、上筒カバー１４と下筒カバー１５とは、
その合体状態では両者の合わせ目に若干の隙間ｄができ
るように造られている。

【００１１】上記スピンチャック２は、図１で示すよう
に、その回転軸３を介して回転可能に枢支され、基板１
を受け渡しする移載位置と基板１に処理液を供給する処
理位置とに昇降切換可能に支持されている。なお、同図
中の符号４は回転軸３の外筒カバー、５は回転軸３を回
転する駆動モータ、６は昇降用ガイドである。

【００１２】上記飛散防止カバー１３は、上下に分離可
能な上筒カバー１４と裾拡がり状の下筒カバー１５とか
ら成り、処理液を回収するための外容器２０内に設けら
れている。そして上筒カバー１４と下筒カバー１５は、
それぞれ固定金具１６ａ・１６ｂ、支持アーム１７ａ・
１７ｂ、支柱１８ａ・１８ｂ、エアシリンダ１９ａ・１
９ｂ、によって別々に昇降可能に支持されており、基板
１に現像液を供給する際には、両者は分離した状態で支
持され、この分離した状態では上筒カバー１４は所定の
高さに位置し、下筒カバー１５はその上端がスピンチャ
ック２の基板保持面よりも下方に位置する。

【００１３】上記下筒カバー１５には、その下端部に下
方へ向かって小径となる排気案内板１５ｃが形成されて
いる。この排気案内板１５ｃは、そのすぼまり角度θが
水平面に対して約３６゜に設定され、すぼまり部分の長
さｈは約１０mmになるように設定されている。これによ
り、この排気案内板１５ｃは、図２で示すように、例え
ば現像液の振り切り処理工程において、以下のように作
用する。

【００１４】即ち、上筒カバー１４と下筒カバー１５と
を合体させ、両者を上昇させた位置で飛散防止カバー１
３内を強制排気すると、飛散防止カバー１３内の空気は
下筒カバー１５の下端部に形成された排気案内板１５ｃ
の内面に沿って、下方へ向かって小径となる方向に流下
して排気される。従って、現像液のミストを多量に含ん
だ空気が外側、つまり飛散防止カバー１３と外容器２０
との間側へ漏れ出て溜まってしまうことはなくなる。他
方、排気案内板１５ｃの外面側では、上記排気案内板１
５ｃの内面に沿って流下する空気に引っぱられ、アスピ
レートの原理により外側の空気の排気が促進される。こ
れにより、外容器２０と飛散防止カバー１３との間の現
像液のミストを多量に含んだ空気は、下方へ吸引排気さ
れ、上筒カバー１４と下筒カバー１５との合わせ目の隙
間ｄから飛散防止カバー１３内に入り込むことはなくな
る。

【００１５】上記現像液を供給するノズル８は、支持ア
ーム１０に固定され、支軸１１を介して水平揺動可能に
支持され、ノズル掃引用モータ１２によって水平揺動さ
れながら基板１の上面に現像液を供給するように構成さ
れている。上記ノズル８には、現像液を供給するパイプ
と純水を供給するパイプとが接続され、両液のうちいず
れか一方を選択して単一の吐出ノズル８より供給するよ
うに構成されている。なお、このノズル８の他に、図示
しないプリウエットノズル、リンス液供給ノズル、Ｎ₂
ガス供給ノズル等が適宜付設配置されている。

【００１６】なお、上記ノズル８は、上筒カバー１４と
下筒カバー１５との離間高さ内に位置するように設けら
れており、両者を分離した状態で駆動モータ１２を正転
させることにより、基板１上でノズル８の支持アーム１
０を掃引させながら、ノズル８より現像液を吐出するよ
うに構成されている。なお、このノズル８は、現像液を
平面視で扇形に散布する。

【００１７】上記外容器２０は飛散防止カバー１３を囲
うように設けられ、その底壁２０ａには処理液を回収す
る排液出口２２ａと排気出口２３ａとが開口されてい
る。上記排気出口２３ａは、飛散防止カバー１３の囲い
領域よりも内側、つまり底壁２０ａのスピンチャック１
寄りの傾斜部に位置するように開口され、それぞれ排液
出口２２ａには排液ドレン２２が、排気出口２３ａには
負圧排気通路２３が連通連結され、上記負圧排気通路２
３には、図示しない強制排気手段が接続されている。な
お、符号２１は外容器２０の支持具である。

【００１８】上記実施例装置は、前記図４(イ)〜(ニ)と
同様の一連の動作を繰り返すことにより、次々と基板の
現像処理をするように構成されている。なお、本考案は
上記実施例に限るものではなく、上記排気出口２３ａ
は、飛散防止カバー１３の囲い領域よりも内側であれば
良く、外容器２０の側壁や底壁の形状についても、適宜
変更を加えて実施し得ることは多言を要しない。

【００１９】

【考案の効果】本考案は上記のように、下筒カバーの下
端部に下方へ向かって小径となる排気案内板を形成した
ので、外容器と飛散防止カバーとの空間に存在する現像
液のミストを多量に含んだ空気は、アスピレートの原理
により下方へ吸引排気され、上筒カバーと下筒カバーと
の合わせ目の隙間から飛散防止カバー内に入り込むこと
はなくなる。これにより、基板の表面に現像液ミストが
付着するのを防止することができ、基板の品質向上を図
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例に係る回転式現像処理装置の縦
断面図である。

【図２】本実施例の現像液の振り切り処理における飛散
防止カバーの作用を示す縦断面図である。

【図３】従来例に係る回転式現像処理装置の縦断面図で
ある。

【図４】回転式現像処理装置の一般的な動作説明図であ
る。

【図５】従来例の現像液の振り切り処理における飛散防
止カバーの作用を示す縦断面図である。

【符号の説明】 １…基板、 ２…スピンチャック、８
…現像液供給ノズル、 １３…飛散防止カバー、１４
…上筒カバー、 １５…下筒カバー、１５ｃ…
排気案内板、 ２０…外容器、２３…負圧排気通
路、 ２３ａ…排気出口。

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を略水平に保持して回転するスピン
   チャックと、 スピンチャックで保持した基板の上面に現像液を供給す
   るノズルと、 上下に分離可能な上筒カバーと裾拡がり状の下筒カバー
   とから成り、基板の回転処理に際して基板を囲うように
   合体する飛散防止カバーと、 飛散防止カバーを囲うように設けられ、処理液を回収す
   る外容器と、 上記飛散防止カバーの囲い領域内で、外容器の底壁に排
   気出口を開口した負圧排気通路とを備えて成る基板の回
   転式現像処理装置において、 上記下筒カバーの下端部に、下方へ向かって小径となる
   排気案内板を形成したことを特徴とする基板の回転式現
   像処理装置。