JP3559987B2 - 回転処理装置 - Google Patents

回転処理装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3559987B2
JP3559987B2 JP33937198A JP33937198A JP3559987B2 JP 3559987 B2 JP3559987 B2 JP 3559987B2 JP 33937198 A JP33937198 A JP 33937198A JP 33937198 A JP33937198 A JP 33937198A JP 3559987 B2 JP3559987 B2 JP 3559987B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cup
exhaust
substrate
port
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP33937198A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000164502A (ja
Inventor
太 島井
耕一 永澤
偉仁 福島
真治 高瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority to JP33937198A priority Critical patent/JP3559987B2/ja
Publication of JP2000164502A publication Critical patent/JP2000164502A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3559987B2 publication Critical patent/JP3559987B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウェーハやガラス基板等の基板の表面に形成された被膜に対して現像を施したり、基板表面に洗浄液を供給して洗浄等を行う回転処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウェーハやガラス基板等の基板を回転せしめるとともに、基板の表面に現像液等の液体を供給して所定の処理を行う装置として、特開平8−321460号公報に開示される装置が知られている。
【0003】
この装置は、リング状をなすカップ内に基板を保持して回転せしめるチャックを配置するとともに、カップ外側に平面視で四角形をなすケース(外カップ)を配置し、このケース底面とカップ底面との間を迂回通路とし、この迂回通路を介して清浄な空気を基板の下面側に供給し、供給した清浄な空気を基板下面に沿って径方向外側に導くようにしている。
【0004】
また、上記装置にあっては、排液ダクトと排気ダクトを別々に設け、排液ダクトはリング状をなすカップの外周部からケース底面を貫通して下方に垂下し、排気ダクトは前記排液ダクトよりも径方向内側部においてケース底面を貫通して下方に垂下している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来の回転処理装置にあっては、基板を収納するリング状カップ自体に排液或いは排気ダクトが開口しているため、乱流が生じやすい。
また、従来の回転処理装置にあっては、排液或いは排気ダクトが開口している箇所が特に排液や排気が集中する箇所ではないので、排液或いは排気の効率がよくない。
更に、従来の回転処理装置にあっては、ケースの四隅には空間が形成されるが、この空間は単に通気路として作用するだけであり、スペースの有効利用が図られていない。しかも、近年の基板の大型化に伴う回転処理装置の大型化により、処理中に破損した基板を回収するためにカップを外し、それをまた元に戻すためには多大な労力と時間を要する。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明に係る回転処理装置は、カップ内に基板を保持して回転せしめるチャックを配置するとともに、カップ外側にカップ内と連通しその1辺の長さがカップ外径に略等しい矩形状ケースを設け、この矩形状ケースの四隅のうちの少なくとも一隅の底部に排気兼排液口を設けた。
このような構成とすることで、カップ内で乱流が生じにくくなり、且つ排気兼排液の効率が高まる。
【0007】
前記排気兼排液口には異物回収部材を着脱自在に設けることが好ましい。このような構成とすることで、回転処理中に基板が破損した場合でも、破片の回収を容易に行うことができる。
【0008】
また、前記排気兼排液口の上部には、カップ内からの気体及び液体を前記排気兼排液口に誘導する整流板を設けることが好ましい。このような構成とすることで、効率よく、排液及び排気を排気兼排液口に誘導することができる。
【0009】
更に、前記排気兼排液口の上面にメンテナンス口を形成することが好ましい。このような構成とすることで、前記異物回収部材の装着及び取り外し等を簡単に行うことができる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。ここで、図1は本発明に係る回転処理装置の全体側面図、図2は同回転処理装置の平面図、図3は同回転処理装置のA−A拡大縦断面図、図4は図3の要部拡大図である。本発明の回転処理装置を現像装置として使用した例を以下に示す。
【0011】
図1に示すように、本発明に係る回転処理装置1はダクトD及びフィルタFからなる清浄空気の吹き出し部の下方に配置され、また床Gはすのこ状になっており、そのまま清浄空気が下方に抜ける構造になっており、微細な塵が現像処理中に表面に付着しにくい雰囲気になっている。
【0012】
回転処理装置1は、平面視で矩形状をなすケース2内にリング状カップ3を配置している。このカップ3は側壁4と底部5から構成され、側壁4は上方に向かって徐々にその径が小さくなり、上端開口には整流筒6が設けられている。この整流筒6はシリンダユニット7にて昇降可能とされ、回転処理装置1内に基板Wを投入する際には下降して基板Wの搬入の邪魔にならないようにし、現像処理中は上昇し、カップ3内に乱流が生じにくくしている。
【0013】
一方、前記カップ3の底部5の中央部には開口8が形成され、開口8にはスピンナー軸9が挿通し、このスピンナー軸9はベース10に取り付けたモータ11にて回転せしめられるとともにシリンダユニット12の作動で昇降動可能とされ、更にスピンナー軸9の上端には基板Wを吸着保持するチャック13が取り付けられている。
【0014】
また、前記底部5は2枚の上板14と下板15にて構成され、これら上板14及び下板15は中央の開口8から径方向外側に向かって下方に傾斜し、上板14の表面にはフッ素樹脂コーティングを施し、表面に落下した現像液がスムーズに流れるようにし、また下板15には複数個のドレン排出口16を、上板14と下板15が下方に傾斜し合流するところに複数の排液の排出口26を設け、上板14と下板15との間のトラップ空間に積極的に現像液や洗浄液を取り込み、これら液体が回転軸受けの部分に廻り込まないようにしている。
【0015】
また、前記上板14及び下板15は支持片17を介して前記ベース10に取り付けられ、この支持片17の上端部には小寸法の基板Wに現像処理を施す際に使用する整流リング18を位置調整可能に取り付け、一方、前記カップ3の側壁4内側に支持片19を介して大寸法の基板Wに現像処理を施す際に使用する整流リング20を位置調整可能に取り付けている。尚、大寸法の基板Wに現像処理を施す際には、整流リング18は取り外しておく。
【0016】
一方、ケース2内とリング状カップ3内とは開口21を介して連通しており、特にケース2の四隅部のうちの少なくとも一隅部の底面には、排気兼排液口22が形成され、この排気兼排液口22内の少なくとも1箇所には金網などから構成される異物回収部材23が、着脱可能に設けられている。
【0017】
また、ケース2の排気兼排液口22の上部にはリング状カップ3内からの気体及び液体を排気兼排液口22に誘導する整流板24が配置され、更に、ケース2の排気兼排液口22の上面にはメンテナンス口25が形成されている。
ここで、排気兼排液口22はケース2の四隅部のうちの少なくとも一隅部としたが、四隅部の対角部の2箇所または四隅の4箇所に設けると排気、排液のバランスがよい。
【0018】
以上において、露光処理が終了した基板Wに現像処理を施す場合を例にとって説明すると、シリンダユニット12の作動でスピンナー軸9とともにチャック13を上昇せしめ、また同時にシリンダユニット7の作動で整流筒6を下降せしめた状態で、基板Wを側方から搬送してきてチャック13上に載置する。
【0019】
この後、シリンダユニット12を逆方向に作動させて、更に図示しないノズルから基板W表面に現像液を供給し液盛りする。そして、回転処理直前にシリンダユニット7を逆方向に作動させて整流筒6を上昇せしめる。現像液の供給ノズルとしては、例えば、スリットノズルが好ましい。
【0020】
上記のように基板W表面に現像液を液盛りして所定時間経過したならば、モータ11を駆動して基板Wを回転せしめ、基板W上に盛られた現像液を除去する。このときの回転速度は5〜200rpmとする。また、回転時間は0.1〜10秒とする。
【0021】
この回転速度は、現像液を乾燥させる際の回転速度に比べて極めて低速であり、このように低速で回転せしめることで、基板Wから遠心力により除去される現像液の速度を遅くし、基板Wから飛散する現像液のうちの多くの割合の現像液がカップ底部5を構成する上板14上に落下し、上板14の傾斜に沿って径方向外側に向かって流れ、排液の排出口26を介して図示しない現像液回収ポケット内に流れ込み、ポンプの駆動でタンクに回収され、再利用に供される。
【0022】
回収されなかった現像液及び排液は整流板24に導かれて排気兼排液口22から外部に排出される。
また、万一、基板Wが破損した場合には、小さな破片が異物回収部材23内に回収されるので、基板Wの回転を停止した後、メンテナンス口25から手を差し込んで異物回収部材23を取り外し、異物回収部材23内に入った破片を取り除き、再び異物回収部材23を排気兼排液口22にセットし、次の処理に備える。尚、異物回収部材23の形状は自由であるので、その断面形状が直方形でも正方形でも逆台形でもいずれでもよい。
【0023】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明に係る回転処理装置によれば、カップ内に基板を保持して回転せしめるチャックを配置するとともに、カップ外側にカップ内と連通しその1辺の長さがカップ外径に略等しい矩形状ケースを設け、この矩形状ケースの四隅の少なくとも1隅の底部に排気兼排液口を設けたので、カップ内で乱流が生じにくく、且つ排気兼排液の効率を高めることができる。
【0024】
特に、排気兼排液口に異物回収部材を着脱自在に設ければ、回転処理中に基板が破損した場合でも、破片の回収を容易に行うことができ、また、排気兼排液口に、カップ内からの気体及び液体を前記排気兼排液口に誘導する整流板を設ければ、排液及び排気を効率よく排気兼排液口に誘導することができ、更に、排気兼排液口上方の矩形状ケース上面にメンテナンス口を形成すれば、異物回収部材の装着及び取り外し等を簡単に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る回転処理装置の全体側面図
【図2】同回転処理装置の平面図
【図3】同回転処理装置のAーA拡大縦断面図
【図4】図3の要部拡大図
【符号の説明】
1…回転処理装置、2…矩形状ケース、3…リング状カップ、4…カップの側壁、5…カップの底部、6…整流筒、7,12…シリンダユニット、8…開口、9…スピンナー軸、10…ベース、11…モータ、13…チャック、14…上板、15…下板、16…ドレン排出口、17…支持片、18,20…整流リング、21…開口、22…排気兼排液口、23…異物回収部材、24…整流板、25…メンテナンス口、26…排液の排出口。

Claims (3)

  1. カップ内に基板を保持して回転せしめるチャックを配置するとともに、カップ外側にカップ内と連通しその一辺の長さがカップ外径に略等しい矩形状ケースを設け、カップの側壁内側に支持片を介して整流リングを取り付け、更に前記矩形状ケースの四隅のうち少なくとも一隅の底部に排気兼廃液口を設け、この排気兼廃液口の上部には、カップ内からの気体及び液体を前記排気兼廃液口に誘導する整流板を設けていることを特徴とする回転処理装置。
  2. 請求項1に記載の回転処理装置において、前記排気兼排液口には異物回収部材を着脱自在に設けたことを特徴とする回転処理装置。
  3. 請求項1に記載の回転処理装置において、前記排気兼排液口の上方のケース上面にはメンテナンス口が形成されていることを特徴とする回転処理装置。
JP33937198A 1998-11-30 1998-11-30 回転処理装置 Expired - Fee Related JP3559987B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33937198A JP3559987B2 (ja) 1998-11-30 1998-11-30 回転処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33937198A JP3559987B2 (ja) 1998-11-30 1998-11-30 回転処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000164502A JP2000164502A (ja) 2000-06-16
JP3559987B2 true JP3559987B2 (ja) 2004-09-02

Family

ID=18326837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33937198A Expired - Fee Related JP3559987B2 (ja) 1998-11-30 1998-11-30 回転処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3559987B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4759183B2 (ja) * 2000-12-27 2011-08-31 芝浦メカトロニクス株式会社 スピン処理装置
KR101919987B1 (ko) * 2017-03-03 2018-11-19 김동명 다단식 건조기
CN114264136B (zh) * 2022-03-01 2022-05-17 潍坊润谱化学有限公司 一种阻燃母粒造粒冷却后快速干燥设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000164502A (ja) 2000-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5156114B2 (ja) 液処理装置
US4856456A (en) Apparatus and method for the fluid treatment of a workpiece
JP5129042B2 (ja) 基板の処理装置
JP3713447B2 (ja) 現像処理装置
JP4805003B2 (ja) 液処理装置
JP3945569B2 (ja) 現像装置
JP6027465B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理方法
JP3559987B2 (ja) 回転処理装置
JPH09260266A (ja) 回転式基板処理装置
JP4567178B2 (ja) スピン処理装置
JP4593713B2 (ja) スピン処理装置
JP3712099B2 (ja) 回転処理装置
JP4912020B2 (ja) 液処理装置
JP2002329705A (ja) スピン処理装置
US4525938A (en) Spin drier for semiconductor material
JPH03238819A (ja) 半導体材料の乾燥方法および装置
JP4369022B2 (ja) スピン処理装置
JP4430197B2 (ja) スピン処理装置
JP4727080B2 (ja) スピン処理装置
JPH0888168A (ja) スピンナ
JP2948043B2 (ja) 回転式基板処理装置
JP2001077082A (ja) 処理液回収用チャンバー構造
JPH11305450A (ja) 現像装置および現像方法
JPS6253942B2 (ja)
JP3886326B2 (ja) 板状被処理物の回転処理装置及び回転処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040511

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040513

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100604

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110604

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120604

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120604

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130604

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140604

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees