JPH09260266A - 回転式基板処理装置 - Google Patents
回転式基板処理装置Info
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- JPH09260266A JPH09260266A JP8090582A JP9058296A JPH09260266A JP H09260266 A JPH09260266 A JP H09260266A JP 8090582 A JP8090582 A JP 8090582A JP 9058296 A JP9058296 A JP 9058296A JP H09260266 A JPH09260266 A JP H09260266A
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
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- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 傾斜面の上端部付近の立ち下がり部の傾斜面
側の面への処理液の付着堆積が起き難く、カップリンス
の際には立ち下がり部の傾斜面側の面へのリンス液の広
がりが良好な飛散防止カップを備えた回転式基板処理装
置を提供する。 【解決手段】 スピンチャック１やノズル２、飛散防止
カップ３などが備えられた回転式基板処理装置におい
て、飛散防止カップ３の傾斜面４２の上端部付近に全周
にわたって立ち下がり部４３が形成され、その立ち下が
り部４３の傾斜面４２側の面４４を基板Ｗの回転中心か
ら離れる方向に折り返した。
側の面への処理液の付着堆積が起き難く、カップリンス
の際には立ち下がり部の傾斜面側の面へのリンス液の広
がりが良好な飛散防止カップを備えた回転式基板処理装
置を提供する。 【解決手段】 スピンチャック１やノズル２、飛散防止
カップ３などが備えられた回転式基板処理装置におい
て、飛散防止カップ３の傾斜面４２の上端部付近に全周
にわたって立ち下がり部４３が形成され、その立ち下が
り部４３の傾斜面４２側の面４４を基板Ｗの回転中心か
ら離れる方向に折り返した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示装置用のガラス基板、フォトマスク、光ディスク
用の基板などの基板を水平姿勢で保持して鉛直軸周りに
回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持さ
れた基板に、フォトレジスト液やポリイミド、ＳＯＧ
（Spin-On-Glass)ソース、現像液などの処理液を吐出す
るノズルと、スピンチャックに保持された基板の周囲に
配置され、基板の回転による処理液等の飛沫を下方へ案
内する傾斜面が内周面の全周にわたって形成された、処
理液の飛散を防止する飛散防止カップとが備えられた回
転式基板処理装置に係り、特には、飛散防止カップの改
良技術に関する。
晶表示装置用のガラス基板、フォトマスク、光ディスク
用の基板などの基板を水平姿勢で保持して鉛直軸周りに
回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持さ
れた基板に、フォトレジスト液やポリイミド、ＳＯＧ
（Spin-On-Glass)ソース、現像液などの処理液を吐出す
るノズルと、スピンチャックに保持された基板の周囲に
配置され、基板の回転による処理液等の飛沫を下方へ案
内する傾斜面が内周面の全周にわたって形成された、処
理液の飛散を防止する飛散防止カップとが備えられた回
転式基板処理装置に係り、特には、飛散防止カップの改
良技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の回転式基板処理装置は、
例えば、図６に示すように、スピンチャック１００やノ
ズル１０１、飛散防止カップ１０２などを備えて構成さ
れている。
例えば、図６に示すように、スピンチャック１００やノ
ズル１０１、飛散防止カップ１０２などを備えて構成さ
れている。
【０００３】スピンチャック１００は、基板Ｗを水平姿
勢で保持し、回転軸１０３を介して電動モーター１０４
によって回転駆動されることで、保持した基板Ｗを鉛直
軸周りに回転させる。ノズル１０１は、スピンチャック
１００に保持された基板Ｗの上方に配置された状態で基
板Ｗに処理液を吐出する。
勢で保持し、回転軸１０３を介して電動モーター１０４
によって回転駆動されることで、保持した基板Ｗを鉛直
軸周りに回転させる。ノズル１０１は、スピンチャック
１００に保持された基板Ｗの上方に配置された状態で基
板Ｗに処理液を吐出する。
【０００４】飛散防止カップ１０２は、スピンチャック
１００に保持された基板Ｗの周囲に配置され、基板Ｗの
回転による処理液の周囲への飛散を防止する。この飛散
防止カップ１０２は、上カップ１１０や円形整流板１２
０、下カップ１３０などから構成されている。
１００に保持された基板Ｗの周囲に配置され、基板Ｗの
回転による処理液の周囲への飛散を防止する。この飛散
防止カップ１０２は、上カップ１１０や円形整流板１２
０、下カップ１３０などから構成されている。
【０００５】上カップ１１０には上部に開口部１１１が
設けられ、基板Ｗの回転による処理液等の飛沫を下方へ
案内する傾斜面１１２が内周面の全周にわたって形成さ
れている。開口部１１１から流入して基板Ｗの周縁に沿
って流下する気流は、円形整流板１２０によって整流さ
れて下カップ１３０に案内され、排気ダクト１３３を経
て排気ポンプ１３４によって排気される。また、この気
流に乗せて、傾斜面１１２に案内された処理液等の飛沫
は下カップ１３０に案内される。そして、飛散防止カッ
プ１０２内で回収された処理液等は下カップ１３０の底
部に設けられた排液ドレイン１３１を経て排液タンク１
３２に回収される。
設けられ、基板Ｗの回転による処理液等の飛沫を下方へ
案内する傾斜面１１２が内周面の全周にわたって形成さ
れている。開口部１１１から流入して基板Ｗの周縁に沿
って流下する気流は、円形整流板１２０によって整流さ
れて下カップ１３０に案内され、排気ダクト１３３を経
て排気ポンプ１３４によって排気される。また、この気
流に乗せて、傾斜面１１２に案内された処理液等の飛沫
は下カップ１３０に案内される。そして、飛散防止カッ
プ１０２内で回収された処理液等は下カップ１３０の底
部に設けられた排液ドレイン１３１を経て排液タンク１
３２に回収される。
【０００６】また、基板Ｗの回転によって生じる基板Ｗ
の中心から周縁方向への気流が傾斜面１１２に衝突し、
その一部が図の矢印ＵＹに示すように傾斜面１１２に沿
って上方へ流れ、その気流に含まれる処理液等の微小な
飛沫が、図の二点鎖線の矢印ＢＹに示すように基板Ｗ側
に戻り基板Ｗに再付着したり、開口部１１１から外部に
流れ出すことなどを防止するために、この種の飛散防止
カップ１０２（上カップ１１０）の傾斜面１１２の上端
部付近（開口部１１１の下端部付近）には、立ち下がり
部１１３が内周面の全周にわたって形成されている。
の中心から周縁方向への気流が傾斜面１１２に衝突し、
その一部が図の矢印ＵＹに示すように傾斜面１１２に沿
って上方へ流れ、その気流に含まれる処理液等の微小な
飛沫が、図の二点鎖線の矢印ＢＹに示すように基板Ｗ側
に戻り基板Ｗに再付着したり、開口部１１１から外部に
流れ出すことなどを防止するために、この種の飛散防止
カップ１０２（上カップ１１０）の傾斜面１１２の上端
部付近（開口部１１１の下端部付近）には、立ち下がり
部１１３が内周面の全周にわたって形成されている。
【０００７】また、この種の飛散防止カップ１０２は、
一般的に、カップ内周面に付着した処理液を洗浄（カッ
プリンス）するために、傾斜面１１２の上端部付近から
リンス液を吐出する吐出口１４０が設けられている。そ
して、定期的にリンス液を吐出させてカップリンスを行
っている。
一般的に、カップ内周面に付着した処理液を洗浄（カッ
プリンス）するために、傾斜面１１２の上端部付近から
リンス液を吐出する吐出口１４０が設けられている。そ
して、定期的にリンス液を吐出させてカップリンスを行
っている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来装置では、図７に示すように、飛
散防止カップ１０２（上カップ１１０）の立ち下がり部
１１３の下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下
がるという現象がおきていた。このように立ち下がり部
１１３の下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下
がると、開口部１１１から流入して基板Ｗの周縁に沿っ
て流下する気流の妨げになるので、飛散防止カップ１０
２内の気流管理が影響を受け、処理液の回収や排気など
が充分に行えないなどの不都合を招来し、安定した基板
処理が行えないことになる。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来装置では、図７に示すように、飛
散防止カップ１０２（上カップ１１０）の立ち下がり部
１１３の下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下
がるという現象がおきていた。このように立ち下がり部
１１３の下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下
がると、開口部１１１から流入して基板Ｗの周縁に沿っ
て流下する気流の妨げになるので、飛散防止カップ１０
２内の気流管理が影響を受け、処理液の回収や排気など
が充分に行えないなどの不都合を招来し、安定した基板
処理が行えないことになる。
【０００９】また、上記のように立ち下がり部１１３の
下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下がると、
カップリンスでは洗浄除去することができないので、上
カップ１１０を下カップ１３０から取外し、作業者が手
作業で洗浄しなければならなず、作業者の負担となって
いた。また、上カップ１１０を取り外して洗浄している
間、基板処理が行えないので、生産性の低下を招いてい
た。
下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下がると、
カップリンスでは洗浄除去することができないので、上
カップ１１０を下カップ１３０から取外し、作業者が手
作業で洗浄しなければならなず、作業者の負担となって
いた。また、上カップ１１０を取り外して洗浄している
間、基板処理が行えないので、生産性の低下を招いてい
た。
【００１０】そこで、本発明者らは、上記のように立ち
下がり部１１３の下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状
に垂れ下がる原因を調査したとことを、以下のような原
因によることを突き止めた。
下がり部１１３の下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状
に垂れ下がる原因を調査したとことを、以下のような原
因によることを突き止めた。
【００１１】すなわち、図６の矢印ＵＹの気流に含まれ
る処理液等の微小な飛沫が、立ち下がり部１１３の傾斜
面１１２側の面１１４に付着し、それが堆積していき、
図７に示すように立ち下がり部１１３の下端から堆積し
た処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下がっていたと推測され
る。
る処理液等の微小な飛沫が、立ち下がり部１１３の傾斜
面１１２側の面１１４に付着し、それが堆積していき、
図７に示すように立ち下がり部１１３の下端から堆積し
た処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下がっていたと推測され
る。
【００１２】ところで、定期的にカップリンスを行って
いる従来装置においては、立ち下がり部１１３の傾斜面
１１２側の面１１４に付着した処理液ＳＱは洗浄除去さ
れるはずである。しかしながら、実際には、カップリン
スを定期的に行っていたにもかかわらず、依然、立ち下
がり部１１３の下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状に
垂れ下がるという現象は起きていた。本発明者らの調査
の結果、上記現象は、従来のカップリンスにおける立ち
下がり部１１３の傾斜面１１２側の面１１４のリンス液
の広がりの悪さに起因することを突き止めた。
いる従来装置においては、立ち下がり部１１３の傾斜面
１１２側の面１１４に付着した処理液ＳＱは洗浄除去さ
れるはずである。しかしながら、実際には、カップリン
スを定期的に行っていたにもかかわらず、依然、立ち下
がり部１１３の下端から堆積した処理液ＳＱが氷柱状に
垂れ下がるという現象は起きていた。本発明者らの調査
の結果、上記現象は、従来のカップリンスにおける立ち
下がり部１１３の傾斜面１１２側の面１１４のリンス液
の広がりの悪さに起因することを突き止めた。
【００１３】すなわち、従来のカップリンスにおいてリ
ンス液を吐出すると、傾斜面１１２にはリンス液は良好
に広がるが、立ち下がり部１１３の傾斜面１１２側の面
１１４ではリンス液が均一に広がらず、リンス液が流れ
る部分と流れない部分とが形成されていた。また、カッ
プリンスを複数回行うと、最初のカップリンスにおいて
立ち下がり部１１３の傾斜面１１２側の面１１４にリン
ス液が流れる部分と流れない部分とが形成され、以降の
カップリンスにおいては、最初のカップリンスでリンス
液が流れた部分にリンス液が流れ易くなる。従って、立
ち下がり部１１３の傾斜面１１２側の面１１４において
リンス液が流れ難い部分に付着した処理液ＳＱが次第に
堆積していき、立ち下がり部１１３の下端から堆積した
処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下がるに到っていたものと考
えられる。
ンス液を吐出すると、傾斜面１１２にはリンス液は良好
に広がるが、立ち下がり部１１３の傾斜面１１２側の面
１１４ではリンス液が均一に広がらず、リンス液が流れ
る部分と流れない部分とが形成されていた。また、カッ
プリンスを複数回行うと、最初のカップリンスにおいて
立ち下がり部１１３の傾斜面１１２側の面１１４にリン
ス液が流れる部分と流れない部分とが形成され、以降の
カップリンスにおいては、最初のカップリンスでリンス
液が流れた部分にリンス液が流れ易くなる。従って、立
ち下がり部１１３の傾斜面１１２側の面１１４において
リンス液が流れ難い部分に付着した処理液ＳＱが次第に
堆積していき、立ち下がり部１１３の下端から堆積した
処理液ＳＱが氷柱状に垂れ下がるに到っていたものと考
えられる。
【００１４】そこで、上記課題を解決する方法として、
カップリンス時のリンス液の吐出量を多くしたり、リン
ス液の吐出時間を長くすることにより、立ち下がり部１
１３の傾斜面１１２側の面１１４にリンス液が均一に広
がるようにすることが考えられる。しかしながら、リン
ス液の吐出量を多くする方法では、リンス液の使用量が
増加し、ランニングコスト高を招くし、元々リンス液の
広がりが良好な傾斜面１１２側に無駄なリンス液を供給
することになりリンス液の無駄が多くなる。また、リン
ス液の吐出時間を長くする場合も結果的にリンス液の使
用量が増加しランニングコスト高を招き、リンス液の無
駄も多くなるし、それに加えて、カップリンス時間が長
くなる。カップリンスは基板処理を停止して行うので、
カップリンス時間が長くなれば、基板処理の停止時間が
長くなり処理効率が低下し生産性が低下することにもな
る。
カップリンス時のリンス液の吐出量を多くしたり、リン
ス液の吐出時間を長くすることにより、立ち下がり部１
１３の傾斜面１１２側の面１１４にリンス液が均一に広
がるようにすることが考えられる。しかしながら、リン
ス液の吐出量を多くする方法では、リンス液の使用量が
増加し、ランニングコスト高を招くし、元々リンス液の
広がりが良好な傾斜面１１２側に無駄なリンス液を供給
することになりリンス液の無駄が多くなる。また、リン
ス液の吐出時間を長くする場合も結果的にリンス液の使
用量が増加しランニングコスト高を招き、リンス液の無
駄も多くなるし、それに加えて、カップリンス時間が長
くなる。カップリンスは基板処理を停止して行うので、
カップリンス時間が長くなれば、基板処理の停止時間が
長くなり処理効率が低下し生産性が低下することにもな
る。
【００１５】また、別の課題解決方法として、立ち下が
り部１１３の傾斜面１１２側の面１１４へのリンス液の
広がりが良好になるような吐出方向からリンス液を吐出
する吐出口を、従来のリンス液の吐出口とは別に形成す
ることが考えられる。しかしながら、このような方法の
場合、リンス液の吐出口やリンス液を供給する配管類を
含む上カップ１１０の構造が複雑になり、コスト高を招
くことになる。
り部１１３の傾斜面１１２側の面１１４へのリンス液の
広がりが良好になるような吐出方向からリンス液を吐出
する吐出口を、従来のリンス液の吐出口とは別に形成す
ることが考えられる。しかしながら、このような方法の
場合、リンス液の吐出口やリンス液を供給する配管類を
含む上カップ１１０の構造が複雑になり、コスト高を招
くことになる。
【００１６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、傾斜面の上端部付近の立ち下がり部の
傾斜面側の面への処理液の付着堆積が起き難く、また、
カップリンスする場合には、前記立ち下がり部の傾斜面
側の面へのリンス液の広がりが良好となる飛散防止カッ
プを備えた回転式基板処理装置を提供することを目的と
する。
たものであって、傾斜面の上端部付近の立ち下がり部の
傾斜面側の面への処理液の付着堆積が起き難く、また、
カップリンスする場合には、前記立ち下がり部の傾斜面
側の面へのリンス液の広がりが良好となる飛散防止カッ
プを備えた回転式基板処理装置を提供することを目的と
する。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板を水平姿勢で保持し
て鉛直軸周りに回転させるスピンチャックと、前記スピ
ンチャックに保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、前記スピンチャックに保持された基板の周囲に配置
され、基板の回転による処理液等の飛沫を下方へ案内す
る傾斜面が内周面の全周にわたって形成された、処理液
の飛散を防止する飛散防止カップと、が備えられた回転
式基板処理装置において、前記飛散防止カップの傾斜面
の上端部付近に全周にわたって立ち下がり部が形成さ
れ、その立ち下がり部の前記傾斜面側の面が基板の回転
中心から離れる方向に折り返されていることを特徴とす
るものである。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板を水平姿勢で保持し
て鉛直軸周りに回転させるスピンチャックと、前記スピ
ンチャックに保持された基板に処理液を吐出するノズル
と、前記スピンチャックに保持された基板の周囲に配置
され、基板の回転による処理液等の飛沫を下方へ案内す
る傾斜面が内周面の全周にわたって形成された、処理液
の飛散を防止する飛散防止カップと、が備えられた回転
式基板処理装置において、前記飛散防止カップの傾斜面
の上端部付近に全周にわたって立ち下がり部が形成さ
れ、その立ち下がり部の前記傾斜面側の面が基板の回転
中心から離れる方向に折り返されていることを特徴とす
るものである。
【００１８】また、請求項２に記載の発明は、上記請求
項１に記載の回転式基板処理装置において、前記立ち下
がり部の前記傾斜面側の面が鉛直線との間でつくる折り
返し角度は、前記傾斜面が鉛直線との間でつくる傾斜角
度以上の折り返し角度であることを特徴とするものであ
る。
項１に記載の回転式基板処理装置において、前記立ち下
がり部の前記傾斜面側の面が鉛直線との間でつくる折り
返し角度は、前記傾斜面が鉛直線との間でつくる傾斜角
度以上の折り返し角度であることを特徴とするものであ
る。
【００１９】また、請求項３に記載の発明は、上記請求
項１または２のいずれかに記載の回転式基板処理装置に
おいて、前記傾斜面の上端部付近からリンス液を吐出す
るリンス液吐出手段を備えたことを特徴とするものであ
る。
項１または２のいずれかに記載の回転式基板処理装置に
おいて、前記傾斜面の上端部付近からリンス液を吐出す
るリンス液吐出手段を備えたことを特徴とするものであ
る。
【００２０】
【作用】本発明の作用は次のとおりである。すなわち、
請求項１に記載の発明によれば、立ち下がり部の傾斜面
側の面が基板の回転中心から離れる方向に折り返されて
いるので、立ち下がり部の傾斜面側の面と傾斜面との間
の空間は、開口が狭く、断面で袋状になり、基板の回転
により基板の中心から周縁に向かう、処理液等の微小な
飛沫を含む気流等が、その空間内に流れ込み難くなり、
その結果、立ち下がり部の傾斜面側の面に処理液が付着
し難く、堆積も起き難くなる。従って、立ち下がり部の
下端部に堆積した処理液が氷柱状に垂れ下がるという不
都合が起き難くなる。
請求項１に記載の発明によれば、立ち下がり部の傾斜面
側の面が基板の回転中心から離れる方向に折り返されて
いるので、立ち下がり部の傾斜面側の面と傾斜面との間
の空間は、開口が狭く、断面で袋状になり、基板の回転
により基板の中心から周縁に向かう、処理液等の微小な
飛沫を含む気流等が、その空間内に流れ込み難くなり、
その結果、立ち下がり部の傾斜面側の面に処理液が付着
し難く、堆積も起き難くなる。従って、立ち下がり部の
下端部に堆積した処理液が氷柱状に垂れ下がるという不
都合が起き難くなる。
【００２１】また、請求項２に記載の発明によれば、立
ち下がり部の傾斜面側の面（折り返し面）が鉛直線との
間でつくる折り返し角度が、傾斜面が鉛直線との間でつ
くる傾斜角度以上の折り返し角度になるように折り返し
面を形成しているので、立ち下がり部の傾斜面側の面と
傾斜面との間の空間の開口が一層狭くなり、処理液等の
微小な飛沫を含む気流の入り込みが一層起き難くなる。
ち下がり部の傾斜面側の面（折り返し面）が鉛直線との
間でつくる折り返し角度が、傾斜面が鉛直線との間でつ
くる傾斜角度以上の折り返し角度になるように折り返し
面を形成しているので、立ち下がり部の傾斜面側の面と
傾斜面との間の空間の開口が一層狭くなり、処理液等の
微小な飛沫を含む気流の入り込みが一層起き難くなる。
【００２２】また、請求項３に記載の発明によれば、リ
ンス液吐出手段よって傾斜面の上端部付近からリンス液
を吐出することにより、カップ内周面に付着した処理液
を洗浄除去することができる。このとき、立ち下がり部
の傾斜面側の面を請求項１または２のように折り返した
ことにより、吐出されたリンス液は立ち下がり部の傾斜
面側の面でも均一に広がるようになる。
ンス液吐出手段よって傾斜面の上端部付近からリンス液
を吐出することにより、カップ内周面に付着した処理液
を洗浄除去することができる。このとき、立ち下がり部
の傾斜面側の面を請求項１または２のように折り返した
ことにより、吐出されたリンス液は立ち下がり部の傾斜
面側の面でも均一に広がるようになる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、本発明の一実施例に係る回
転式基板処理装置の全体構成を示す縦断面図であり、図
２は、要部を拡大した縦断面図である。
実施例を説明する。図１は、本発明の一実施例に係る回
転式基板処理装置の全体構成を示す縦断面図であり、図
２は、要部を拡大した縦断面図である。
【００２４】この実施例装置は、スピンチャック１やノ
ズル２、飛散防止カップ３などを備えている。
ズル２、飛散防止カップ３などを備えている。
【００２５】図に示すスピンチャック１は、真空吸引式
のもので、基板Ｗをほぼ水平姿勢で吸着保持し、回転軸
１１を介して電動モータ１２によって回転駆動されるこ
とで、保持した基板Ｗを鉛直軸周りで回転させるように
なっている。なお、スピンチャック１は、真空吸引式の
ものに限らず、例えば、基板Ｗの周縁を部分的に下方か
ら支持するとともに、その基板Ｗの外周端縁に接触して
基板Ｗの水平位置を規制するように構成されたメカニカ
ル式のスピンチャックであってもよい。
のもので、基板Ｗをほぼ水平姿勢で吸着保持し、回転軸
１１を介して電動モータ１２によって回転駆動されるこ
とで、保持した基板Ｗを鉛直軸周りで回転させるように
なっている。なお、スピンチャック１は、真空吸引式の
ものに限らず、例えば、基板Ｗの周縁を部分的に下方か
ら支持するとともに、その基板Ｗの外周端縁に接触して
基板Ｗの水平位置を規制するように構成されたメカニカ
ル式のスピンチャックであってもよい。
【００２６】スピンチャック１の周囲には、処理液（塗
布装置であれば、フォトレジスト液やポリイミド、ＳＯ
Ｇソース、現像装置であれば現像液）などの飛散を防止
するための飛散防止カップ３が配置されている。また、
図示しない搬送手段が未処理の基板Ｗをスピンチャック
１に載置したり、スピンチャック１から処理済みの基板
Ｗを受け取る際には、図示しない昇降手段が回転軸１１
と飛散防止カップ３とを相対昇降させることによって、
スピンチャック１を飛散防止カップ３の上方へと移動さ
せる（図中の二点鎖線）。
布装置であれば、フォトレジスト液やポリイミド、ＳＯ
Ｇソース、現像装置であれば現像液）などの飛散を防止
するための飛散防止カップ３が配置されている。また、
図示しない搬送手段が未処理の基板Ｗをスピンチャック
１に載置したり、スピンチャック１から処理済みの基板
Ｗを受け取る際には、図示しない昇降手段が回転軸１１
と飛散防止カップ３とを相対昇降させることによって、
スピンチャック１を飛散防止カップ３の上方へと移動さ
せる（図中の二点鎖線）。
【００２７】飛散防止カップ３は、上カップ３１や円形
整流板３２、下カップ３３などから構成されている。上
カップ３１は、上部に設けられ、装置全体に流されてい
るダウンフローの気流を取り込む開口部４１や、基板Ｗ
の回転によるフォトレジスト液等の飛沫を下方へ案内す
る傾斜面４２などを有する。
整流板３２、下カップ３３などから構成されている。上
カップ３１は、上部に設けられ、装置全体に流されてい
るダウンフローの気流を取り込む開口部４１や、基板Ｗ
の回転によるフォトレジスト液等の飛沫を下方へ案内す
る傾斜面４２などを有する。
【００２８】さらに、上カップ３１の傾斜面４２の上端
部付近に全周にわたって立ち下がり部４３が形成されて
いる。この実施例では、この立ち下がり部４３全体（立
ち下がり部４３の傾斜面４２側の面４４）を基板Ｗの回
転中心から離れる方向に折り返している。
部付近に全周にわたって立ち下がり部４３が形成されて
いる。この実施例では、この立ち下がり部４３全体（立
ち下がり部４３の傾斜面４２側の面４４）を基板Ｗの回
転中心から離れる方向に折り返している。
【００２９】また、傾斜面４２の上端部付近には、リン
ス液を吐出する吐出口４５が全周にわたって所定間隔ご
とに設けられている。各吐出口４５には、一部が上カッ
プ３１内に配設されたリンス液供給管４６を介してリン
ス液供給部４７からリンス液が供給されるようになって
いる。なお、吐出口４５からのリンス液の吐出方向は、
例えば、各吐出口４５を含む円の接線方向に一致するよ
うに構成されている。また、吐出口４５の個数や配置場
所、吐出方向などは、従来装置と同様の構成であっても
よい。
ス液を吐出する吐出口４５が全周にわたって所定間隔ご
とに設けられている。各吐出口４５には、一部が上カッ
プ３１内に配設されたリンス液供給管４６を介してリン
ス液供給部４７からリンス液が供給されるようになって
いる。なお、吐出口４５からのリンス液の吐出方向は、
例えば、各吐出口４５を含む円の接線方向に一致するよ
うに構成されている。また、吐出口４５の個数や配置場
所、吐出方向などは、従来装置と同様の構成であっても
よい。
【００３０】円形整流板３２は、開口部４１から流入し
て基板Ｗの周縁に沿って流下する気流を下カップ３３に
整流して案内する。下カップ３３の底部には、さらにカ
ップ排気ダクト５３が配設されている。このカップ排気
ダクト５３は、排気ポンプ５４に接続されており、下カ
ップ３３に案内された気流を排気するようになってい
る。また、上カップ３１の傾斜面４２によって下方に案
内された処理液液等の飛沫を基板Ｗの周縁に沿って流下
する気流に乗せて下カップ３３に案内する。
て基板Ｗの周縁に沿って流下する気流を下カップ３３に
整流して案内する。下カップ３３の底部には、さらにカ
ップ排気ダクト５３が配設されている。このカップ排気
ダクト５３は、排気ポンプ５４に接続されており、下カ
ップ３３に案内された気流を排気するようになってい
る。また、上カップ３１の傾斜面４２によって下方に案
内された処理液液等の飛沫を基板Ｗの周縁に沿って流下
する気流に乗せて下カップ３３に案内する。
【００３１】下カップ３３の底部には、排液ドレイン５
１が配設されている。この排液ドレイン５１は、排液タ
ンク５２に接続されており、回転振り切り後の処理液等
を回収するようになっている。
１が配設されている。この排液ドレイン５１は、排液タ
ンク５２に接続されており、回転振り切り後の処理液等
を回収するようになっている。
【００３２】円形整流板３２の内側には、基板Ｗの裏面
に回り込んだ処理液液や付着したミストを除去するため
の洗浄液を基板Ｗの裏面に向けて吐出するためのバック
リンスノズル６１が配設されている。このバックリンス
ノズル６１には、管継手６２と供給配管６３を介して洗
浄液供給部６４から洗浄液が供給されるようになってい
る。
に回り込んだ処理液液や付着したミストを除去するため
の洗浄液を基板Ｗの裏面に向けて吐出するためのバック
リンスノズル６１が配設されている。このバックリンス
ノズル６１には、管継手６２と供給配管６３を介して洗
浄液供給部６４から洗浄液が供給されるようになってい
る。
【００３３】そして、飛散防止カップ３の開口部４１の
上方であって、基板Ｗのほぼ回転中心の上方には、処理
液を吐出するノズル２が配設されている。
上方であって、基板Ｗのほぼ回転中心の上方には、処理
液を吐出するノズル２が配設されている。
【００３４】上記構成の装置は、基板Ｗがスピンチャッ
ク１に水平姿勢で保持され、ノズル２から処理液が基板
Ｗに吐出され、基板Ｗが鉛直軸周りに回転されて処理液
が基板Ｗの表面に塗布されたり液盛りされることで、所
定の基板処理（塗布処理や現像処理など）が行われる。
ク１に水平姿勢で保持され、ノズル２から処理液が基板
Ｗに吐出され、基板Ｗが鉛直軸周りに回転されて処理液
が基板Ｗの表面に塗布されたり液盛りされることで、所
定の基板処理（塗布処理や現像処理など）が行われる。
【００３５】本発明者らは上記構成の実施例装置を用い
てフォトレジスト液の塗布処理を連続して行わせる実験
を行い、立ち下がり部４３付近のフォトレジスト液の付
着などを調べたところ、立ち下がり部４３の下端から堆
積したフォトレジスト液が氷柱状に垂れ下がるという現
象が起きなくなったばかりでなく、立ち下がり部４３の
傾斜面４２側の面４４へのフォトレジスト液の付着が軽
減していたという良好な結果が得られた。
てフォトレジスト液の塗布処理を連続して行わせる実験
を行い、立ち下がり部４３付近のフォトレジスト液の付
着などを調べたところ、立ち下がり部４３の下端から堆
積したフォトレジスト液が氷柱状に垂れ下がるという現
象が起きなくなったばかりでなく、立ち下がり部４３の
傾斜面４２側の面４４へのフォトレジスト液の付着が軽
減していたという良好な結果が得られた。
【００３６】また、本発明者らは、フォトレジスト液の
塗布処理中における立ち下がり部４３や傾斜面４２の上
端部付近の空気の流れをシミュレーションによって調べ
たところ、図３に示す点線で囲まれる部分の気流が少な
くなっているという結果を得た。すなわち、フォトレジ
スト液の塗布処理中、立ち下がり部４３の傾斜面４２側
の面４４と傾斜面４２との間の空間４８に、フォトレジ
スト液等の微小な飛沫を含む気流が流れ込み難くなり、
上述したように立ち下がり部４３の傾斜面４２側の面４
４へのフォトレジスト液の付着が軽減したものと考えら
れる。
塗布処理中における立ち下がり部４３や傾斜面４２の上
端部付近の空気の流れをシミュレーションによって調べ
たところ、図３に示す点線で囲まれる部分の気流が少な
くなっているという結果を得た。すなわち、フォトレジ
スト液の塗布処理中、立ち下がり部４３の傾斜面４２側
の面４４と傾斜面４２との間の空間４８に、フォトレジ
スト液等の微小な飛沫を含む気流が流れ込み難くなり、
上述したように立ち下がり部４３の傾斜面４２側の面４
４へのフォトレジスト液の付着が軽減したものと考えら
れる。
【００３７】そして、立ち下がり部４３の他の形状につ
いての上記同様のシミュレーションや実験結果から総合
的に判断して、立ち下がり部４３が鉛直下方に向くよう
に構成されていた従来装置に比べて、本発明では、立ち
下がり部４３の傾斜面４２側の面４４と傾斜面４２との
間の空間４８の開口４９が狭くなり、また、断面で袋状
になっている、すなわち、立ち下がり部４３の傾斜面４
２側の面４４が基板Ｗの回転中心から離れる方向に折り
返されているという形状にしたことで、上記空間４８に
フォトレジスト液等の微小な飛沫を含む気流が流れ込み
難くなったという結論に達した。また、上記空間４８の
開口４９が狭くなると、すなわち、図４に示すように、
立ち下がり部４３の傾斜面４２側の面４４（折り返し
面）が鉛直線との間でつくる折り返し角度αが、傾斜面
４２が鉛直線との間でつくる傾斜角度β以上（α≧β）
になるようにすることで、上記空間４８への気流の流れ
込みが一層起き難くなるという結論に達した。なお、前
記折り返し角度αは、０°＜α＜βであってもよい。
いての上記同様のシミュレーションや実験結果から総合
的に判断して、立ち下がり部４３が鉛直下方に向くよう
に構成されていた従来装置に比べて、本発明では、立ち
下がり部４３の傾斜面４２側の面４４と傾斜面４２との
間の空間４８の開口４９が狭くなり、また、断面で袋状
になっている、すなわち、立ち下がり部４３の傾斜面４
２側の面４４が基板Ｗの回転中心から離れる方向に折り
返されているという形状にしたことで、上記空間４８に
フォトレジスト液等の微小な飛沫を含む気流が流れ込み
難くなったという結論に達した。また、上記空間４８の
開口４９が狭くなると、すなわち、図４に示すように、
立ち下がり部４３の傾斜面４２側の面４４（折り返し
面）が鉛直線との間でつくる折り返し角度αが、傾斜面
４２が鉛直線との間でつくる傾斜角度β以上（α≧β）
になるようにすることで、上記空間４８への気流の流れ
込みが一層起き難くなるという結論に達した。なお、前
記折り返し角度αは、０°＜α＜βであってもよい。
【００３８】また、本発明者らは、上記構成の実施例装
置を用い、吐出口４５の個数や配置場所、吐出方向など
を従来装置と同様の構成にし、リンス液の吐出量や吐出
時間を従来装置と同様の条件でカップリンスしてみたと
ころ、傾斜面４２へのリンス液の広がりは従来装置と同
様に良好であった。そして、本実施例装置では、立ち下
がり部４３の傾斜面４２側の面４４でもリンス液が均一
に広がり、従来装置のようにリンス液が流れる部分と流
れない部分とが形成されるというような不都合は特に認
められなかった。これは、立ち下がり部４３の傾斜面４
２側の面４４が折り返されたことにより、その面４４で
リンス液が折り返しに沿って流れることで、その面４４
でのリンス液の広がりが均一に行えるようになったもの
と考えられる。
置を用い、吐出口４５の個数や配置場所、吐出方向など
を従来装置と同様の構成にし、リンス液の吐出量や吐出
時間を従来装置と同様の条件でカップリンスしてみたと
ころ、傾斜面４２へのリンス液の広がりは従来装置と同
様に良好であった。そして、本実施例装置では、立ち下
がり部４３の傾斜面４２側の面４４でもリンス液が均一
に広がり、従来装置のようにリンス液が流れる部分と流
れない部分とが形成されるというような不都合は特に認
められなかった。これは、立ち下がり部４３の傾斜面４
２側の面４４が折り返されたことにより、その面４４で
リンス液が折り返しに沿って流れることで、その面４４
でのリンス液の広がりが均一に行えるようになったもの
と考えられる。
【００３９】なお、上記実施例では、立ち下がり部４３
全体を折り返すように構成したが、本発明はこれに限定
されない。立ち下がり部４３付近の形状を、例えば、図
５の各図に示すように構成してもよい。
全体を折り返すように構成したが、本発明はこれに限定
されない。立ち下がり部４３付近の形状を、例えば、図
５の各図に示すように構成してもよい。
【００４０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、立ち下がり部の傾斜面側の面
が基板の回転中心から離れる方向に折り返されているの
で、立ち下がり部の傾斜面側の面と傾斜面との間の空間
に、処理液等の微小な飛沫を含む気流が流れ込み難くな
り、その結果、立ち下がり部の傾斜面側の面に処理液が
付着し難く、堆積も起き難くなり、立ち下がり部の下端
部に堆積した処理液が氷柱状に垂れ下がるという現象が
起き難くなった。従って、基板処理を安定して行なえ、
飛散防止カップの手作業での洗浄などによる作業者の負
担が軽減され、生産性の低下を防止することができるよ
うになった。
１に記載の発明によれば、立ち下がり部の傾斜面側の面
が基板の回転中心から離れる方向に折り返されているの
で、立ち下がり部の傾斜面側の面と傾斜面との間の空間
に、処理液等の微小な飛沫を含む気流が流れ込み難くな
り、その結果、立ち下がり部の傾斜面側の面に処理液が
付着し難く、堆積も起き難くなり、立ち下がり部の下端
部に堆積した処理液が氷柱状に垂れ下がるという現象が
起き難くなった。従って、基板処理を安定して行なえ、
飛散防止カップの手作業での洗浄などによる作業者の負
担が軽減され、生産性の低下を防止することができるよ
うになった。
【００４１】また、請求項２に記載の発明によれば、立
ち下がり部の傾斜面側の面と傾斜面との間の空間への、
処理液等の微小な飛沫を含む気流の流れ込みが一層起き
難くなるように構成したので、立ち下がり部の傾斜面側
の面への処理液の付着、堆積が一層起き難くなった。
ち下がり部の傾斜面側の面と傾斜面との間の空間への、
処理液等の微小な飛沫を含む気流の流れ込みが一層起き
難くなるように構成したので、立ち下がり部の傾斜面側
の面への処理液の付着、堆積が一層起き難くなった。
【００４２】また、請求項３に記載の発明によれば、カ
ップ内周面に付着した処理液をリンス液で洗浄除去で
き、この際、立ち下がり部の傾斜面側の面でリンス液は
均一に広がり易くなった。従って、リンス液の吐出量を
増加したり、吐出時間を長くしたり、立ち下がり部の傾
斜面側の面へのリンス液の広がりが良好になるような吐
出方向からリンス液を吐出する吐出口を別に設けるなど
の必要がなくなり、ランニングコスト高、無駄なリンス
液の吐出、生産性の低下、構造の複雑化などの種々の不
都合を解消することもできる。
ップ内周面に付着した処理液をリンス液で洗浄除去で
き、この際、立ち下がり部の傾斜面側の面でリンス液は
均一に広がり易くなった。従って、リンス液の吐出量を
増加したり、吐出時間を長くしたり、立ち下がり部の傾
斜面側の面へのリンス液の広がりが良好になるような吐
出方向からリンス液を吐出する吐出口を別に設けるなど
の必要がなくなり、ランニングコスト高、無駄なリンス
液の吐出、生産性の低下、構造の複雑化などの種々の不
都合を解消することもできる。
【図１】本発明の一実施例に係る回転式基板処理装置の
全体構成を示す縦断面図である。
全体構成を示す縦断面図である。
【図２】実施例装置の要部を拡大した縦断面図である。
【図３】立ち下がり部の傾斜面側の面と傾斜面との間の
空間における空気の流れをシミュレーションした結果を
示す図である。
空間における空気の流れをシミュレーションした結果を
示す図である。
【図４】立ち下がり部の傾斜面側の面の折り返し角度と
傾斜面の傾斜角度の関係などを示す図である。
傾斜面の傾斜角度の関係などを示す図である。
【図５】本発明の各種の変形例の構成を示す要部拡大縦
断面図である。
断面図である。
【図６】従来例に係る回転式基板処理装置の全体構成を
示す縦断面図である。
示す縦断面図である。
【図７】従来装置の問題点を説明するための図である。
１ … スピンチャック ２ … ノズル ３ … 飛散防止カップ ３１ … 上カップ ４２ … 傾斜面 ４３ … 立ち下がり部 ４４ … 立ち下がり部の傾斜面側の面 ４５ … リンス液の吐出口 Ｗ … 基板 α … 立ち下がり部の傾斜面側の面の折り返し角度 β … 傾斜面の傾斜角度
Claims (3)
- 【請求項１】 基板を水平姿勢で保持して鉛直軸周りに
回転させるスピンチャックと、 前記スピンチャックに保持された基板に処理液を吐出す
るノズルと、 前記スピンチャックに保持された基板の周囲に配置さ
れ、基板の回転による処理液等の飛沫を下方へ案内する
傾斜面が内周面の全周にわたって形成された、処理液の
飛散を防止する飛散防止カップと、 が備えられた回転式基板処理装置において、 前記飛散防止カップの傾斜面の上端部付近に全周にわた
って立ち下がり部が形成され、その立ち下がり部の前記
傾斜面側の面が基板の回転中心から離れる方向に折り返
されていることを特徴とする回転式基板処理装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の回転式基板処理装置に
おいて、 前記立ち下がり部の前記傾斜面側の面が鉛直線との間で
つくる折り返し角度は、前記傾斜面が鉛直線との間でつ
くる傾斜角度以上の折り返し角度であることを特徴とす
る回転式基板処理装置。 - 【請求項３】 請求項１または２のいずれかに記載の回
転式基板処理装置において、 前記傾斜面の上端部付近からリンス液を吐出するリンス
液吐出手段を備えたことを特徴とする回転式基板処理装
置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09058296A JP3476305B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 回転式基板処理装置 |
| KR1019970007274A KR100249272B1 (ko) | 1996-03-18 | 1997-03-05 | 회전식 기판처리장치 |
| US08/816,555 US5846327A (en) | 1996-03-18 | 1997-03-13 | Substrate spin treating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09058296A JP3476305B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 回転式基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09260266A true JPH09260266A (ja) | 1997-10-03 |
| JP3476305B2 JP3476305B2 (ja) | 2003-12-10 |
Family
ID=14002445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09058296A Expired - Fee Related JP3476305B2 (ja) | 1996-03-18 | 1996-03-18 | 回転式基板処理装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5846327A (ja) |
| JP (1) | JP3476305B2 (ja) |
| KR (1) | KR100249272B1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014157911A (ja) * | 2013-02-15 | 2014-08-28 | Ricoh Co Ltd | 回転塗布装置および該回転塗布装置の洗浄方法 |
| JP2018026477A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
| CN111299070A (zh) * | 2018-12-11 | 2020-06-19 | 聚昌科技股份有限公司 | 消除扰流的液气分离式涂布机结构 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6516816B1 (en) * | 1999-04-08 | 2003-02-11 | Applied Materials, Inc. | Spin-rinse-dryer |
| JP4531998B2 (ja) * | 2001-02-21 | 2010-08-25 | Ｏｋｉセミコンダクタ株式会社 | 廃液分離回収システム及び廃液分離回収方法 |
| US20030036273A1 (en) * | 2001-08-14 | 2003-02-20 | Applied Materials, Inc. | Shield for capturing fluid displaced from a substrate |
| TW200415674A (en) * | 2002-07-26 | 2004-08-16 | Applied Materials Inc | Hydrophilic components for a spin-rinse-dryer |
| US7699021B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-04-20 | Sokudo Co., Ltd. | Cluster tool substrate throughput optimization |
| US7651306B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-01-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian robot cluster tool architecture |
| US7255747B2 (en) | 2004-12-22 | 2007-08-14 | Sokudo Co., Ltd. | Coat/develop module with independent stations |
| US7798764B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-09-21 | Applied Materials, Inc. | Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool |
| US7819079B2 (en) | 2004-12-22 | 2010-10-26 | Applied Materials, Inc. | Cartesian cluster tool configuration for lithography type processes |
| KR100890616B1 (ko) | 2007-09-19 | 2009-03-27 | 세메스 주식회사 | 기판처리장치 |
| CN104759391B (zh) * | 2015-04-20 | 2017-03-29 | 豪威半导体（上海）有限责任公司 | 芯片点胶治具 |
| JP6715019B2 (ja) * | 2016-02-09 | 2020-07-01 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| KR102139605B1 (ko) * | 2018-11-06 | 2020-08-12 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0444216Y2 (ja) * | 1985-10-07 | 1992-10-19 |
-
1996
- 1996-03-18 JP JP09058296A patent/JP3476305B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
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