JPH10270318A - 飛散防止カップの洗浄方法及び塗布装置 - Google Patents
飛散防止カップの洗浄方法及び塗布装置Info
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- JPH10270318A JPH10270318A JP7141997A JP7141997A JPH10270318A JP H10270318 A JPH10270318 A JP H10270318A JP 7141997 A JP7141997 A JP 7141997A JP 7141997 A JP7141997 A JP 7141997A JP H10270318 A JPH10270318 A JP H10270318A
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- cleaning liquid
- cup
- coating
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アルカリ性水溶液を洗浄液として供給するこ
とにより、洗浄時間を短縮しつつも廃液処理が容易にで
きる。 【解決手段】 スピンチャック１により支持された基板
に対して塗布液供給ノズルから反射防止膜剤を供給した
際に、スピンチャック１の周囲に配設された飛散防止カ
ップ４の内面に付着した反射防止膜剤Ｃを洗浄液によっ
て洗浄する飛散防止カップ４の洗浄方法において、洗浄
液Ｓとしてアルカリ性の現像液を供給する。酸性かつ水
溶性である反射防止膜剤Ｃは、中和反応によって溶解が
促進されて容易に除去される。
とにより、洗浄時間を短縮しつつも廃液処理が容易にで
きる。 【解決手段】 スピンチャック１により支持された基板
に対して塗布液供給ノズルから反射防止膜剤を供給した
際に、スピンチャック１の周囲に配設された飛散防止カ
ップ４の内面に付着した反射防止膜剤Ｃを洗浄液によっ
て洗浄する飛散防止カップ４の洗浄方法において、洗浄
液Ｓとしてアルカリ性の現像液を供給する。酸性かつ水
溶性である反射防止膜剤Ｃは、中和反応によって溶解が
促進されて容易に除去される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称す
る）に対して塗布液を回転塗布した際に、飛散防止カッ
プに付着した塗布液の飛沫を洗浄除去する飛散防止カッ
プの洗浄方法及び塗布装置に係り、特に、酸性の水溶性
塗布液を洗浄液によって洗浄除去する技術に関する。
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称す
る）に対して塗布液を回転塗布した際に、飛散防止カッ
プに付着した塗布液の飛沫を洗浄除去する飛散防止カッ
プの洗浄方法及び塗布装置に係り、特に、酸性の水溶性
塗布液を洗浄液によって洗浄除去する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板の処理工程の一つとして、基板の表
面に一定膜厚のフォトレジスト被膜を形成した後、露光
によって所定のパターンを焼き付け、現像処理によって
そのパターンをフォトレジスト被膜に形成するフォトリ
ソグラフィーがある。この処理工程においては、フォト
レジスト被膜の界面で生じる定在波や光散乱の影響によ
り、パターンの解像度が著しく低下したり、パターンの
線幅に不均一性が生じる場合がある。
面に一定膜厚のフォトレジスト被膜を形成した後、露光
によって所定のパターンを焼き付け、現像処理によって
そのパターンをフォトレジスト被膜に形成するフォトリ
ソグラフィーがある。この処理工程においては、フォト
レジスト被膜の界面で生じる定在波や光散乱の影響によ
り、パターンの解像度が著しく低下したり、パターンの
線幅に不均一性が生じる場合がある。
【０００３】そこで、このような悪影響を防止するため
露光の前に、光を吸収もしくは減衰させる特性を有する
反射防止膜（アンチリフレクションコート(AntiRefrect
ionCoating)ARC とも呼ばれる）を形成することがあ
る。因みに、このような反射防止膜としては、基板とフ
ォトレジスト被膜との間に反射防止膜を形成するBottom
-ARCと、フォトレジスト被膜の上に反射防止膜を形成す
るTop-ARC とがある。
露光の前に、光を吸収もしくは減衰させる特性を有する
反射防止膜（アンチリフレクションコート(AntiRefrect
ionCoating)ARC とも呼ばれる）を形成することがあ
る。因みに、このような反射防止膜としては、基板とフ
ォトレジスト被膜との間に反射防止膜を形成するBottom
-ARCと、フォトレジスト被膜の上に反射防止膜を形成す
るTop-ARC とがある。
【０００４】上記のTop-ARC を例に採ってその形成方法
を説明すると、まず、基板の表面にフォトレジスト被膜
を形成し、その上に塗布液として反射防止膜剤を供給し
て反射防止膜を形成するようになっている。具体的に
は、フォトレジスト被膜が被着された基板を、飛散防止
カップで囲われた回転支持部によって低速回転させつ
つ、塗布液供給ノズルから反射防止膜剤を供給する。次
いで、回転支持部の回転数を高めることによって、余剰
の反射防止膜剤を振り切って基板の全面にわたってほぼ
一定膜厚の反射防止膜を形成するようになっている。
を説明すると、まず、基板の表面にフォトレジスト被膜
を形成し、その上に塗布液として反射防止膜剤を供給し
て反射防止膜を形成するようになっている。具体的に
は、フォトレジスト被膜が被着された基板を、飛散防止
カップで囲われた回転支持部によって低速回転させつ
つ、塗布液供給ノズルから反射防止膜剤を供給する。次
いで、回転支持部の回転数を高めることによって、余剰
の反射防止膜剤を振り切って基板の全面にわたってほぼ
一定膜厚の反射防止膜を形成するようになっている。
【０００５】このようにして上述したような不都合を回
避するための反射防止膜を形成するが、その形成時には
反射防止膜剤が周囲に飛散し、その飛沫が飛散防止カッ
プの内面に付着する。この飛沫が飛散防止カップ内面に
堆積して乾燥するとパーティクルを発生して基板を汚染
する原因となるので、定期的に洗浄して除去する必要が
ある。
避するための反射防止膜を形成するが、その形成時には
反射防止膜剤が周囲に飛散し、その飛沫が飛散防止カッ
プの内面に付着する。この飛沫が飛散防止カップ内面に
堆積して乾燥するとパーティクルを発生して基板を汚染
する原因となるので、定期的に洗浄して除去する必要が
ある。
【０００６】塗布液である反射防止膜剤は酸性かつ水溶
性であることが一般的であるため、飛散防止カップの洗
浄方法としては、飛散防止カップの内面に純水を洗浄液
として供給するなどの方法によって、内面に付着堆積し
ている反射防止膜剤を溶解除去することが一般的に行わ
れている。
性であることが一般的であるため、飛散防止カップの洗
浄方法としては、飛散防止カップの内面に純水を洗浄液
として供給するなどの方法によって、内面に付着堆積し
ている反射防止膜剤を溶解除去することが一般的に行わ
れている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来例に係る洗浄方法には、次のような問題があ
る。すなわち、水溶性の反射防止膜剤の飛沫を純水で洗
浄する際の溶解速度は、フォトレジスト液のような溶剤
に可溶性の塗布液を溶剤で洗浄する際の溶解速度に比較
して非常に遅い。したがって、反射防止膜剤が付着した
飛散防止カップの洗浄に時間がかかるので、装置のメン
テナンスに時間を要して稼働率の低下を招くという問題
点がある。
うな従来例に係る洗浄方法には、次のような問題があ
る。すなわち、水溶性の反射防止膜剤の飛沫を純水で洗
浄する際の溶解速度は、フォトレジスト液のような溶剤
に可溶性の塗布液を溶剤で洗浄する際の溶解速度に比較
して非常に遅い。したがって、反射防止膜剤が付着した
飛散防止カップの洗浄に時間がかかるので、装置のメン
テナンスに時間を要して稼働率の低下を招くという問題
点がある。
【０００８】さらに、純水は、溶剤に比較して表面張力
が非常に大きいので、飛散防止カップ内面に純水を供給
した際に均等に拡がりにくく、洗浄ムラを生じやすいと
いう問題もある。
が非常に大きいので、飛散防止カップ内面に純水を供給
した際に均等に拡がりにくく、洗浄ムラを生じやすいと
いう問題もある。
【０００９】なお、反射防止膜剤の洗浄除去のために、
フォトレジスト液の洗浄除去と同様に溶剤を供給するこ
とも考えられるが、このようにすると水溶性の反射防止
膜剤と溶剤とが混ざり合ってしまう。したがって、水溶
性の反射防止膜剤と溶剤とを分離する処理が必要になっ
て廃液処理が複雑化するため実用的であるとは言い難
い。
フォトレジスト液の洗浄除去と同様に溶剤を供給するこ
とも考えられるが、このようにすると水溶性の反射防止
膜剤と溶剤とが混ざり合ってしまう。したがって、水溶
性の反射防止膜剤と溶剤とを分離する処理が必要になっ
て廃液処理が複雑化するため実用的であるとは言い難
い。
【００１０】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、アルカリ性水溶液を洗浄液として供給
することにより、洗浄時間を短縮しつつも廃液処理が容
易にできる飛散防止カップの洗浄方法及び塗布装置を提
供することを目的とする。
たものであって、アルカリ性水溶液を洗浄液として供給
することにより、洗浄時間を短縮しつつも廃液処理が容
易にできる飛散防止カップの洗浄方法及び塗布装置を提
供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明方法は、回転支持手段によっ
て支持された基板に対して塗布液供給手段から酸性の水
溶性塗布液を供給した際に、前記回転支持手段の周囲に
配設されている飛散防止カップに付着した前記水溶性塗
布液の飛沫を洗浄液により洗浄する飛散防止カップの洗
浄方法において、前記洗浄液をアルカリ性水溶液とした
ことを特徴とするものである。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明方法は、回転支持手段によっ
て支持された基板に対して塗布液供給手段から酸性の水
溶性塗布液を供給した際に、前記回転支持手段の周囲に
配設されている飛散防止カップに付着した前記水溶性塗
布液の飛沫を洗浄液により洗浄する飛散防止カップの洗
浄方法において、前記洗浄液をアルカリ性水溶液とした
ことを特徴とするものである。
【００１２】また、請求項２に記載の発明方法は、請求
項１に記載の飛散防止カップの洗浄方法において、前記
アルカリ性水溶液に界面活性剤を含ませたことを特徴と
するものである。
項１に記載の飛散防止カップの洗浄方法において、前記
アルカリ性水溶液に界面活性剤を含ませたことを特徴と
するものである。
【００１３】また、請求項３に記載の発明装置は、回転
支持手段によって支持された基板に対して塗布液供給手
段から酸性の水溶性塗布液を供給した際に、前記回転支
持手段の周囲に配設されている飛散防止カップに付着し
た前記水溶性塗布液の飛沫を、洗浄液供給手段から前記
飛散防止カップ内面に洗浄液を供給することによって洗
浄可能に構成されている塗布装置において、前記洗浄液
供給手段を、アルカリ性水溶液を貯留する貯留手段と、
前記飛散防止カップの内面に、前記洗浄液として前記ア
ルカリ性水溶液を供給する供給手段とから構成したこと
を特徴とするものである。
支持手段によって支持された基板に対して塗布液供給手
段から酸性の水溶性塗布液を供給した際に、前記回転支
持手段の周囲に配設されている飛散防止カップに付着し
た前記水溶性塗布液の飛沫を、洗浄液供給手段から前記
飛散防止カップ内面に洗浄液を供給することによって洗
浄可能に構成されている塗布装置において、前記洗浄液
供給手段を、アルカリ性水溶液を貯留する貯留手段と、
前記飛散防止カップの内面に、前記洗浄液として前記ア
ルカリ性水溶液を供給する供給手段とから構成したこと
を特徴とするものである。
【００１４】
【作用】請求項１に記載の発明方法によれば、回転支持
手段に支持された基板に塗布液供給手段から酸性の水溶
性塗布液を供給した際に、飛散防止カップ内面に付着し
た塗布液の飛沫に対して、アルカリ性水溶液を洗浄液と
して供給する。塗布液は酸性かつ水溶性であるので、ア
ルカリ性水溶液と中和反応を起こして反応が促進され、
容易に溶解する。このとき生じる溶解した塗布液を含む
廃液は、全て水溶液として処理することができる。
手段に支持された基板に塗布液供給手段から酸性の水溶
性塗布液を供給した際に、飛散防止カップ内面に付着し
た塗布液の飛沫に対して、アルカリ性水溶液を洗浄液と
して供給する。塗布液は酸性かつ水溶性であるので、ア
ルカリ性水溶液と中和反応を起こして反応が促進され、
容易に溶解する。このとき生じる溶解した塗布液を含む
廃液は、全て水溶液として処理することができる。
【００１５】また、請求項２に記載の発明方法によれ
ば、アルカリ性水溶液に界面活性剤を含ませたので、表
面張力を非常に小さなものとすることができる。したが
って、アルカリ性水溶液を洗浄液として飛散防止カップ
内面に供給した際に極めて拡がりやすくすることができ
る。
ば、アルカリ性水溶液に界面活性剤を含ませたので、表
面張力を非常に小さなものとすることができる。したが
って、アルカリ性水溶液を洗浄液として飛散防止カップ
内面に供給した際に極めて拡がりやすくすることができ
る。
【００１６】また、請求項３に記載の発明方法によれ
ば、回転支持手段に支持された基板に塗布液供給手段か
ら酸性の水溶性塗布液を供給した際に、飛散防止カップ
内面に付着した塗布液の飛沫に対して、貯留手段に貯留
したアルカリ性水溶液を供給手段から洗浄液として供給
する。塗布液は酸性かつ水溶性であるので、アルカリ性
水溶液と中和反応を起こして反応が促進され、容易に溶
解する。このとき生じる溶解した塗布液を含む廃液は、
全て水溶液として処理することができる。
ば、回転支持手段に支持された基板に塗布液供給手段か
ら酸性の水溶性塗布液を供給した際に、飛散防止カップ
内面に付着した塗布液の飛沫に対して、貯留手段に貯留
したアルカリ性水溶液を供給手段から洗浄液として供給
する。塗布液は酸性かつ水溶性であるので、アルカリ性
水溶液と中和反応を起こして反応が促進され、容易に溶
解する。このとき生じる溶解した塗布液を含む廃液は、
全て水溶液として処理することができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は、本発明に係る飛散防止カッ
プの洗浄方法を適用した塗布装置の概略構成を示すブロ
ック図である。なお、この塗布装置は、酸性かつ水溶性
の反射防止膜剤を塗布するためのものである。
実施例を説明する。図１は、本発明に係る飛散防止カッ
プの洗浄方法を適用した塗布装置の概略構成を示すブロ
ック図である。なお、この塗布装置は、酸性かつ水溶性
の反射防止膜剤を塗布するためのものである。
【００１８】図中、符号１は、フォトレジスト被膜Ｒを
表面に被着された基板Ｗを水平姿勢で吸着支持するスピ
ンチャックである。このスピンチャック１は、回転軸２
の上端部にその下面中心部が嵌入されており、電動モー
タ３によって回転軸２とともに鉛直軸周りで回転され
る。なお、これらのスピンチャック１と、回転軸２と、
電動モータ３とが本発明の回転支持手段に相当する。
表面に被着された基板Ｗを水平姿勢で吸着支持するスピ
ンチャックである。このスピンチャック１は、回転軸２
の上端部にその下面中心部が嵌入されており、電動モー
タ３によって回転軸２とともに鉛直軸周りで回転され
る。なお、これらのスピンチャック１と、回転軸２と、
電動モータ３とが本発明の回転支持手段に相当する。
【００１９】スピンチャック１の周囲には、基板Ｗに対
して供給される反射防止膜剤が飛散することを防止する
ための飛散防止カップ４が配設されている。この飛散防
止カップ４は、下カップ４ａと、上部に開口４ｂ1 を有
し、下カップ４ａの上部内周面に嵌め込まれた上カップ
４ｂと、下カップ４ａの底面中心部に嵌め込まれた円錐
形状の整流板４ｃとから構成されている。
して供給される反射防止膜剤が飛散することを防止する
ための飛散防止カップ４が配設されている。この飛散防
止カップ４は、下カップ４ａと、上部に開口４ｂ1 を有
し、下カップ４ａの上部内周面に嵌め込まれた上カップ
４ｂと、下カップ４ａの底面中心部に嵌め込まれた円錐
形状の整流板４ｃとから構成されている。
【００２０】下カップ４ａは、底面に環状の排液ゾーン
４ａ1 が形成されており、上カップ４ｂの下部内周面に
形成された傾斜面４ｂ2 によって下方に案内された洗浄
液や反射防止膜剤などを滞留する。この排液ゾーン４ａ
1 に滞留している反射防止膜剤などは、排液口を通って
ドレインタンク４ａ2 に回収され、廃液として処理され
るようになっている。さらに、整流板４ｃの下面と下カ
ップ４ａの中心側底面の間には、環状の排気ゾーン４ａ
3 が形成されている。この排気ゾーン４ａ3 には、排気
口を介して排気ポンプ４ａ4 が接続されており、開口４
ｂ1 を通って基板Ｗの周縁部を流下し、反射防止膜剤な
どのミストを乗せた気流が、整流板４ｃによって整流さ
れた後、排気されるようになっている。
４ａ1 が形成されており、上カップ４ｂの下部内周面に
形成された傾斜面４ｂ2 によって下方に案内された洗浄
液や反射防止膜剤などを滞留する。この排液ゾーン４ａ
1 に滞留している反射防止膜剤などは、排液口を通って
ドレインタンク４ａ2 に回収され、廃液として処理され
るようになっている。さらに、整流板４ｃの下面と下カ
ップ４ａの中心側底面の間には、環状の排気ゾーン４ａ
3 が形成されている。この排気ゾーン４ａ3 には、排気
口を介して排気ポンプ４ａ4 が接続されており、開口４
ｂ1 を通って基板Ｗの周縁部を流下し、反射防止膜剤な
どのミストを乗せた気流が、整流板４ｃによって整流さ
れた後、排気されるようになっている。
【００２１】塗布液供給ノズル５は、図示しない移動機
構により、スピンチャック１の上方にあたる供給位置
と、図中に二点鎖線で示した側方の待機位置との間を移
動可能に構成されている。この塗布液供給ノズル５は供
給配管を介して供給ポンプ７に連通接続されており、供
給ポンプ７によって、塗布液タンク９に貯留されている
酸性かつ水溶性の塗布液である反射防止膜剤が送り込ま
れる。なお、上記の塗布液供給ノズル５と、供給ポンプ
７と、塗布液タンク９とが本発明における塗布液供給手
段に相当するものである。
構により、スピンチャック１の上方にあたる供給位置
と、図中に二点鎖線で示した側方の待機位置との間を移
動可能に構成されている。この塗布液供給ノズル５は供
給配管を介して供給ポンプ７に連通接続されており、供
給ポンプ７によって、塗布液タンク９に貯留されている
酸性かつ水溶性の塗布液である反射防止膜剤が送り込ま
れる。なお、上記の塗布液供給ノズル５と、供給ポンプ
７と、塗布液タンク９とが本発明における塗布液供給手
段に相当するものである。
【００２２】上述した上カップ４ｂには、その内周面に
形成された傾斜面４ｂ2 に洗浄液を流下させるための洗
浄液貯留部１０が形成されている。この洗浄液貯留部１
０は、平面視環状に形成されているとともに、傾斜面４
ｂ2 に開口する多数の供給孔１０ａが形成されている。
上カップ４ｂの外側面の一部位には洗浄液貯留部１０に
連通した供給管１０ｂが突設されており、この供給管１
０ｂから、洗浄液タンク１２に貯留されている界面活性
剤を含むアルカリ性の現像液が供給ポンプ１４によって
洗浄液貯留部１０に洗浄液として圧送されるようになっ
ている。
形成された傾斜面４ｂ2 に洗浄液を流下させるための洗
浄液貯留部１０が形成されている。この洗浄液貯留部１
０は、平面視環状に形成されているとともに、傾斜面４
ｂ2 に開口する多数の供給孔１０ａが形成されている。
上カップ４ｂの外側面の一部位には洗浄液貯留部１０に
連通した供給管１０ｂが突設されており、この供給管１
０ｂから、洗浄液タンク１２に貯留されている界面活性
剤を含むアルカリ性の現像液が供給ポンプ１４によって
洗浄液貯留部１０に洗浄液として圧送されるようになっ
ている。
【００２３】なお、上記の洗浄液貯留部１０と、供給孔
１０ａと、供給管１０ｂと、洗浄液タンク１２と、供給
ポンプ１４とが本発明の洗浄液供給手段に相当する。ま
た、洗浄液タンク１２が本発明の貯留手段に相当し、洗
浄液貯留部１０と、供給孔１０ａと、供給管１０ｂと、
供給ポンプ１４とが本発明の供給手段に相当する。
１０ａと、供給管１０ｂと、洗浄液タンク１２と、供給
ポンプ１４とが本発明の洗浄液供給手段に相当する。ま
た、洗浄液タンク１２が本発明の貯留手段に相当し、洗
浄液貯留部１０と、供給孔１０ａと、供給管１０ｂと、
供給ポンプ１４とが本発明の供給手段に相当する。
【００２４】また、上述した電動モータ３による基板Ｗ
の回転数や回転時間と、供給ポンプ７による反射防止膜
剤の供給量や供給時間と、洗浄液を圧送する供給ポンプ
１４による洗浄液の供給量や供給時間などは、ＣＰＵや
メモリを内蔵した制御部２０によって統括制御されるよ
うになている。
の回転数や回転時間と、供給ポンプ７による反射防止膜
剤の供給量や供給時間と、洗浄液を圧送する供給ポンプ
１４による洗浄液の供給量や供給時間などは、ＣＰＵや
メモリを内蔵した制御部２０によって統括制御されるよ
うになている。
【００２５】上述したように構成された塗布装置では、
次のようにして基板Ｗの表面に反射防止膜が形成され
る。なお、基板Ｗの表面に形成されたフォトレジスト被
膜Ｒの上に反射防止膜を形成するTop-ARC を例に採って
説明する。
次のようにして基板Ｗの表面に反射防止膜が形成され
る。なお、基板Ｗの表面に形成されたフォトレジスト被
膜Ｒの上に反射防止膜を形成するTop-ARC を例に採って
説明する。
【００２６】図２を参照する。まず、表面にフォトレジ
スト被膜Ｒ（図中の点線）が形成された基板Ｗをスピン
チャック１に吸着支持させ、制御部２０が電動モータ３
の回転駆動を開始して基板Ｗを低速回転させる。次い
で、塗布液供給ノズル５を基板Ｗの回転中心上方にあた
る供給位置に移動し、供給ポンプ７を一定時間だけ駆動
して塗布液タンク９内の反射防止膜剤を圧送する。これ
により塗布液供給ノズル５から基板Ｗの表面に一定量の
反射防止膜剤Ｃが供給され、その一部は遠心力によって
基板Ｗの周囲に飛散する。
スト被膜Ｒ（図中の点線）が形成された基板Ｗをスピン
チャック１に吸着支持させ、制御部２０が電動モータ３
の回転駆動を開始して基板Ｗを低速回転させる。次い
で、塗布液供給ノズル５を基板Ｗの回転中心上方にあた
る供給位置に移動し、供給ポンプ７を一定時間だけ駆動
して塗布液タンク９内の反射防止膜剤を圧送する。これ
により塗布液供給ノズル５から基板Ｗの表面に一定量の
反射防止膜剤Ｃが供給され、その一部は遠心力によって
基板Ｗの周囲に飛散する。
【００２７】次に、電動モータ３の回転数を高めて、基
板Ｗの表面に供給された一定量の反射防止膜剤Ｃのうち
余剰分を振り切る。振り切られた余剰分の反射防止膜剤
Ｃは、上カップ４ａの傾斜面４ｂ2 により下方に案内さ
れるとともに、大部分が傾斜面４ｂ2 に付着する。この
ように高速回転で一定時間だけ基板Ｗを回転させること
により基板Ｗの表面に一定膜厚の反射防止膜を形成す
る。
板Ｗの表面に供給された一定量の反射防止膜剤Ｃのうち
余剰分を振り切る。振り切られた余剰分の反射防止膜剤
Ｃは、上カップ４ａの傾斜面４ｂ2 により下方に案内さ
れるとともに、大部分が傾斜面４ｂ2 に付着する。この
ように高速回転で一定時間だけ基板Ｗを回転させること
により基板Ｗの表面に一定膜厚の反射防止膜を形成す
る。
【００２８】上述したようにしてフォトレジスト被膜Ｒ
が被着された一枚の基板Ｗに反射防止膜が形成される
が、基板Ｗを順次に処理してゆくに従って、飛散した反
射防止膜剤Ｃが上カップ４ｂの傾斜面４ｂ2 や排液ゾー
ン４ａ1 に堆積する。このように堆積した反射防止膜剤
Ｃを放置すると、乾燥してパーティクルを発生する原因
となるので定期的に洗浄除去することが必要である。
が被着された一枚の基板Ｗに反射防止膜が形成される
が、基板Ｗを順次に処理してゆくに従って、飛散した反
射防止膜剤Ｃが上カップ４ｂの傾斜面４ｂ2 や排液ゾー
ン４ａ1 に堆積する。このように堆積した反射防止膜剤
Ｃを放置すると、乾燥してパーティクルを発生する原因
となるので定期的に洗浄除去することが必要である。
【００２９】次に、図３を参照しつつ上記のようにして
付着堆積した反射防止膜剤Ｃの洗浄除去について説明す
る。
付着堆積した反射防止膜剤Ｃの洗浄除去について説明す
る。
【００３０】スピンチャック１に基板Ｗが吸着支持され
ていない状態において、供給ポンプ１４を駆動し、洗浄
液タンク１４内の洗浄液（アルカリ性の現像液）を洗浄
液貯留部１０に圧送する。すると、供給孔１０ａから洗
浄液Ｓが漏れ出して傾斜面４ｂ2 に達する。洗浄液には
界面活性剤が含まれているので、傾斜面４ｂ2 の全面を
洗浄液Ｓがムラなく覆ってゆき、洗浄効果を高めること
ができる。洗浄液Ｓは、付着している反射防止膜剤Ｃ
（図中の点線）を溶解しつつ排液ゾーン４ａ1 に流下す
る（図中の実線矢印）。
ていない状態において、供給ポンプ１４を駆動し、洗浄
液タンク１４内の洗浄液（アルカリ性の現像液）を洗浄
液貯留部１０に圧送する。すると、供給孔１０ａから洗
浄液Ｓが漏れ出して傾斜面４ｂ2 に達する。洗浄液には
界面活性剤が含まれているので、傾斜面４ｂ2 の全面を
洗浄液Ｓがムラなく覆ってゆき、洗浄効果を高めること
ができる。洗浄液Ｓは、付着している反射防止膜剤Ｃ
（図中の点線）を溶解しつつ排液ゾーン４ａ1 に流下す
る（図中の実線矢印）。
【００３１】このようにして洗浄が行われるが、溶解時
には、酸性の反射防止膜剤Ｃとアルカリ性の洗浄液Ｓと
が中和反応を起こすため溶解反応が促進され、付着して
いる反射防止膜剤Ｃを容易に溶解除去することができ
る。したがって、洗浄液として純水を使用する場合に比
較して飛躍的に洗浄時間を短縮することができ、メンテ
ナンスに要する時間が短縮化できて装置の稼働率を向上
させることができる。なお、中和反応時には塩が生じる
が、これは洗浄液Ｓとともに排液ゾーン４ａ1 を通って
ドレインタンク４ａ2 に回収されるので何ら不都合は生
じない。また、ドレインタンク４ａ2 に回収された廃液
は、アルカリ性の洗浄液Ｓと反射防止膜剤Ｃを含む水溶
液であるので、全て水溶液として処理することができ、
溶剤が混ざった廃液に必要な特殊な処理機構を設ける必
要がなく容易に廃液処理を行うことができる。
には、酸性の反射防止膜剤Ｃとアルカリ性の洗浄液Ｓと
が中和反応を起こすため溶解反応が促進され、付着して
いる反射防止膜剤Ｃを容易に溶解除去することができ
る。したがって、洗浄液として純水を使用する場合に比
較して飛躍的に洗浄時間を短縮することができ、メンテ
ナンスに要する時間が短縮化できて装置の稼働率を向上
させることができる。なお、中和反応時には塩が生じる
が、これは洗浄液Ｓとともに排液ゾーン４ａ1 を通って
ドレインタンク４ａ2 に回収されるので何ら不都合は生
じない。また、ドレインタンク４ａ2 に回収された廃液
は、アルカリ性の洗浄液Ｓと反射防止膜剤Ｃを含む水溶
液であるので、全て水溶液として処理することができ、
溶剤が混ざった廃液に必要な特殊な処理機構を設ける必
要がなく容易に廃液処理を行うことができる。
【００３２】なお、上述した塗布装置では、飛散防止カ
ップ４自体に洗浄液供給手段を備えているが、本発明方
法は図４に示すような構成の装置であっても実施可能で
ある。
ップ４自体に洗浄液供給手段を備えているが、本発明方
法は図４に示すような構成の装置であっても実施可能で
ある。
【００３３】すなわち、塗布液供給ノズル５とは別体の
洗浄液供給ノズル３０を備えるとともに、洗浄時にのみ
使用する、スピンチャック１の上部に着脱自在の洗浄治
具４０を備える装置である。
洗浄液供給ノズル３０を備えるとともに、洗浄時にのみ
使用する、スピンチャック１の上部に着脱自在の洗浄治
具４０を備える装置である。
【００３４】洗浄液供給ノズル３０は、供給ポンプ１４
によって圧送された洗浄液タンク１２内のアルカリ性の
現像液を洗浄液Ｓとして、洗浄治具４０の上方からその
中心部に供給する。洗浄治具４０は、円板状の部材で構
成されており、中央部に貯留部４０ａを有するとともに
その外周面には貯留部４０ａに連通する多数の噴射口４
０ｂが形成されている。なお、上記の洗浄液供給ノズル
３０と、洗浄治具４０とが本発明の洗浄液供給手段およ
び供給手段に相当し、上記の洗浄液タンク１２が本発明
の貯留手段に相当する。
によって圧送された洗浄液タンク１２内のアルカリ性の
現像液を洗浄液Ｓとして、洗浄治具４０の上方からその
中心部に供給する。洗浄治具４０は、円板状の部材で構
成されており、中央部に貯留部４０ａを有するとともに
その外周面には貯留部４０ａに連通する多数の噴射口４
０ｂが形成されている。なお、上記の洗浄液供給ノズル
３０と、洗浄治具４０とが本発明の洗浄液供給手段およ
び供給手段に相当し、上記の洗浄液タンク１２が本発明
の貯留手段に相当する。
【００３５】洗浄時には、高速回転されるスピンチャッ
ク１とともに洗浄治具４０が回転し、その遠心力により
貯留部４０ａの洗浄液Ｓが噴射口４０ｂから周囲に勢い
良く噴出する。すると、物理的な衝撃力とともに中和反
応によってさらに効率的に傾斜面４ｂ2 に付着した反射
防止膜剤Ｃを溶解除去することができる。したがって、
上記の塗布装置に比較して洗浄時間をより短縮すること
ができ、さらに装置稼働率を高めることが可能である。
ク１とともに洗浄治具４０が回転し、その遠心力により
貯留部４０ａの洗浄液Ｓが噴射口４０ｂから周囲に勢い
良く噴出する。すると、物理的な衝撃力とともに中和反
応によってさらに効率的に傾斜面４ｂ2 に付着した反射
防止膜剤Ｃを溶解除去することができる。したがって、
上記の塗布装置に比較して洗浄時間をより短縮すること
ができ、さらに装置稼働率を高めることが可能である。
【００３６】なお、上記実施例では、界面活性剤を含ん
だアルカリ性の現像液を洗浄液として採用しているが、
界面活性剤を含まない単なるアルカリ性の水溶液であっ
てもよい。
だアルカリ性の現像液を洗浄液として採用しているが、
界面活性剤を含まない単なるアルカリ性の水溶液であっ
てもよい。
【００３７】また、上記実施例では、フォトレジスト被
膜が被着された基板の表面に反射防止膜剤を塗布するTo
p-ARC を例に採って説明したが、フォトレジスト被膜が
形成されていない基板の表面に反射防止膜剤を塗布する
Bottom-ARCであっても上記のように飛散防止カップの洗
浄を行うことにより同じ効果を奏することは言うまでも
ない。
膜が被着された基板の表面に反射防止膜剤を塗布するTo
p-ARC を例に採って説明したが、フォトレジスト被膜が
形成されていない基板の表面に反射防止膜剤を塗布する
Bottom-ARCであっても上記のように飛散防止カップの洗
浄を行うことにより同じ効果を奏することは言うまでも
ない。
【００３８】また、上記の実施例では、塗布装置に配備
された洗浄液供給手段から洗浄液を供給して飛散防止カ
ップを洗浄する洗浄方法について説明したが、装置から
飛散防止カップを取り外してアルカリ性水溶液に漬けた
り、取り外した飛散防止カップに対してアルカリ性水溶
液を供給して洗浄形態であってもよい。
された洗浄液供給手段から洗浄液を供給して飛散防止カ
ップを洗浄する洗浄方法について説明したが、装置から
飛散防止カップを取り外してアルカリ性水溶液に漬けた
り、取り外した飛散防止カップに対してアルカリ性水溶
液を供給して洗浄形態であってもよい。
【００３９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明方法によれば、酸性の水溶性塗布液に対
してアルカリ性水溶液を洗浄液として供給することによ
って、中和反応により反応が促進され、飛散防止カップ
内面に付着した塗布液を容易に溶解することができる。
したがって、洗浄時間を短縮することができる。さら
に、このとき生じる廃液は、全て水溶液として処理する
ことができるので、廃液処理を容易に行うことができ
る。
１に記載の発明方法によれば、酸性の水溶性塗布液に対
してアルカリ性水溶液を洗浄液として供給することによ
って、中和反応により反応が促進され、飛散防止カップ
内面に付着した塗布液を容易に溶解することができる。
したがって、洗浄時間を短縮することができる。さら
に、このとき生じる廃液は、全て水溶液として処理する
ことができるので、廃液処理を容易に行うことができ
る。
【００４０】また、請求項２に記載の発明方法によれ
ば、洗浄液の表面張力を非常に小さくして飛散防止カッ
プ内面に供給した洗浄液の拡がりを極めて良くすること
ができるので、さらに洗浄効果を高めることができる。
ば、洗浄液の表面張力を非常に小さくして飛散防止カッ
プ内面に供給した洗浄液の拡がりを極めて良くすること
ができるので、さらに洗浄効果を高めることができる。
【００４１】また、請求項３に記載の発明装置によれ
ば、請求項１に記載の発明方法を好適に実施することが
でき、塗布装置の稼働率を向上させることができる。
ば、請求項１に記載の発明方法を好適に実施することが
でき、塗布装置の稼働率を向上させることができる。
【図１】本発明に係る飛散防止カップの洗浄方法を適用
した塗布装置の概略構成を示すブロック図である。
した塗布装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】反射防止膜の形成処理を示す図である。
【図３】飛散防止カップの洗浄処理を示す図である。
【図４】塗布装置の変形例を示すブロック図である。
Ｗ … 基板 １ … スピンチャック ２ … 回転軸 ３ … 電動モータ ４ … 飛散防止カップ ５ … 塗布液供給ノズル ７ … 供給ポンプ ９ … 塗布液タンク １０ … 洗浄液貯留部 １０ａ … 供給孔 １０ｂ … 供給管 １２ … 洗浄液タンク １４ … 供給ポンプ ３０ … 洗浄液供給ノズル ４０ … 洗浄治具 ４０ａ … 貯留部 ４０ｂ … 噴射口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ
Claims (3)
- 【請求項１】 回転支持手段によって支持された基板に
対して塗布液供給手段から酸性の水溶性塗布液を供給し
た際に、前記回転支持手段の周囲に配設されている飛散
防止カップに付着した前記水溶性塗布液の飛沫を洗浄液
により洗浄する飛散防止カップの洗浄方法において、 前記洗浄液をアルカリ性水溶液としたことを特徴とする
飛散防止カップの洗浄方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の飛散防止カップの洗浄
方法において、前記アルカリ性水溶液に界面活性剤を含
ませたことを特徴とする飛散防止カップの洗浄方法。 - 【請求項３】 回転支持手段によって支持された基板に
対して塗布液供給手段から酸性の水溶性塗布液を供給し
た際に、前記回転支持手段の周囲に配設されている飛散
防止カップに付着した前記水溶性塗布液の飛沫を、洗浄
液供給手段から前記飛散防止カップ内面に洗浄液を供給
することによって洗浄可能に構成されている塗布装置に
おいて、 前記洗浄液供給手段を、アルカリ性水溶液を貯留する貯
留手段と、前記飛散防止カップの内面に、前記洗浄液と
して前記アルカリ性水溶液を供給する供給手段とから構
成したことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7141997A JPH10270318A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 飛散防止カップの洗浄方法及び塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7141997A JPH10270318A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 飛散防止カップの洗浄方法及び塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10270318A true JPH10270318A (ja) | 1998-10-09 |
Family
ID=13459984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7141997A Pending JPH10270318A (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 飛散防止カップの洗浄方法及び塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10270318A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003505881A (ja) * | 1999-07-21 | 2003-02-12 | ステアーグ ミクロテヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板を処理するための装置 |
| US10835919B2 (en) | 2018-07-26 | 2020-11-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spin chuck jig and method of lifting spin chuck using the same |
| JP2021027247A (ja) * | 2019-08-07 | 2021-02-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
-
1997
- 1997-03-25 JP JP7141997A patent/JPH10270318A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003505881A (ja) * | 1999-07-21 | 2003-02-12 | ステアーグ ミクロテヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板を処理するための装置 |
| JP4651252B2 (ja) * | 1999-07-21 | 2011-03-16 | アイメック | 基板を処理するための装置 |
| US10835919B2 (en) | 2018-07-26 | 2020-11-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spin chuck jig and method of lifting spin chuck using the same |
| US11958071B2 (en) | 2018-07-26 | 2024-04-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spin chuck jig and method of lifting spin chuck using the same |
| JP2021027247A (ja) * | 2019-08-07 | 2021-02-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
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