JPS6351638A - フオト・エツチングのレジスト塗布回収装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は半導体素子等を製造する際に用いられるフォト
・エッチングのレジストを回収、再使用するためのレジ
スト塗布口収装とに関するものである。

（従来技術とその問題点） ＩＣ，ＬＳＩ等の半導体素子の製造に使用されるレジス
トの多くはレジストスピンナーか用いられる。一般に１
２５ｍｍ角ぐらいの基板にレジストを塗布する場合、基
板中央部に約ｉｃｅのレジストを滴下し１０００〜５０
００ｒｐ−で回転させ、レジストを一様に塗布する。こ
のとき基板から初期に飛散するレジストは液状であり、
その後は霧状となる。液状のものは外側の壁に当り底に
溜るか、設けられている廃液部に誘導されるか、霧状の
ものは壁て固形化したり、飛散中に溶剤が気化しながら
排気管で固形化する。

ところで、従来技術においては、被塗布板に使用された
レジストは滴下したレジストの１％にも満たないので、
その９９％以上か廃液となってしまうという問題かあっ
た。

（問題点を解決するための手段） 本発明は従来技術の問題点を解決し、滴下後に廃液とな
るレジストを純度か保持された状ぶて回収するための装
置を提供しようとするものである。

そして具体的には、回転台に基板をセットし、回転台を
回転させた状態で前記基板にレジストを滴下塗布する装
置において１回転台を開閉自在な蓋を有する回収容器内
に装着し、レジスト塗布作業で飛散するレジストを回収
するようにしたものである。

（作用） 回転台に基板をセットし、基板中央にレジストを滴下す
る。蓋を開けて回転台を回転し、飛散したレジストを回
収容器で集め１回収瓶あるいは供給層に回収し、再使用
する。

蓋は設定時間経過後に自動的に閉まり、回収容器は密閉
され、その間、回転台が回転し続けて塗布作業を行う。

（実施例） 図面は本装置の全体を組立てた構成図てあって１回収容
器ｌはリング状に形成された容器で。

中央の空洞部２に回転台３か設けられている。そして該
回転台３は回収容器１の下方に設置されたモータ４の駆
動軸に直結されていて回転可能になっている。

前記回収容器１は上端部分に閉塞する回収蓋５が設けら
れており、この回収蓋５の裾部分５ａか回収容器１の外
周部分に設こした上下機構６の出力軸７に結合されてい
て、上下機構６の動作によって回収蓋５は回収容器ｌの
開口部を開閉している。

なお、回収蓋５は閉まっているときには回転台３にａｉ
した基板（図示しない）面よりも数ミリ下側に位置し、
開いたときは数ミリ上になるようになっている。又、回
収蓋５は開いたときにレジストが回収容器ｌに誘導され
るように放物線状の内壁５ｂが設けられている。

また、前記回収容器ｌおよび回収蓋５はケース８内に収
容されているか、上方部分は出入口９か形成されていて
、回転台３に対し基板の装着、取出しができるようにな
っている。

ＩＯは回転台３に対してレジストを滴下するためのノズ
ルで、レジストの供給層１１から、ポンプ１２、フィル
タ１３を経由した供給管１４に接続されている。１５は
回収容器１で回収されたレジストを集める回収瓶で回収
管１６によってレジストを回収する。なお、回収管１６
は回収容器１の底部に接続されているか、回収台３１は
レジストを回収しゃすいように内側か傾斜壁１ａに形成
されている。

１７は回収容器ｌで回収されなかったレジストを廃液と
して集める廃液容器で、連管１８によって前記回収容器
ｌから導入している。１９は廃液容器１７に設けた排気
装置、２０はモータ５およびポンプ１２を制御するコン
トローラである。

本発明はレジストの塗布作業において初期に飛散する液
状のレジストのみを回収して再使用するための装置てあ
って、まず、回転台３に基板を真空チャックないしは爪
チャックでセットし、基板中央部にレジストを滴下する
１次に回収蓋５を開け１回転台３を回転させる。すると
液状の飛散レジストは回収蓋５の内壁５ｂに当り、回収
容器ｌに集められるので、この初期の液状レジストを回
収瓶１５に回収する０回収蓋５は設定時間の経過後に自
動的に閉塞され、回収台＄１は密閉される。

実験例１ 回転台にセットした１２７■−角のハートマスクプレー
トにＥＢ用レジストをｉｃｅ滴下し、外周に設けた回収
容器の蓋を開けて回転台を：１１００Ｏｒｐで回転させ
た。そして１秒後に蓋を密閉し、４０秒後に回転を止め
た。このレジスト塗布の作業を１００回繰り返したとこ
ろ、７５ｃｃのレジストが回収された。

回収されたレジストは粘性、成分共に初期のレジストと
ほとんど変化がなかった。

前述したように実施例は回収したレジストを回収瓶１５
に集めるようにしているが、他の実施例では回収容器ｌ
と供給層１１とをバイパス管１６ａを使用して回収され
たレジストを供給層１１に戻すようにすることも可能で
ある。

実験例２ 回収されたレジストを供給層に戻すようにしたシステム
で、ポジ型フォトレジストを塗布した回転台にセットし
たｌ５０ｍｍ丸の基板中央部に１．２ｃｃのレジストを
滴下し、外周に設けた回収容器の蓋を開け、回転台を３
０００ｒｐｍで回転させた。そして１秒後蓋を密閉させ
、３０８″後に回転を止め塗布した。従来の方法ては、
１２０ｃｃて１００枚の塗布枚数であるが、この実験例
では３５０枚の塗布枚数か得られた。

（発明の効果） 本発明は回転台に基板をセットし、回転台を高速で回転
させた状態でレジストを滴下塗布する装置において、回
転台を開閉自在な蓋を有する回収容器内に装着し、レジ
ストの塗布作業で飛散するレジストを回収するようにし
たから、レジストの純度を維持した状態で回収でき、再
使用できることの効果がある。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明袋この全体を組立てた構成図である。 １・・・回収容器　　　　　　１ａ・・・傾斜壁２・・
・空洞部　　　　　　　３・・・回転台４・・・モータ
　　　　　　　５・・・回収蓋５ａ・・・回収蓋の裾　
　　　　５ｂ・・・回収蓋の内壁６・・・上下機構　　
　　　　７・・・出力軸８・・・ケース　　　　　　　
９・・・出入口ｌＯ・・・ノズル　　　　　　　１１・
・・供給瓶１２・・−ポンプ　　　　　　　１３・・・
フィルタ１４・・・供給管　　　　　　　１５・・・回
収瓶１６・・・回収管　　　　　　　１６ａ・・・バイ
パス管１７・・・廃液容器　　　　　　１８・・・連管
１９・・・排気袋ａ　　　　　　　２０・・・コントロ
ーラ特　許　出　願　人　クリーンサアフェイス技術株
式会社代理人　弁理士　中　　　山　　　　　清手続７
市正書（自発） 昭和６１年９月２０日

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 回転台に基板をセットし、回転台を回転させた状態で前
   記基板にレジストを滴下塗布する装置において、回転台
   を開閉自在な蓋を有する回収容器内に装着し、レジスト
   塗布作業で飛散するレジストを回収するようにしたフォ
   ト・エッチングのレジスト塗布回収装置。