JP2000138163A - 液処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板を回転させて液処理を施す際に，処理液
が基板の裏面に回り込んで付着することを防止する液処
理装置を提供する。 【解決手段】 回転カップ４０内のスピンチャック３４
により回転可能なＬＣＤ基板Ｇの表面に，レジスト液を
滴下し，遠心力によってレジスト液を拡散させて均一な
レジスト膜を形成する塗布・周辺部除去装置２７におい
て，ＬＣＤ基板Ｇを全周に渡って囲むトラップ部材６０
が，回収部６１を介在させて，回転カップ４０の底部４
３に固定されている。トラップ部材６０は，ＬＣＤ基板
Ｇと同期して回転する。ＬＣＤ基板Ｇから振り切られた
レジスト液は，ＬＣＤ基板Ｇの裏面に回り込むことな
く，トラップ部材６０に直ちに捉えられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，例えばＬＣＤ基板
や半導体ウェハ等のような基板の表面にレジスト液等の
処理液を拡散させて所定の液処理を施す液処理装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】一般に，液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）の製造工程においては，ＬＣＤ基板の表面に，半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術が用いられている。例えば，ＬＣＤ基板の
表面に対して，レジスト液を塗布してレジスト膜を形成
し，回路パターン等を該レジスト膜に露光し，その後に
現像処理する一連の塗布現像処理が施されている。

【０００３】ここで，ＬＣＤ基板の表面にレジスト液を
塗布してレジスト膜を形成する塗布装置は，ＬＣＤ基板
を収納する回転カップ内に設けられたスピンチャックに
ＬＣＤ基板を真空吸着させ，レジスト液を滴下して，前
記スピンチャックによってＬＣＤ基板を回転させること
により，遠心力によってレジスト液を拡散させて均一な
レジスト膜を形成するようになっている。そして，ＬＣ
Ｄ基板から振り切られたレジスト液は，回転カップの内
壁に付着し，そのまま内壁に沿って回転カップの底部に
向かって流れ落ち，排液経路を経て外部に排液されるよ
うになっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら，従来の
塗布装置では，スピンチャックによってＬＣＤ基板が高
速回転しているので，例えばＬＣＤ基板の長辺の中央部
当たりから振り切られたレジスト液が回転カップの内壁
に達する前に，回転しているＬＣＤ基板の長辺の角部が
該レジスト液に追いついて接触してしまうことがある。
レジスト液が全く塗布されていないＬＣＤ基板の裏面
に，このようなレジスト液が回り込んで付着すると，Ｌ
ＣＤ基板の裏面が汚染される。さらに，ＬＣＤ基板から
振り切られたレジスト液の中には，回転カップの内壁に
当たり跳ね返って，ＬＣＤ基板に付着してしまうものも
ある。これによっても，ＬＣＤ基板の裏面にレジスト液
が回り込んで付着し，ＬＣＤ基板の裏面が汚染される。
このような裏面が汚れた状態で，以後，ＬＣＤ基板に対
して他の処理を続ければ，パーティクル発生の原因にな
り，好ましくない。また，ＬＣＤ基板からそのままレジ
スト液が撒き散らされると，回転カップの洗浄，メンテ
ナスの負担も大きい。

【０００５】また，ＬＣＤ基板の表面にレジスト液を塗
布した後，ＬＣＤ基板の周辺部から不要なレジスト液を
除去する除去処理が行われていることもあるが，レジス
ト液がＬＣＤ基板の裏面に過大に付着していると，除去
処理を行う際の負担が重くなる。

【０００６】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり，所定の液処理を施す時に，処理液が基板の裏
面に回り込んで付着することを防止する液処理装置を提
供して上記問題の解決を図ることを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に，請求項１の発明は，基板を収納する収納容器と，基
板を回転させる回転載置台とを備え，前記回転載置台に
より回転している基板の表面に，遠心力によって処理液
を拡散させて所定の液処理を施す液処理装置であって，
前記基板から振り切られた処理液が前記収納容器の内壁
に達するまでに該処理液を捉えるトラップ部材を有する
ことを特徴とする，液処理装置を提供する。

【０００８】請求項１に記載の液処理装置によれば，所
定の液処理を施す時に，基板から振り切られた処理液を
収納容器の内壁に達する前の段階で，トラップ部材が該
処理液を捉えることができる。従って，例えば先に長辺
の中央部から振り切られた処理液は，基板の角部等が追
いつく前にトラップ部材で捉えることができる。さら
に，基板から振り切られた処理液が収納容器の内壁に当
たって跳ね返り，基板の裏面に回り込んで付着すること
も防止することができる。従って，処理液による基板の
裏面の汚れを低減することができる。また，途中で処理
液を捉えるので，従来よりも収納容器内に処理液が撒き
散らかることを抑えることが可能となる。その結果，裏
面の汚れに起因するパーティクル発生を抑制でき，収納
容器の洗浄，メンテナンスを容易に行うことができるよ
うになる。そして，除去処理を行う際の負担を軽減する
ことができる。なお，除去処理とは，基板の周辺部に付
着した不要な処理液を除去することをいう。

【０００９】前記トラップ部材は，請求項２に記載した
ように，前記基板の周縁部を所定の間隔をもって囲む形
態であって，前記基板の回転と同期して回転するのが好
ましい。かかる構成によれば，トラップ部材は，基板の
周縁部を所定の間隔をもって囲む形態なので，基板を全
周に渡って包囲することができる。さらに，トラップ部
材は，基板の回転と同期して回転するため，所定の液処
理を施す間も，所定の間隔を保ちながら基板と一体とな
って回転することができる。これにより，トラップ部材
は，基板から振り切られた処理液を漏れなく捉えること
ができる。しかも，トラップ部材は，基板から振り切ら
れた処理液に基板の長辺の角部等が追いつく前に先にこ
れを捉えることができる。

【００１０】請求項３に記載したように，前記トラップ
部材の上面は，前記回転載置台に載置された基板の表面
よりも高い位置にあれば，トラップ部材は，基板から振
り切られた処理液を確実に捉えることができる。

【００１１】請求項４に記載したように，前記基板と向
き合うトラップ部材の内側面は，上縁から下方にいくに
したがって前記基板の周縁部から離隔するように傾斜す
るようにしてもよい。かかる構成によれば，基板から振
り切れた処理液は，トラップ部材の内側面に衝突し，ト
ラップ部材に捉えられる。そして，捉えられた処理液
は，内側面の傾斜に沿ってトラップ部材の下方に流れ落
ちる。この場合，内側面は上縁から下方にいくにしたが
ってＬＣＤ基板Ｇの周縁部から離隔するように傾斜して
いるので，トラップ部材は，捉えた処理液を下方に容易
に案内することができると共に，基板から次第に離れた
ところへと案内することができる。

【００１２】さらに，請求項５に記載したように，前記
捉えた処理液を前記トラップ部材の下方で回収する回収
部と，回収した処理液を外部に排出する排液手段とを有
しているようにしてもよい。かかる構成によれば，トラ
ップ部材の下方に流れ落ちた処理液は，回収手段によっ
て回収された後，排液手段を通して外部に排液される。

【００１３】請求項６に記載したように，前記収納容器
内の処理液を外部に排出する他の排液手段を有していて
もよい。かかる構成によれば，他の排液手段によって，
収納容器内の処理液を排液するので，収納容器内に処理
液が溜まらない。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下，添付図面を参照しながら本
発明の実施の形態を説明する。図１は，ＬＣＤ基板Ｇに
対して塗布現像処理を施す塗布現像処理装置１の斜視図
を示し，図２は塗布現像処理装置１の平面図を示してい
る。この塗布現像処理装置１は，本実施の形態にかかる
塗布・周辺部除去装置２７を備えている。

【００１５】塗布現像処理装置１は図１，２に示すよう
に，例えば矩形状のＬＣＤ基板Ｇを搬入出するローダ部
２と，ＬＣＤ基板Ｇを処理する第１の処理部３と，この
第１の処理部３とインターフェイス部４とを介して連設
された第２の処理部５と，この第２の処理部５と例えば
露光装置（図示せず）との間でＬＣＤ基板Ｇを授受する
ためのインターフェイス部７から構成されている。

【００１６】ローダ部２にはカセット載置台１０が設け
られており，このカセット載置台１０には，例えば未処
理のＬＣＤ基板Ｇを収納するカセット１１，１１と，処
理済みのＬＣＤ基板Ｇが収納されるカセット１２，１２
とが載置されている。またローダ部２には，ＬＣＤ基板
Ｇを搬送する副搬送装置１３が備えられている。この副
搬送装置１３は搬送レール１３ａに沿った方向（Ｙ方
向）と，各カセット１１，１２内のＬＣＤ基板Ｇの収納
方向（Ｚ方向）に移動自在であり，かつθ方向にも回転
自在となるように構成されている。

【００１７】第１の処理部３には，ＬＣＤ基板Ｇを搬送
する主搬送装置１５が備えられている。この主搬送装置
１５は搬送レール１６に沿って移動し，搬送アーム１５
ａを用いて各種の処理装置にＬＣＤ基板Ｇを搬入出する
ように構成されている。搬送レール１６の一側には，Ｌ
ＣＤ基板Ｇを洗浄するスクラバ洗浄装置１７と，ＬＣＤ
基板Ｇに対して現像処理を施す現像処理装置１８とが並
んで配置され，搬送レール１６の他側には紫外線オゾン
洗浄装置１９と，ＬＣＤ基板Ｇを冷却処理する冷却処理
装置２０，２１と，ＬＣＤ基板Ｇを加熱処理する加熱処
理装置２２とが多段に配置されている。インターフェイ
ス部４には，ＬＣＤ基板Ｇを載置自在な受け渡し台２３
が備えられている。

【００１８】第２の処理部５には，搬送アーム２５ａを
装備した主搬送装置２５が備えられている。そして，主
搬送装置２５の搬送レール２６の一側に，塗布・周辺部
除去装置２７が配置され，搬送レール２６の他側には，
ＬＣＤ基板Ｇに疎水化処理を施す疎水化処理装置２８
と，ＬＣＤ基板Ｇを冷却する冷却処理装置２９と，加熱
処理装置３０，３０とが多段に配置されている。

【００１９】インターフェイス部７には，ＬＣＤ基板Ｇ
を一時的に収納して待機させるカセット３１，３１と，
ＬＣＤ基板Ｇを載置自在な受け渡し台３２と，各カセッ
ト３１，３１，受け渡し台３２，露光装置（図示せず）
に対してＬＣＤ基板Ｇを搬送自在な副搬送装置３３とが
装備されている。

【００２０】塗布現像処理装置１は以上のように構成さ
れている。次に，塗布現像処理装置１に組み込まれた塗
布・周辺部除去装置２７について説明する。

【００２１】図３は，塗布・周辺部除去装置２７の内部
の様子を示す平面図であり，図４は，図３中のＡ−Ａ線
断面図である。図３に示すように，塗布・周辺部除去装
置２７の内部には，ＬＣＤ基板Ｇの表面にレジスト液を
塗布してレジスト膜を形成する塗布装置３４と，ＬＣＤ
基板Ｇの周辺部に形成された不要なレジスト膜を除去す
る周辺部除去装置３５とが隣接配置されている。なお，
塗布装置３４及び周辺部除去装置３５との間のＬＣＤ基
板Ｇの搬送は，塗布・周辺部除去装置２７内に設けられ
た搬送機構（図示せず）により行われる。

【００２２】図４に示すように，塗布装置３４は，ＬＣ
Ｄ基板Ｇを収納する収納容器としての回転カップ４０
と，ＬＣＤ基板Ｇを真空吸着した状態で回転させるスピ
ンチャック４１とを備えている。

【００２３】回転カップ４０は，スピンチャック４１を
包囲するようにカップ状に形成され，回転カップ４０と
スピンチャック４１との間の空隙は，例えばＯリング等
のシール部材４２で密閉されている。回転カップ４０の
内部には，回転カップ４０の底部４３と，回転カップ４
０の内壁４４と，回転カップ４０の上面開口部を開放・
閉鎖する蓋体４５とで囲まれた処理室４６が形成されて
いる。

【００２４】蓋体４５の中心部には管体４８がベアリン
グ４９を介して取り付けられており，この管体４８によ
って，ＬＣＤ基板Ｇに対してレジスト液やレジスト液の
溶剤を供給することができるように構成されており，か
つ回転カップ４０の内壁４４にレジスト液の溶剤を噴射
可能に構成されている。そして，蓋体４５は，昇降機構
（図示せず）に接続されており，この昇降機構の駆動に
より昇降自在に構成されている。

【００２５】スピンチャック４１の下部にはバキューム
シール部５０を介して昇降シリンダ５１と連結する回転
軸５２が接続されている。回転軸５２にはスプライン軸
受５３，５４が上下に装着されており，回転軸５２の外
周面及びスプライン軸受５３，５４の内周面には回転軸
５２の長さ方向に沿って溝（図示せず）が設けられてい
る。回転軸５２の外方には，スプライン軸受５３，５４
を介して環状の回転内筒５５が配置されている。回転内
筒５５には従動プーリ５６が装着されており，この従動
プーリ５６には，駆動モータ５７に設けられた駆動プー
リ５８によって駆動されるベルト５９が掛け渡されてい
る。従って，昇降シリンダ５１の稼働より，回転内筒５
５を静止した状態に保ちながらスピンチャック４１が昇
降可能となり，さらに駆動モータ５７の駆動により，回
転内筒５５と一体となってスピンチャック４１が回転す
るように構成されている。

【００２６】回転カップ４０の底部４３は，連結筒７０
の上端と接続しており，この連結筒７０の下端は環状の
回転外筒７１の上端と接続している。回転外筒７１はベ
アリング７２を介して環状の固定軸７３に接続されてお
り，固定軸７３の内方にはベアリング７４を介して，前
述した回転内筒５５が配置されている。そして，回転外
筒７１には従動プーリ７７が装着されており，この従動
プーリ７７には，駆動モータ５７に設けられた駆動プー
リ７８によって駆動されるベルト７９が掛け渡されてい
る。従って，スピンチャック４１と回転カップ４０とは
いずれも，駆動モータ５７が共通の駆動源となり，駆動
モータ５７からの回転力は等しくスピンチャック４１と
回転カップ４０とに伝達されるようなっている。

【００２７】こうして，図５に示すように，スピンチャ
ック４１によってＬＣＤ基板Ｇが真空吸着されることに
より，回転カップ４０内にＬＣＤ基板Ｇが収納され，蓋
体４５によって回転カップ４０の上面開口部が閉鎖され
ることにより，処理室４６が密封された状態になる。そ
して，管体４８からレジスト液が滴下され，スピンチャ
ック４１によってＬＣＤ基板Ｇを回転させることによ
り，遠心力によってレジスト液を拡散させて均一なレジ
スト膜がＬＣＤ基板Ｇの表面に形成されるようになって
いる。

【００２８】ここで，ＬＣＤ基板Ｇから振り切られたレ
ジスト液が回転カップ４０の内壁４４に達するまでにこ
の振り切られたレジスト液を捉えるトラップ部材６０
が，後述の回収部６１を介在させて，回転カップ４０の
底部４３に固定されている。

【００２９】図６に示すように，トラップ部材６０は，
全体として円板形状であって，中央にＬＣＤ基板Ｇに対
応した矩形状の開口部６２を有し，ＬＣＤ基板Ｇの周辺
部を所定の間隔をもって囲む形態となっている。即ち，
図３及び図４に示すように，この開口部６２を介して前
述したようにＬＣＤ基板Ｇをスピンチャック４１に載置
させることにより，ＬＣＤ基板Ｇと向き合うトラップ部
材６０の内側面６３が，所定の間隔として隙間６４をお
いて，ＬＣＤ基板Ｇの周辺部に接近した状態となる。さ
らに，前述したように回転カップ４０は，駆動モータ５
７によって回転駆動されるので，回収部６１を介して回
転カップ４０の底部４３に固定されたトラップ部材６０
は，ＬＣＤ基板Ｇと同期して回転する。従って，レジス
ト液を塗布している間は，隙間６４を保ちながら，トラ
ップ部材６０とＬＣＤ基板Ｇとはお互いに接触すること
なく，一体となって回転するようになっている。

【００３０】図５に示すように，トラップ部材６０の上
面８０は，スピンチャック４１に載置されたＬＣＤ基板
Ｇの表面よりも高い位置にある。そして，ＬＣＤ基板Ｇ
と向き合うトラップ部材６０の内側面６３は，上縁から
下方にいくにしたがってＬＣＤ基板Ｇの周縁部から離隔
するように傾斜している。

【００３１】図６に示すように，捉えたレジスト液をト
ラップ部材６０の下方で回収する回収部６１は，トラッ
プ部材６０と同様に全体として円板形状であって，中央
に前記開口部６２より大きい相似形の開口部８１を有し
ている。回収部６１にトラップ部材６０が支持された際
には，図３に示すように，開口部６２の辺と開口部８１
の辺とが平行にならないように，回収部６１はトラップ
部材６０を支持している。回収部６１には，回収したレ
ジスト液を外部に排出する排液経路８２，８２，８２，
８２が四ヶ所設けられ，これら排液経路８２，８２，８
２，８２の入口は，開口部８１の四隅にそれぞれ開口し
ている。

【００３２】回転カップ４０の底部４３には，回転カッ
プ４０の内壁４４に付着したレジスト液を外部に排出す
る他の排液手段としての排出口８３が設けられている。
回収部６１から排出されたレジスト液は，この排出口８
３から環状のドレインカップ８４に排出されるようにな
っている。また，内壁４４の上部には，給気口（図示せ
ず）が適宜設けられており，図２に示すように，蓋体４
５によって処理室４６が密閉されると，前記給気口から
処理室４６内にエアが供給され，この供給されたエアも
前記排気口８３から環状のドレインカップ８４に排出さ
れるようになっている。

【００３３】ドレインカップ８４は，回転カップ４０の
周囲に配置されており，内部には環状路８５が設けられ
ている。環状路８５はドレンカップ８４の底部８６から
起立する壁８７と，ドレンカップ８４の天井部８８から
垂下する壁８９とで迂回状に区画されており，壁８７と
壁８９との間に位置する底部８６には，適宜の間隔をお
いて周方向にドレン孔９０が形成されている。従って，
排出口８３から排出されたレジスト液は，ドレンカップ
８４の底部８６に沿って流れた後，ドレン孔９０から排
液されることになり，一方，ドレンカップ８４内に入り
込んだレジスト液のミストは，壁８９や壁８７に衝突し
て気液分離され，液体はドレン孔９０から排液され，気
体はドレンカップ８４の外周壁に設けられた排気口９１
から排気される。

【００３４】本発明の実施の形態にかかる塗布・周辺部
除去装置２７は以上のように構成されている。次に，塗
布・周辺部除去装置２７の作用，効果について説明す
る。

【００３５】先ず，副搬送装置１３によってカセット１
１から取り出されたＬＣＤ基板Ｇは，主搬送装置１５に
受け渡され，以後所定のレシピに従い，主搬送装置１５
によって，紫外線オゾン洗浄装置１９，スクラバ洗浄装
置１７に順次搬送される。これらの装置にて所定の処理
が施された後，受け渡し台２３を介して，主搬送装置２
５に受け渡される。そして，疎水化処理装置２８に搬送
されて，所定の疎水化処理が施された後，ＬＣＤ基板Ｇ
は塗布・周辺部除去装置２７に搬送される。

【００３６】ＬＣＤ基板Ｇは，まず塗布装置３４に搬入
され，スピンチャック４１に受け渡されて回転カップ４
０内に収容される。その後，蓋体４５によって回転カッ
プ４０が密閉され，駆動モータ５７が駆動し始める。ス
ピンチャック４１により回転しているＬＣＤ基板Ｇの表
面に，管体４８からレジスト液が滴下され，このＬＣＤ
基板Ｇは，例えば１５００ｒｐｍの回転数に達するまで
回転させられる。遠心力によってレジスト液がＬＣＤ基
板Ｇの周辺部まで拡散され，ＬＣＤ基板Ｇの表面に均一
な膜厚のレジスト膜が形成される。

【００３７】レジスト液を塗布している間，高速回転し
ているＬＣＤ基板Ｇの周辺部からレジスト液が振り切ら
れることなるが，ＬＣＤ基板Ｇの長辺の中央部当たりか
ら振り切られたレジスト液に対して，該レジスト液が未
だ飛散中に，高速回転しているＬＣＤ基板Ｇの長辺の角
部等が追いついて接触し，この接触したレジスト液がＬ
ＣＤ基板Ｇに裏面に回り込んで付着して汚すおそれがあ
る。さらに，ＬＣＤ基板Ｇの角部等が飛散中のレジスト
液に追いつかない場合でも，ＬＣＤ基板Ｇから振り切ら
れて勢いのあるレジスト液が回転カップ４０の内壁４４
にまで達すれば，そのまま内壁４４から跳ね返り，同様
にＬＣＤ基板Ｇに裏面に回り込んで付着して汚すおそれ
がある。しかしながら，本実施の形態によれば，ＬＣＤ
基板Ｇから振り切られたレジスト液が回転カップ４０の
内壁４４に達するまでに，この振り切られたレジスト液
を捉えるトラップ部材６０を有するため，レジスト液が
ＬＣＤ基板Ｇの裏面に回り込んで付着することを防止す
ることができる。

【００３８】即ち，ＬＣＤ基板Ｇから振り切れたレジス
ト液は，トラップ部材６０の内側面６３に衝突し，トラ
ップ部材６０に捉えられる。そして，捉えられたレジス
ト液は，内側面６３の傾斜に沿ってトラップ部材６０の
下方に流れ落ち，回収部６１に回収されることになる。
この場合，内側面６３は上縁から下方にいくにしたがっ
てＬＣＤ基板Ｇの周辺部から離隔するように傾斜してい
るので，トラップ部材６０は，捉えたレジスト液を回収
部６１に容易に案内することができる。しかも，ＬＣＤ
基板から離れたところに案内するので，ＬＣＤ基板Ｇの
裏面に回り込まない。

【００３９】塗布処理の間は，もちろん回収部６１も回
転することになるので，開口部６２に対してずれた位置
にある開口部８１では，回収されたレジスト液が，遠心
力によって開口部８１の四隅に容易に集まるようにな
る。そして，開口部８１の四隅に集められたレジスト液
は，排液経路８２を通って回収部６１から円滑に排液さ
れる。その後，排出口８３を通ってドレインカップ８４
に流入し，ドレン孔９０から排液される。このように，
排出口８３によって，回転カップ４０内のレジスト液を
排液するので，回転カップ４０内にレジスト液が溜まら
ない。

【００４０】ここで，トラップ部材６０は，開口部６２
にＬＣＤ基板Ｇを位置させて，ＬＣＤ基板Ｇの周辺部を
隙間６４をおいて囲む形態なので，ＬＣＤ基板Ｇを全周
に渡って包囲することができる。さらに，トラップ部材
６０は，ＬＣＤ基板Ｇの回転と同期して回転するため，
レジスト液を塗布してレジスト膜を形成している間も，
隙間６４を保ちながらＬＣＤ基板Ｇと一体になって回転
することができる。これにより，トラップ部材６０は，
ＬＣＤ基板Ｇから振り切られたレジスト液を漏れなく捉
えることができる。しかも，ＬＣＤ基板Ｇから振り切ら
れたレジスト液をトラップ部材６０が先に捉えることが
でき，従来のようなＬＣＤ基板Ｇの長辺の角部等に未だ
飛散中のレジスト液が接触する事態を回避することがで
きる。そして，トラップ部材６０の上面８０は，スピン
チャック４１に載置されたＬＣＤ基板Ｇの表面よりも高
い位置にあるので，トラップ部材６０は，ＬＣＤ基板Ｇ
から振り切られたレジスト液を確実に捉えることができ
る。

【００４１】ＬＣＤ基板Ｇの表面に均一な膜厚でレジス
ト膜を形成した後，回転カップ４０からＬＣＤ基板Ｇを
取り出し，搬送機構（図示せず）で，このＬＣＤ基板Ｇ
を塗布装置３４から周辺部除去装置３５まで搬送する。
この周辺部除去装置３５で，ＬＣＤ基板Ｇの周辺部の不
要なレジスト液が除去されることになるが，前述したよ
うに，ＬＣＤ基板Ｇから振り切られたレジスト液は，ト
ラップ部材６０によって直ちに捉えられるので，ＬＣＤ
基板Ｇの裏面の周縁部辺りには殆ど不要なレジスト液が
付着しない。従って，周辺部除去装置３５の作業負担を
軽減することができる。

【００４２】この周辺部除去装置３５で周辺部の不要な
レジスト膜が除去されたＬＣＤ基板Ｇは，塗布・周辺部
除去装置２７から搬出される。その後，加熱処理装置３
０に搬送されて所定の加熱処理が施され，以後一連の塗
布現像処理が順次なされて行く。

【００４３】かくして，本実施の形態にかかる塗布・周
辺部除去装置２７にあっては，レジスト液を塗布してレ
ジスト膜を形成する時に，ＬＣＤ基板Ｇから振り切られ
たレジスト液を回転カップ４０の内壁４４に達する前の
段階で，トラップ部材６０がレジスト液を先に捉えるこ
とができるので，ＬＣＤ基板から振り切られたレジスト
液に対して高速回転しているＬＣＤ基板Ｇの長辺の角部
等が追いついて付着してしまう事態や，振り切られたレ
ジスト液が回転カップ４０の内壁４４に当たって跳ね返
る事態を回避して，レジスト液がＬＣＤ基板Ｇの裏面に
回り込んで付着することを防止することができる。従っ
て，ＬＣＤ基板Ｇの裏面の汚れを低減することができ
る。また，途中でレジスト液を捉えるので，従来よりも
回転カップ４０内にレジスト液が撒き散らかることを抑
えることが可能となる。その結果，ＬＣＤ基板Ｇの裏面
の汚れに起因するパーティクル発生を抑制でき，回転カ
ップ４０の洗浄，メンテナンスを容易に行うことができ
る。さらに，周辺部除去装置３５の作業負担を軽減する
ことができる。

【００４４】なお，本発明は，上記実施の形態に限定さ
れるものではなく，例えば，基板に半導体ウェハ等を用
いることも可能である。また，本発明の作用効果，即
ち，基板の裏面の汚れを低減することに着目すれば，単
なるレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する装置だ
けでなく，例えば現像液を基板に供給する装置に対して
本発明を応用することもできる。

【００４５】

【発明の効果】請求項１に記載の液処理装置によれば，
所定の液処理を施す時に，処理液が基板の裏面に回り込
んで付着することを防止することができる。従って，処
理液による基板の裏面の汚れを低減することができる。
また，途中で処理液を捉えるので，従来よりも収納容器
内に処理液が撒き散らかることを抑えることが可能とな
る。その結果，基板の裏面の汚れに起因するパーティク
ル発生を抑制でき，収納容器の洗浄，メンテナンスを容
易に行うことができるようになる。さらに，基板の周縁
部の除去処理を行う際の負担を軽減することができる。

【００４６】特に請求項２に記載の発明によれば，トラ
ップ部材は，基板から振り切られた処理液を漏れなく捉
えることができる。しかも，トラップ部材は，振り切ら
れた処理液を基板の長辺の角部等よりも先に捉えること
ができる。請求項３に記載の発明によれば，トラップ部
材は，処理液を確実に捉えることができる。そして，請
求項４に記載の発明によれば，捉えた処理液をトラップ
部材の下方に容易に流し落とすことができ，請求項５に
記載の発明によれば，この流れ落ちた処理液を，外部に
排出することができる。また，請求項６に記載の発明に
よれば，収納容器内に処理液が溜まらない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態にかかる塗布・周辺部除去
装置を備えた塗布現像処理装置の斜視図である。

【図２】図１の塗布現像処理装置の平面図である。

【図３】本発明の実施の形態にかかる塗布・周辺部除去
装置の内部の様子を示す平面図である。

【図４】図３中のＡ−Ａ線断面図である。

【図５】ＬＣＤ基板から振り切られたレジスト液が捉え
られて排出される様子を示す説明図である。

【図６】トラップ部材及び回収部の斜視図である。

【符号の説明】

１ 塗布現像処理装置 ２７ 塗布・周辺部除去装置 ３４ 塗布装置 ３５ 周辺部除去装置 ４０ 回転カップ ４１ スピンチャック ４４ 内壁 ６０ トラップ部材 ６１ 回収部 ６３ 内側面 ６４ 隙間 ８０ 上面 ８２ 排液経路 ８３ 排出口 Ｇ ＬＣＤ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AB16 AB17 EA05 4D075 AC64 AC84 AC93 CA48 DA08 DB14 DC22 EA45 4F042 AA07 BA08 CC01 CC09 EB29 5F046 CD01 JA06 JA08 JA22 LA02

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を収納する収納容器と，基板を回転
   させる回転載置台とを備え，前記回転載置台により回転
   している基板の表面に，遠心力によって処理液を拡散さ
   せて所定の液処理を施す液処理装置であって，前記基板
   から振り切られた処理液が前記収納容器の内壁に達する
   までに該処理液を捉えるトラップ部材を有することを特
   徴とする，液処理装置。
2. 【請求項２】 前記トラップ部材は，前記基板の周縁部
   を所定の間隔をもって囲む形態であって，前記基板の回
   転と同期して回転することを特徴とする，請求項１に記
   載の液処理装置。
3. 【請求項３】 前記トラップ部材の上面は，前記回転載
   置台に載置された基板の表面よりも高い位置にあること
   を特徴とする，請求項１又は２に記載の液処理装置。
4. 【請求項４】 前記基板と向き合うトラップ部材の内側
   面は，上縁から下方にいくにしたがって前記基板の周縁
   部から離隔するように傾斜していることを特徴とする，
   請求項３に記載の液処理装置。
5. 【請求項５】 前記捉えた処理液を前記トラップ部材の
   下方で回収する回収部と，回収した処理液を外部に排出
   する排液手段とを有していることを特徴とする，請求項
   １，２，３又は４に記載の液処理装置。
6. 【請求項６】 前記収納容器内の処理液を外部に排出す
   る他の排液手段を有することを特徴とする，請求項１，
   ２，３，４又は５に記載の液処理装置。