KR100696739B1

KR100696739B1 - 기판처리장치

Info

Publication number: KR100696739B1
Application number: KR1020010017343A
Authority: KR
Inventors: 가와구치요시히로; 미야자키가즈히토; 야히로순이치
Original assignee: 동경 엘렉트론 주식회사
Priority date: 2000-04-03
Filing date: 2001-04-02
Publication date: 2007-03-19
Also published as: KR20010095230A; TW504734B

Abstract

외 컵의 내벽에는, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 외 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 1의 안내부재로서의 핀(fin)이 설치되어 있다. 마찬가지로, 내 컵의 내벽에도, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 내 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 3 의 안내부재로서의 핀이 설치되어 있다. 또, 외 컵 및 내 컵 하부에는, 외 컵 하부측과 내 컵 하부측을 걸치도록 하여 핀이 기립벽에 고정되어 있다. 이에 의해, 컵 내에서 비산된 미스트(mist)가 기판에 재부착되는 것을 방지할 수 있다.

Description

기판처리장치{SUBSTRATE PROCESS APPARATUS}

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태와 관련된 도포현상처리시스템을 나타내는 평면도,

도 2는 도 1에 나타낸 도포현상처리시스템에 있어서의 처리순서를 나타내는 플로우 차트(flow chart),

도 3은 본 발명의 하나의 실시형태와 관련된 현상처리장치의 정면도,

도 4는 도 3에 나타낸 현상처리장치의 평면도,

도 5는 도 3에 나타낸 현상처리장치의 일부확대사시도(그 1),

도 6은 도 3에 나타낸 현상처리장치의 일부확대사시도(그 2),

도 7은 도 3에 나타낸 현상처리장치의 동작을 설명하기 위한 개략정면도(그 1),

도 8은 도 3에 나타낸 현상처리장치의 동작을 설명하기 위한 개략정면도(그 2),

도 9는 본 발명의 다른 실시형태에 관련된 현상처리장치의 개략정면도,

도 10은 본 발명의 또 다른 실시형태에 관련된 현상처리장치의 개략정면도,

도 11은 본 발명의 또 하나의 다른 실시형태에 관련된 현상처리장치의 개략정면도,

도 12는 본 발명에 있어서의 컵의 다른 구성예를 나타내는 도,

도 13은 본 발명에 있어서의 컵의 또 다른 구성예를 나타내는 도,

도 14는 본 발명에 있어서의 컵의 또 하나의 다른 구성예를 나타내는 도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

51 : 현상처리장치 54 : 스핀척(spin chuck)

57 : 외 컵 58 : 내 컵

66 : 배기구 67 : 배기 펌프

69 : 배액구 70 : 드레인구(drain口)

81 : 현상액 토출기구 82 : 세정기구

93 : 핀(제 1의 안내부재) 94 : 핀(제 3의 안내부재)

95 : 핀(제 2의 안내부재)

본 발명은, 예를 들어 액정표시장치에 사용되는 유리기판등의 기판을 회전시키면서 당해 기판 상에 현상액을 공급하여 현상처리를 행하는 현상처리장치등에 적 용되는 기판처리장치에 관한 것이다.

일반적으로, 액정표시장치의 제조공정에 있어서는, 유리기판의 표면에 예를 들어 ITO(Indium Tin Oxide)의 박막이나 회로 패턴을 형성시키기 위하여 반도체 제조공정의 경우와 마찬가지의 포토리소그래피(photo-lithography) 기술이 이용된다. 이 경우, 예를 들어 레지스트 도포처리에 의해 유리기판의 표면에 레지스트가 도포되고, 노광처리에 의해 유리기판 상의 레지스트에 회로패턴이 노광된 후, 현상처리에 의해 레지스트에 노광된 회로패턴이 현상된다.

상기의 현상처리는, 예를 들어 스핀척 상에 유리기판을 재치하여, 회전시키면서 유리기판 상에 현상액을 동일하게 공급하는 현상처리장치에 의해 행하여진다. 그리고, 이들을 컵 내에 수용하여 처리를 행함으로써 처리액이 비산하는 것을 방지하고 있다.

그러나, 상기의 일련의 처리에 있어서는 현상처리 후에 린스세정처리가 필요하기 때문에, 현상처리장치 내에 세정기구를 조합시킨 구성의 장치가 알려져 있다. 이러한 장치에서는, 예를 들어 컵을 내외의 2중 구조로 하고, 현상시에는 내 컵에 의해 현상액을 회수하고, 세정시에는 외 컵에 의해 린스액을 회수함으로써, 현상액을 재이용하고 있다. 그리고, 세정 후에 유리기판을 고속으로 회전시킴에 의해 액을 떨어뜨림으로써 건조를 행하고 있다. 이들 공정에 있어서는, 현상액을 포함하는 미스트가 비산하여 유리기판에 재부착하여, 다음의 공정에 악영향을 끼칠 우려가 있다. 이 때문에, 예를 들어 내 컵 하부에 배기구를 설치하여, 컵내의 분위기를 배기구를 통해 배출하는 것이 행하여지고 있다.

그러나, 상기와 같이 컵 내의 분위기를 배기구로부터 배출하는 구성에서는, 배기가 불충분하여, 미스트의 비산에 의한 유리기판으로의 재부착을 방지할 수 없다고 하는 문제가 있다. 특히, 컵을 내외의 2중 구조로 하면, 외 컵측의 배기가 불충분하게 되는 일이 많다.

본 발명의 목적은 컵 내에서 비산된 미스트가 기판에 재부착하는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 기판처리장치는, 기판을 유지하여 회전시키는 유지·회전기구와, 상기 유지된 기판 상으로부터 소정의 처리용의 액을 공급하는 액공급기구와, 기판 둘레가장자리를 따라 승강(昇降)이 가능하도록 배치되고 아래쪽으로 통기구가 설치된 내 컵과, 상기 내 컵의 둘레가장자리를 따라 배치된 외 컵과, 상기 외 컵의 내벽에 설치되어, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 외 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 1의 안내부재와, 상기 제 1의 안내부재에 의해 안내된 분위기를 상기 통기구를 통해 상기 내 컵의 안으로 안내하는 제 2의 안내부재와, 상기 내 컵의 안을 배기하는 배기수단을 구비한다.

본 발명에서는, 컵 내의 분위기가 제 1의 안내부재 및 제 2의 안내부재에 의해 안내되어 배기수단에 의해 배기되기 때문에, 컵 내에서 비산된 미스트가 기판에 재부착하는 것을 방지할 수 있다.

본 발명의 기판처리장치는, 기판을 유지하여 회전시키는 유지·회전기구와, 상기 유지된 기판 상으로부터 소정의 처리용의 액을 공급하는 액공급기구와, 상기 유지된 기판의 둘레가장자리를 따라 설치된 컵과, 상기 컵의 내벽에 설치되어, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 안내부재와, 상기 안내부재를 세정하는 세정수단을 구비한다.

본 발명의 기판처리장치는, 기판을 유지하여 회전시키는 유지·회전기구와, 상기 유지된 기판 상으로부터 소정의 처리용의 액을 공급하는 액공급기구와, 상기 유지된 기판의 둘레가장자리를 따라 설치된 컵과, 상기 컵의 내벽에 설치되어, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 안내부재를 구비하고, 상기 컵이 기초부와, 상기 안내부재가 설치되어 상기 기초부에 대하여 착탈이 가능한 착탈부로 분리되어 있다.

본 발명의 기판처리장치는, 기판을 유지하여 회전시키는 유지·회전기구와, 상기 유지된 기판 상으로부터 소정의 처리용의 액을 공급하는 액공급기구와, 상기 유지된 기판의 둘레가장자리를 따라 설치된 컵과, 상기 컵의 내벽에 설치되어, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 안내부재를 구비하고, 상기 안내부재는, 상기 컵의 내벽에 대하여 45°전후의 각도를 이루고 있고, 또 상기 컵의 내벽 위쪽으로부터 아래쪽을 향하여 기울어진 판상부재를 상기 컵 안둘레를 따라 소정의 간격으로 배치시킨 것이고, 또 상기 안내부재는, 인접하는 복수의 상기 판상부재를 갖추는 복수의 블록(block)으로 분할되고, 또 상기 각 블록은, 상기 컵과의 사이에서 착탈이 가능하도록 되어 있다.

[실시예]

이하, 본 발명의 실시형태를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명한다.

본 발명의 하나의 실시형태를, 도 1에 나타낸 LCD에 사용되는 유리기판(이하, 기판으로 함)의 도포현상처리시스템(1)에 적용시킨 경우를 예를 들어 설명한다.

이 도포현상처리시스템(1)은 기판(G)에 대하여 레지스트액을 도포한 후, 노광장치(EXP)(2)로 일단 건네주고, 이 노광장치(2)에 의해 노광처리된 후의 기판을 다시 건네 받아 현상처리를 행하는 것이다.

이와 같은 일련의 처리를 행하기 위하여, 이 도포현상처리시스템(1)은, 기판(G)의 로딩(loading) 및 언로딩(unloading)을 행하기 위한 로더(loader)/언로더(unloader)부(L/UL)(3)와, 기판세정처리를 행하기 위한 제 1 프로세스부(4)와, 레지스트액의 도포(코팅) 및 둘레가장자리 레지스트 제거처리를 행하기 위한 제 2 프로세스부(5)와, 현상처리를 행하기 위한 제 3 프로세스부(6)와, 노광장치(2)와의 사이에서 기판의 주고받기를 행하기 위한 인터페이스부(Interface)(I/F)(7)를 갖추고 있다.

로더/언로더부(3)는 카세트 재치대(10) 및 반송부(C/S)(11)를 갖추고 있다. 카세트 재치대(10) 상에는 2 종류의 카세트(C1)(C2)가 재치되어 있다. 예를 들어, 제 1의 카세트(C1)에는 처리 전의 기판(G)이 수납되고, 제 2의 카세트(C2)에는 처리후의 기판(G)이 수납된다.

또, 반송부(11)에는, 제 1의 서브아암(sub arm)기구(13)가 설치되어 있다. 이 제 1의 서브아암기구(13)는 기판을 유지할 수 있는 예를 들어 아암(14)을 갖추고, 이 아암을 선회, 진퇴 및 상하 이동시킴으로써, 제 1의 카세트(C1)에 수납된 기판을 꺼내어 제 1의 프로세스부(4)측으로 건네줄 수 있도록 되어 있다. 덧붙여 설명하면, 모든 처리가 종료된 기판은 이 제 1의 서브아암기구(13)의 의해, 예를 들어 제 1의 프로세스부(4)측으로부터 제 2의 카세트(C2)로 수납된다.

상기 제 1의 프로세스부(4)는 상기 제 1의 서브아암기구(13)로부터 기판을 건네 받은 제 1의 메인아암기구(15)를 갖춘다. 이 메인아암기구(15)는, Y방향을 따라 연이어 설치된 제 1의 중앙반송로(16) 상을 주행하는 베이스(base)(17)와, 이 베이스(17) 상에서 선회, 진퇴, 상하구동되는, 예를 들어 아암(18)을 구비한다.

이 제 1의 메인아암기구(15)의 측방에는, 중앙반송로(16)를 따라, 예를 들어 브러시 스크러버(brush scrubber)에 의해 구성되는 2개의 세정부(SCR)(19), 예를 들어 핫플레이트를 갖추는 가열/가열부(HP/HP)(20), 자외선 세정장치에 의해 구성되는 건식세정부(UV)(21), 및 예를 들어 쿨링플레이트(cooling plate)를 갖추는 냉각부(COL)(22)가 각각 설치되어 있다.

여기서, 「가열/가열부(HP/HP)」의 표기는, 핫 플레이트를 갖추는 가열부가, 예를 들어 상하 2단으로 적층되어 설치되어 있는 것을 나타내고 있다.(이하 동일). 또, 도 내에서, 가열부를 나타내는 HP 및 냉각부를 나타내는 COL의 뒤에 첨부되는 숫자(「HP1」 이나 「COL1」등)는, 가열처리 또는 냉각처리의 종류 또는 순서를 나타내고 있다.

상기 제 1의 메인아암기구(15)는 상기 로더/언로더부(3)로부터 건네 받은 기판을 각 처리부(19∼20)로 삽입하여 필요한 처리를 행한 후, 이 기판을 꺼내어 차례로 다른 처리부(19∼20) 또는 제 2의 프로세스부(5)로 반송하도록 되어 있다.

한편, 제 2의 프로세스부(5)는 Y방향을 따라 연이어 설치된 제 2의 중앙반송로(23)상을 주행하는 제 2의 메인아암기구(24)를 구비한다. 이 제 2의 메인아암기구(24)는 상기 제 1의 메인아암기구(15)와 마찬가지로 구성된 베이스(25) 및 아암(26)을 갖춘다.

또, 이 제 2의 메인아암기구(24)의 측방에는, 기판에 대하여 레지스트의 도포를 행함과 동시에 둘레가장자리부의 불필요한 레지스트를 제거하는 레지스트 도포·주변레지스트제거부(CT/ER)(28)와, 기판표면의 소수화처리를 행하기 위한 어드히젼(adhesion)/냉각부(AD/COL)(29)와, 가열/가열부(HP/HP)(30), 가열/냉각부(HP/COL)(31)가 배치되어 있다.

상기 제 2의 메인아암기구(24)는 상기 제 1의 프로세스부(4)로부터 건네 받은 기판을 각 처리부(28∼31)로 삽입하여 필요한 처리를 행한 후, 이 기판을 꺼내어 차례로 다른 처리부(28∼31) 또는 제 3의 프로세스부(6)측으로 반송하도록 되어 있다.

제 3의 프로세스부(6)는 Y방향을 따라 연이어 설치된 제 3의 중앙반송로(33) 상을 주행하는 제 3의 메인아암기구(34)를 구비한다. 이 제 3의 메인아암기구(34)는 상기 제 1, 제 2의 메인아암기구(15,24)와 마찬가지로 구성된 베이스(35) 및 아암 (36)을 갖춘다.

이 제 3의 메인아암기구(34)의 측방에는, 노광처리 후의 기판(G)을 현상처리하기 위한 3개의 현상처리부(DEV)(38)와, 타이틀링(titling)을 행하는 타이틀러 (TITLER)(39)와, 가열/가열부(HP/HP)(40)와, 가열/냉각부(HP/COL)(41)가 배치되어 있다.

상기 제 3의 메인아암기구(34)는 상기 제 2의 프로세스부(5)로부터 건네 받은 레지스트액 도포종료의 기판을 인터페이스부(7)를 통해 노광장치(2)측으로 이송함과 함께, 상기 노광종료의 기판을 인터페이스부(7)를 통해 노광장치(2)측으로부터 건네받는다. 그리고, 이 노광종료의 기판을 각 처리부(38∼41)로 삽입하여 필요한 처리를 행하게 한 후, 이 기판을 꺼내어 차례로 다른 처리부 (38∼41) 또는 제 2의 프로세스부(5)측으로 반송하도록 되어 있다.

또한, 이 도에 나타낸 바와 같이, 제 1, 제 2, 제 3의 프로세스부(4,5,6) 사이에는 냉각부(COL)(42,43)가 설치되어 있다. 이들 냉각부(42,43)는 처리중의 기판을 일시적으로 대기시키기 위한 것이다.

다음, 상기와 같이 구성되는 도포현상처리시스템(1)에 있어서의 처리순서를 도 2의 플로우 차트를 참조하면서 설명한다.

먼저, 상기 재치대(10) 상의 제 1의 카세트(C1) 내에 수납된 미처리의 기판은, 상기 로더/언로더부(3)로부터 상기 반송부(C/S)(11)를 통해 제 1 의 프로세스부(4)의 제 1의 메인아암기구(15)로 건네어진다(스텝 S1, S2). 다음, 이 기판은 건식세정장치(UV)(21)에 의해 자외선세정되어(스텝 S3), 그 후 상기 냉각부 (22)에 의해 제 1의 냉각(COL1)이 행하여진다(스텝 S4).

다음, 상기 습식세정장치(19)에 의해 브러시세정(SCR)이 행하여지면, 상기 가열부(20)에 의한 제 1의 가열처리(HP1)에 의해 가열건조된 후(스텝 S6), 상기 냉각부(22)에 의한 제 2의 냉각처리에 의해 냉각된다(스텝 S7), 그 후, 이 기판은 제 1의 메인아암기구(15)로부터 제 2의 프로세스부(5)의 제 2의 메인아암기구(24)로 건네어진다.

제 2의 프로세스부로 건네어진 기판은, 어드히젼(adhesion)처리부(29)에 의해 표면의 소수화처리(AD)가 행하여진 후(스텝 S8), 제 3의 냉각처리(COL3)가 행하여진다(스텝 S9). 다음, 소수화처리 후의 기판은 레지스트액 도포·둘레가장자리 레지스트제거부(28)로 도입되어 레지스트도포(CT) 및 기판둘레가장자리의 불필요한 레지스트액의 제거(ER)가 행하여진다.

이와 같이 처리된 기판은 상기 가열부(30,31)로 삽입되어, 베이킹(baking)처리(HP2)가 행하여진다(스텝 S11). 이에 의해, 기판에 도포된 레지스트액에 포함되는 용제를 휘발시킨다. 다음, 이 기판을 냉각부에 삽입하여, 대략 실온으로까지 냉각(COL4)시킨다(스텝 S12). 그 후, 이 기판은 상기 제 2의 메인아암기구(24)로부터 제 3의 메인아암기구(34)를 통해 인터페이스부(7)로 반송되어, 노광장치(2)로 건네어진다(스텝 S13). 그리고, 이 노광장치(2)에서 노광처리(EXP)가 행하여진다(스텝).

노광처리가 행하여진 기판은 상기 인터페이스부(7), 제 3의 메인아암기구 (34)를 통해 타이틀러(39)로 삽입되어 타이틀링처리가 행하여진다(스텝 S15).

그 후, 기판은 현상처리부(38)로 도입되어, 현상처리(DEV)가 행하여진다(스텝 S16). 이 현상처리부(38)는 예를 들어 기판 상에 현상액을 공급하면서 기판을 회전시킴으로써 현상을 행하고, 린스액으로 현상액을 씻어낸 후, 회전에 의해 떨쳐 떨어뜨림으로써 건조를 행한다.

마지막으로 이 기판은 이 기판에 대향하는 가열/가열부(40) 또는 가열/냉각부(41)로 삽입되어, 제 3의 가열처리(HP3)에 의해 가열건조된 후(스텝 S17), 제 5의 냉각처리(COL5)에 의해 냉각된다(스텝 S18).

이상의 모든 처리가 종료된 기판은 상기 제 3의 메인아암기구(34)로부터, 상기 제 2 , 제 1의 메인아암기구(24,15)를 통해 상기 반송부(11)(C/S)에 설치된 제 1의 서브아암기구(13)로 건네어진다(스텝 S19). 그리고, 이 제 1의 서브아암기구(13)에 의해 상기 로더/언로더부(3)에 재치된 제 2의 카세트(C2)내로 수용된다(스텝 S20).

도 3 및 도 4는 상기의 현상처리부(DEV)(38)에 있어서의 현상처리장치의 구성을 나타내는 도이고, 도 3은 이 현상처리장치를 정면으로부터 본 일부단면도, 도 4는 그 평면도이다.

현상처리장치(51)의 중심부에는, 구동모터(52)에 의해 회전이 가능하고 또 승강실린더(53)에 의해 상하로 이동이 가능하도록 구성된 스픽척(54)이 설치되어 있다. 이 스핀척(54)의 상면은 진공흡착등에 의해 기판(G)을 수평상태로 흡착하여 유지하도록 구성되어 있다. 또, 구동모터(52)와 승강실린더(53)와의 사이에는, 스토퍼(stopper)로서의 볼베어링(ball bearing)(55)이 끼어 삽입되어 있다. 즉, 승 강실린더(53)에 의해 스핀척(54)이 하강할 때에 구동모터(52)의 하부가 볼베어링 (55)의 상면에 부딪혀, 스핀척(54)이 이 이하로 하강하지 않도록 되어 있다.

이 스핀척(54)의 아래쪽에는 하용기(下容器)(56)가 배치되어 있다. 또, 스핀척(54)의 외주를 둘러싸듯이 외 컵(57)이 배치되고, 하용기(56)와 외 컵(57) 사이에는 내 컵(58)이 배치되어 있다.

외 컵(57)과 내 컵(58)은 연결부재(59)에 의해 연결되고, 이들 외 컵(57) 및 내 컵(58)은 제어부(60)의 지령에 의거하여 승강실린더(61)에 의해 승강되도록 되어 있다. 외 컵(57) 및 내 컵(58)의 상부는 각각 위로 감에 따라 좁아지도록 내측으로 경사되어 설치되어 있다. 이 경사는 예를 들어 수평면에 대하여 30°정도로 되어 있다. 이와 같이 수평면에 대하여 좁은 각도로 함으로써 배기효과를 높일 수 있다. 또, 이들 외 컵(57) 및 내 컵(58)의 표면에는 테프론(Teflon) 코팅처리가 행하여져 있다. 이에 의해, 발수성이 향상되어, 컵에 더러워짐을 방지할 수 있다. 외 컵(57)의 상단개구부의 직경은 내 컵(58)의 상단개구부의 직경보다 크고, 또 이들 상단개구부의 직경은 기판(G)을 수평상태로 컵내에서 하강시켜 수용할 수 있는 크기로 형성되어 있다.

하용기(56)는 중심부로부터 바깥을 향하여 아래방향으로 경사된 경사부(62)와, 그 외주에 배치된 받음접시부(63)를 갖추고 있다. 받음접시부(63)의 저면에는 통상의 기립벽(起立壁)(64)이 설치되어 있고, 기립벽(64)은 외 컵(57)과 내 컵(58) 사이에 개재된다. 또, 내 컵(58)의 경사부는 기립벽(64)을 넘어 기립벽(64)의 외주에 연재되어 있다. 이에 의해, 내 컵(58)의 경사부를 흐르는 유체는 받음접시부 (63)의 기립벽(64)에 의해 칸막이된 외측실(65)로 흐르도록 되어 있다.

하용기(56)의 경사부(62) 이면측에는, 컵내를 배기시키기 위한 배기구(66)가 설치되어 있고, 배기구(66)에는 배기펌프(67)가 접속되어 있다. 받음접시부(63)의 기립벽(64)에 의해 칸막이된 내측실(68)의 하부에는 배액구(69)가 형성되어 있고, 외측실(65)의 하부에는 드레인구(70)가 형성되어 있다. 그리고, 배액구(69)에는 회수관(71)을 통해, 사용이 종료된 현상액을 재생처리하는 재생처리기구 (72)가 접속되어 있다. 재생처리기구(72)는, 기액을 분리하는 기액분리기구(73)와 사용이 종료된 현상액 중의 불순물을 제거하는 불순물제거기구(74)로 구성되어, 현상액 수용탱크(75)에 접속되어 있다. 드레인구(70)는 회수탱크(도시 안됨)에 접속되어 있다.

컵 상부의 한쪽측에는 기판(G)의 표면에 대하여 현상액을 토출하기 위한 현상액 토출기구(81)가 배치되고, 다른쪽측에는 기판(G)의 표면에 대하여 린스액을 토출하기 위한 세정기구(82)가 배치되어 있다. 또, 도 4에 나타낸 바와 같이, 컵 상부의 앞쪽 및 배후에는 반송용 레일(83,84)이 설치되어 있다. 현상액 토출기구 (81)에는 반송용 모터(85)가 설치되어 있어, 제어부(60)에 의한 제어에 의거한 반송모터(85)의 구동에 의해 현상액 토출기구(81)가 반송용 레일(83,84)을 따라 컵내 상부로 반송되도록 되어 있다. 그리고, 이 현상액 토출기구(81)에는, 제어부(60)의 제어에 의거하여, 펌프(85)를 통해 현상액 수용탱크(75)에 의해 현상액이 공급된다. 도, 현상액 토출기구(81)에는, 수평방향으로 배치된 유지봉(도시 안됨)에 복수의 현상액 토출노즐(86)이 설치되어 있다.

세정기구(82)에는 제어부(60)의 제어에 의거하여, 펌프(87)를 통해 린스액 탱크(88)로부터 린스액(예를 들어 순수)가 공급된다. 이 세정기구(82)는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 회전구동부(89)에 연결되어, 기초단부(90)를 중심으로 하여 회동이 자유롭도록 설치된 지지아암(91)과, 이 지지아암(91)의 일단에 지지된 린스액 토출노즐(92)을 갖추고 있다. 지지아암(91)은 제어부(60)의 제어에 의해, 회전구동부(89)가 구동하여 기초단부(90)를 중심으로 하여 회동하여, 린스액 토출노즐(92)을 기판(G)의 거의 중심에 대응하는 부위로 위치시켜, 린스액 토출노즐 (92)로부터 린스액의 토출이 행하여지도록 되어 있다.

외 컵(57)의 내 벽(57)에는 회전하는 기판(G)의 원심력에 의해 비산된 분위기를 외 컵(57)의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 1의 안내부재로서의 핀(93)이 설치되어 있다. 핀(93)은 도 5에 나타낸 바와 같이, 외 컵(57)의 안둘레를 따라, 예를 들어 등간격으로 32개가 설치되어 있다. 각 핀 (93)은 연직방향에 대하여 소정의 각도θ, 예를 들어 30°∼60°정도, 보다 바람직하게는 45°정도 기울어져 있다. 이에 의해, 기판(G)이 도 5 내의 화살표①방향으로 회전하였을 때에, 도 5 내의 화살표 ②방향으로 나타낸 내벽아래쪽에 기류가 발생하여, 이들 부근의 분위기를 외 컵(57)의 내벽아래쪽으로 안내하도록 되어 있다. 이들 핀(93)은 예를 들어 SUS등으로 구성되어 있거나, 또는 테프론 코팅처리가 행하여짐으로써 미스트의 부착이 방지되도록 되어 있다. 덧붙여 설명하면, 핀(93)이 수지재료에 의한 것이어도 물론 상관없다.

마찬가지로, 내 컵(58)의 내벽에도, 회전하는 기판(G)의 원심력에 의해 비산된 분위기를 내 컵(58) 아래쪽으로 안내하는 제 3의 안내부재로서의 핀(94)이 설치되어 있다. 핀(94)에 관하여도, 예를 들어 상기의 핀(93)과 마찬가지의 구성으로 되어 있다.

또, 도 6에 나타낸 바와 같이, 외 컵(57) 및 내 컵(58)의 하부에는, 외 컵 (57) 하부측과 내 컵(58) 하부측을 걸치도록 하여 핀(95)이 기립벽(64)에 고정되어 있다. 핀(95)도 상기의 핀(93,94)과 마찬가지로, 연직방향에 대하여 소정의 각도θ, 예를 들어 30°∼60°정도, 보다 바람직하게는 45°정도의 각도로 되어 있다. 이에 의해, 도 6내의 화살표 ①로 나타낸 바와 같이, 핀(93)에 의해 외 컵(57) 상부로부터 하부에 걸쳐 안내된 분위기가, 이들 핀(95)을 통해 내 컵(58)의 내측, 즉 배기구(66)로 안내되도록 되어 있다. 마찬가지로 도 6 내의 화살표 ②로 나타낸 바와 같이, 핀(94)에 의해 내 컵(58) 상부로부터 하부에 걸쳐 안내된 분위기도 핀(95)을 통해 내 컵(58)의 내측, 즉 배기구(66)로 안내되도록 되어 있다. 또, 핀(95)도 상기와 마찬가지로 SUS등으로 구성되거나, 또는 테프론 코팅처리가 행하여짐으로써 미스트의 부착이 방지되도록 되어 있다.

다음, 이와 같이 구성된 현상처리장치(51)의 동작에 관하여 설명한다.

현상처리장치(51)내로 반입되어 스핀척(54)에 의해 유지된 기판(G)은 하강되고, 도 7에 나타낸 바와 같이 외 컵(57) 및 내 컵(58)은 가장 높은 위치로까지 상승되고, 현상액 토출기구(81)는 기판의 중심부근으로 반송되어 정지한다. 그리고, 스핀척(54)에 의해 유지된 기판(G)이 회전되고, 현상액 토출기구(81)의 현상액 토출노즐(86)에 의해 이 기판(G)에 대하여 현상액이 토출된다. 또, 기판(G)의 외주로부터 비산되는 현상액은 내 컵(58)의 내측에 부딪혀 배액구(69)에 의해 회수되어 재이용된다. 그때, 내 컵(58) 안에서 발생된 미스트는 핀(94,95)를 통해 내 컵(58)의 내측, 즉 배기구(66)로 안내된다. 이에 의해, 상기의 미스트가 기판에 부착하는 것을 방지할 수 있다. 덧붙여 설명하면, 그 때에 펌프(67)의 배기압을 높이도록 제어하면, 효과적으로 미스트를 배기하는 것이 가능하다. 또, 현상액 공급시의 스핀척(54)의 회전수는 후술하는 린스시의 스핀척(54) 회전수보다 늦게 하는 것이 바람직하다. 현상액을 공급하는 때에 있어서의 미스트의 발생이 많기 때문에, 이것을 억제할 수 있기 때문이다.

다음, 도 8에 나타낸 바와 같이, 스핀척(54)에 의해 유지된 유리기판(G)은 하강되고, 외 컵(57) 및 내 컵(58)은 가장 낮은 위치로까지 하강된다. 그리고, 스핀척(54)에 의해 유지된 기판(G)이 정지상태로 되고, 세정기구(82)를 구성하는 지지아암(91)이 회동하여, 린스액 토출노즐(92)이 기판(G)의 중앙부근으로 배치된다. 다음, 스핀척(54)에 의해 유지된 기판(G)이 회전되고, 린스액 토출노즐(92)로부터 기판(G)에 대하여 린스액(순수)가 공급된다. 이때, 기판(G)의 외주로부터 비산되는 린스액은 내 컵(58)과 외 컵(57) 사이를 통하여 드레인구(70)로부터 폐기된다. 또, 외 컵(57) 내에서 발생된 미스트는 핀(93,94)을 통해 내 컵(58)의 내측, 즉 배기구(66)로 안내된다. 이에 의해, 상기의 미스트가 기판(G)에 부착하는 것을 방지할 수 있다.

린스액의 공급이 종료되면, 지지아암(91)이 기판(G)의 중심부분으로부터 상기의 역방향으로 회동하여, 린스액 토출노즐(92)이 컵 외로 반송된다. 그리고, 스핀척(54)에 의해 유지된 기판(G)이 고속으로 회전되어 원심력에 의한 건조가 행하여진다. 외 컵(57) 안에서 발생한 미스트는 마찬가지로 핀(93, 95)를 통해 내 컵(58)의 내측, 즉 배기구(66)로 안내된다. 이에 의해, 상기의 미스트가 기판 (G)에 부착하는 것을 방지할 수 있다. 본 실시형태에서는, 특히 안내부재를 핀에 의해 구성시킴으로써, 회전에 의한 건조시에 있어서의 미스트 부착을 유효하게 방지할 수 있다. 기판(G)의 고속회전에 동반되어 핀(93, 95)에 의한 기류의 안내효과가 높아지기 때문이다.

본 발명자등이 이와 같은 핀(93, 94, 95)을 설치한 현상처리장치와 핀을 갖추지 않은 현상처리장치에 있어서의 기판(G)에 부착된 미스트의 수를 비교한 결과, 핀(93, 94, 95)이 설치된 현상처리장치가, 미스트의 수가 5분의 1 이하로 저감되어 있는 것이 확인되었다.

다음, 본 발명의 다른 실시형태에 관하여 설명한다.

이 실시형태에서는, 도 9에 나타낸 바와 같이, 외 컵(101)을 기초부(102)와 핀(93)이 설치되어 기초부(102)에 대하여 착탈이 가능한 착탈부(103)로 분리한 것이다. 이와 같이 구성함으로써, 핀(93)이 설치된 착탈부(103)을 기초부(102)로부터 벗겨내어 착탈부(103)에 설치된 핀(93)의 세정을 용이하게 행하는 것이 가능하게 된다. 제 3의 안내부재가 설치된 내 컵에 관하여도 마찬가지로 구성하여도 좋다.

다음, 본 발명의 또 다른 실시형태에 관하여 설명한다.

이 실시형태에서는, 도 10에 나타낸 바와 같이, 제 1의 안내부재(111)를, 인 접하는 복수의 핀(93)을 갖추는 복수의 블록(113)으로 분할하여, 각 블록(113)을 외 컵(112)과의 사이에서 착탈이 가능하도록 한 것이다. 이와 같이 구성함으로서, 핀(93)이 설치된 블록(113)을 외 컵(112)으로부터 벗겨내어 각 핀(93)의 세정을 용이하게 행하는 것이 가능하게 된다. 제 3의 안내부재가 설치된 내 컵에 관하여도 마찬가지로 구성하여도 좋다.

다음, 본 발명의 또 다른 실시형태에 관하여 설명한다.

이 실시형태는, 도 11에 나타낸 바와 같이, 예를 들어 린스시에 스핀척에 유지된 기판(G)의 이면을 향하여 린스액을 공급함과 동시에, 핀(93, 95)에 린스액을 공급하는 백린스(back rinse)기구(121)를 갖추게 한 것이다. 백린스기구(121)는 린스액을 토출하는 린스액 토출노즐(122)을 갖춤과 동시에, 린스액 토출노즐(122)을 회동시켜 린스액의 토출방향을 바꾸는 회동기구(123)를 갖추고 있다. 이에 의해, 전용의 설비를 갖출 필요없이, 핀(93, 95)의 세정을 행할 수 있다.

다음, 본 발명의 또 하나의 다른 실시형태를 설명한다.

상술한 실시형태에서는, 현상액 공급시에 외 컵(57) 및 내 컵(58)이 가장 높은 위치로까지 상승되고, 내 컵(58)에 의해 현상액을 회수하고, 그 후의 린스시에는 외 컵(57) 및 내 컵(58)이 가장 낮은 위치로까지 하강되고, 외 컵(57)에 의해 린스액을 회수함으로써, 즉 현상액과 린스액을 각각 다른 계통으로 회수함으로써 현상액만을 재이용하는 것이었지만, 이 실시형태에서는, 도 7에 나타낸 상태, 즉 외 컵(57) 및 내 컵(58)이 가장 높은 위치로까지 상승된 상태에서 현상액 공급 및 린스의 공급을 행하여, 내 컵(58)에 의해 현상액 및 린스액의 양쪽을 회수하려고 하는 것이다. 이에 의해, 내 컵(58)이 항상 기판(G) 위쪽의 영역에 위치함으로써, 기판(G) 위쪽 영역을 비상하는 미스트를 내 컵(58)에 의해 효과적으로 제거할 수 있다.

또, 이와 같은 미스트의 비상은 스핀척(54)의 회전수에 의존하기 때문에, 스핀척(54)의 회전수를 따라 외 컵(57) 및 내 컵(58)을 승강시켜도 좋다. 즉, 현상액 및 린스액의 회전건조시에는 스핀척(54)이 저속으로 회전되지만, 이 때에 외 컵 (57) 및 내 컵(58)은 낮은 위치로까지 하강되고, 외 컵(57)에 의해 액의 회수가 행하여진다. 한편, 그 외에 있어서는 스핀척(54)은 고속으로 회전되지만, 이 때에 외 컵(57) 및 내 컵(58)은 높은 위치로까지 상승되고, 미스트의 대부분은 내 컵 (58)에 의해 회수되고, 이에 덧붙여 외 컵(57)에 의해 비상된 미스트의 회수가 행하여진다.

덧붙여 설명하면, 본 발명은 상술한 실시형태에 한정되지 않는다.

예를 들어, 도 12에 나타낸 바와 같이, 외 컵(57)의 경사면의 정부로부터 아래쪽의 표면을 향하여 세정액을 토출하는 세정액 토출노즐(151)을 설치하여도 좋다. 이에 의해, 컵의 약액에 의한 더러움을 방지할 수 있다. 또한, 내 컵(58)에 관하여도 마찬가지의 구성으로 하여도 좋다.

또, 도 13에 나타낸 바와 같이, 외 컵(57) 상부(57a)와 하부(57b) 사이에 절연재료(57c), 예를 들어 수지재료를 개재시켜, 그 부근에 이온방전장치(152)를 배치하도록 하여도 좋다. 이에 의해, 외 컵(57)의 상부(57a)에 정전기가 대전되어, 이 정전기에 의해 미스트를 외 컵(57)에 부착시켜 회수하는 것이 가능하게 된다. 또한, 내 컵(58)에 관하여도 마찬가지의 구성으로 하여도 좋다.

또, 외 컵(57) 및 내 컵(58)의 구조는 도 14에 나타낸 바와 같이, 경사부 (153)를 아치(arch)형의 구조로 하여도 상관없다. 이에 의해, 컵의 높이를 보다 낮게 하여도 미스트등의 회수 능력이 없어지는 것이 아니기 때문에, 컵의 소형화를 꾀하는 것이 가능하게 된다.

또, 상술한 실시형태는, 유리기판을 현상처리하는 현상처리장치에 본 발명을 적용시킨 것이었지만, 예를 들어 유리기판을 회전시키면서 세정등을 행하는 다른 장치에도 본 발명을 적용시킬 수 있다. 또, 처리대상은 유리기판뿐만이 아니고, 반도체웨이퍼등의 타 기판에도 당연히 본 발명을 적용할 수 있다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 컵내에서 비산된 미스트가 기판에 재흡착하는 것을 방지할 수 있다.

Claims

기판을 유지하여 회전시키는 유지·회전기구와,

상기 유지된 기판의 위로부터 소정의 처리용의 액을 공급하는 액공급기구와,

기판 둘레가장자리를 따라 승강이 가능하도록 배치되고, 아래쪽에 통기구가 설치된 내(內)컵과,

상기 내 컵의 둘레가장자리를 따라 배치된 외(外)컵과,

상기 외 컵의 내벽에 설치되어, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산(飛散)된 분위기(雰圍氣)를 상기 외 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 1의 안내부재와,

상기 제 1의 안내부재에 의해 안내된 상기 분위기를 상기 통기구를 통해 상기 내 컵 안으로 안내하는 제 2의 안내부재와,

상기 내 컵 안을 배기하는 배기수단을 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 내 컵의 내벽에 설치되어, 회전하는 상기 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 상기 내 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 제 3의 안내부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 내 컵에서 회수된 액을 회수하기 위한 제 1의 회수부와,

상기 외 컵에서 회수된 액을 회수하기 위한 제 2의 회수부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 제 1의 안내부재가, 상기 외 컵의 내벽에 대하여 45°전후의 각도를 이루고, 또, 상기 외 컵의 내벽 위쪽으로부터 아래쪽을 향하여 기울어진 판상부재를, 상기 외 컵의 안둘레를 따라 소정의 간격으로 배치하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 4 항에 있어서,

상기 외 컵은 기초부와, 상기 제 1의 안내부재가 설치되어 상기 기초부에 대하여 착탈이 가능한 착탈부로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 4 항에 있어서,

상기 제 1의 안내부재는 인접하는 복수의 상기 판상부재를 구비한 복수의 블록으로 분할되고, 또 상기 각 블록은 상기 외 컵과의 사이에서 착탈이 가능하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 액공급기구를 통해 상기 제 1의 안내부재에 린스액을 공급하는 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 유지된 기판의 이면을 향하여 린스액을 공급하는 것과 함께, 상기 제 1의 안내부재에 상기 린스액을 공급하는 백(back)린스기구를 더욱 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 내 컵과 상기 외 컵을 일체적으로 승강구동시키는 승강구동기구를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 9 항에 있어서,

상기 유지·회전기구에 의한 기판의 회전수에 따라, 상기 내 컵과 상기 외 컵이 승강하도록 제어하는 제어부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 1 항에 있어서,

상기 액공급기구에 의해 상기 기판에 액이 공급되고 있을 때에는, 상기 기판이 상기 내 컵 안에 항상 수용되고 있는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
기판을 유지하여 회전시키는 유지·회전기구와,

상기 유지된 기판의 위로부터 소정의 처리용의 액을 공급하는 액공급기구와,

상기 유지된 기판의 둘레가장자리를 따라 설치된 컵과,

상기 컵의 내벽에 설치되고, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 안내부재와,

상기 안내부재를 세정하는 세정수단을 구비하는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 12 항에 있어서,

상기 안내부재가, 상기 컵의 내벽에 대하여 45°전후의 각도를 이루고, 또 상기 컵의 내벽 위쪽으로부터 아래쪽을 향하여 기울어진 판상부재를, 상기 컵의 안둘레를 따라 소정의 간격으로 배치시킨 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 12 항에 있어서,

상기 세정수단은, 상기 액공급기구를 통해 상기 안내부재에 린스액을 공급하는 것임을 특징으로 하는, 기판처리장치.
제 12 항에 있어서,

상기 세정수단은 상기 유지된 기판의 이면을 향하여 린스액을 공급함과 함께, 상기 안내부재에 린스액을 공급하는 백 린스기구인 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
기판을 유지하여 회전시키는 유지·회전기구와,

상기 유지된 기판의 위로부터 소정의 처리용의 액을 공급하는 액공급기구와,

상기 유지된 기판의 둘레가장자리를 따라 설치된 컵과,

상기 컵의 내벽에 설치되고, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 컵의 내벽 아래쪽으로 안내하는 안내부재를 구비하고,

상기 컵이 기초부와, 상기 안내부재가 설치되어 상기 기초부에 대하여 착탈이 가능한 착탈부로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.
기판을 유지하여 회전시키는 유지·회전기구와,

상기 유지된 기판의 위로부터 소정의 처리용의 액을 공급하는 액공급기구와,

상기 유지된 기판의 둘레가장자리를 따라 설치된 컵과,

상기 컵의 내벽에 설치되어, 회전하는 기판의 원심력에 의해 비산된 분위기를 컵 내벽 아래쪽으로 안내하는 안내부재를 구비하고,

상기 안내부재는 상기 컵의 내벽에 대하여 45°전후의 각도를 이루고, 또 상기 컵의 내벽 위쪽으로부터 아래쪽을 향하여 기울어진 판상부재를, 상기 컵의 안둘레를 따라 소정의 간격으로 배치한 것이고,

또, 상기 안내부재는 인접하는 복수의 상기 판상부재를 갖추는 복수의 블록으로 분할되고, 또 상기 각 블록은 상기 컵과의 사이에서 착탈이 가능하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는, 기판처리장치.