JP2001351857A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カップ内で飛散したミストが基板に再付着す
ることを防止できる基板処理装置を提供すること。 【解決手段】 外カップ５７の内壁には、回転する基板
Ｇの遠心力によって飛散した雰囲気を外カップ５７の内
壁下方に案内する第１の案内部材としてのフィン９３が
設けられている。同様に、内カップ５８の内壁にも、回
転する基板Ｇの遠心力によって飛散した雰囲気を内カッ
プ５８の内壁下方に案内する第３の案内部材としてのフ
ィン９４が設けられているまた、外カップ５７及び内カ
ップ５８の下部には、外カップ５７下部側と内カップ５
８下部側とを跨ぐようにしてフィン９５が起立壁６４に
固定されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶表示装
置に使われるガラス基板等の基板を回転させながら該基
板上に現像液を供給して現像処理を行う現像処理装置等
に適用される基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示装置の製造工程におい
ては、ガラス基板の表面に例えばＩＴＯ（Indium Tin O
xide）の薄膜や回路パターンを形成するために、半導体
製造工程の場合と同様のフォトリソグラフィ技術が利用
される。この場合、例えば、レジスト塗布処理によって
ガラス基板の表面にレジストが塗布され、露光処理によ
ってガラス基板上のレジストに回路パターンが露光さ
れ、現像処理によってレジストに露光された回路パター
ンが現像される。

【０００３】上記の現像処理は、例えばスピンチャック
上にガラス基板を載置し、回転させながらガラス基板上
に現像液を一様に供給する現像処理装置によって行われ
ている。そして、これらをカップ内に収容して処理を行
うことで処理液が飛散するのを防止している。

【０００４】ところで、上記の一連の処理においては、
現像処理の後にリンス洗浄処理が必要であることから、
現像処理装置内に洗浄機構を組み込んだ構成の装置が知
られている。このような装置では、例えばカップを内外
２重構造とし、現像時には内カップによって現像液を回
収し、洗浄時には外カップによってリンス液を回収する
ことで、現像液を再利用している。そして、洗浄後にガ
ラス基板を高速回転することで振り切り乾燥を行ってい
る。これらの工程において、現像液を含んだミストが飛
散してガラス基板に再付着し、後の工程に悪影響を及ぼ
すおそれがある。そのため、例えば内カップ下部に排気
口を設け、カップ内の雰囲気を排気口を介して排出する
ことが行われている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなカップ内の雰囲気を排気口から排気するような構
成では、排気が不充分で、ミストの飛散によるガラス基
板への再付着を防止できない、という問題がある。特
に、カップを内外２重構造とすると、外カップ側の排気
が不充分になることが多い。

【０００６】本発明の目的は、カップ内で飛散したミス
トが基板に再付着することを防止できる基板処理装置を
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の基板処理装置は、基板を保持して回転する
保持・回転機構と、前記保持された基板の上から所定の
処理用の液を供給する液供給機構と、基板の周囲に沿っ
て昇降可能に配置され、下方に通気口が設けられた内カ
ップと、前記内カップの周囲に沿って配置された外カッ
プと、前記外カップの内壁に設けられ、回転する基板の
遠心力によって飛散した雰囲気を外カップの内壁下方に
案内する第１の案内部材と、前記第１の案内部材によっ
て案内された雰囲気を前記通気口を介して前記内カップ
内に案内する第２の案内部材と、前記内カップ内を排気
する排気手段とを具備する。

【０００８】本発明では、カップ内の雰囲気が第１の案
内部材及び第２の案内部材によって案内されて排気手段
により排気されるので、カップ内で飛散したミストが基
板に再付着することを防止できる。

【０００９】本発明の基板処理装置は、基板を保持して
回転する保持・回転機構と、前記保持された基板の上か
ら所定の処理用の液を供給する液供給機構と、前記保持
された基板の周囲に沿って設けられたカップと、前記カ
ップの内壁に設けられ、回転する基板の遠心力によって
飛散した雰囲気をカップの内壁下方に案内する案内部材
と、前記案内部材を洗浄する洗浄手段とを具備する。

【００１０】本発明の基板処理装置は、基板を保持して
回転する保持・回転機構と、前記保持された基板の上か
ら所定の処理用の液を供給する液供給機構と、前記保持
された基板の周囲に沿って設けられたカップと、前記カ
ップの内壁に設けられ、回転する基板の遠心力によって
飛散した雰囲気をカップの内壁下方に案内する案内部材
とを具備し、前記カップが、基部と、前記案内部材が設
けられ、前記基部に対して着脱可能な着脱部とに分離さ
れているものである。

【００１１】本発明の基板処理装置は、基板を保持して
回転する保持・回転機構と、前記保持された基板の上か
ら所定の処理用の液を供給する液供給機構と、前記保持
された基板の周囲に沿って設けられたカップと、前記カ
ップの内壁に設けられ、回転する基板の遠心力によって
飛散した雰囲気をカップの内壁下方に案内する案内部材
とを具備し、前記案内部材は、前記カップの内壁と４５
°前後の角度をなし、且つ、前記カップの内壁上方から
下方に向けて傾いた板状部材を、前記カップの内周に沿
って所定の間隔で配置したものであり、更に前記案内部
材は、隣接する複数の前記板状部材を有する複数のブロ
ックに分割され、且つ前記各ブロックは、前記カップと
の間で着脱可能とされている。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して詳細に説明する。

【００１３】本発明の一実施形態を、図１に示すＬＣＤ
に用いられるガラス基板（以下、基板と呼ぶ。）の塗布
現像処理システム１に適用した場合を例にとって説明す
る。

【００１４】この塗布現像処理システム１は、基板Ｇに
対してレジスト液を塗布した後、露光装置（ＥＸＰ）２
に一旦受け渡し、この露光装置２によって露光処理され
た後の基板を再度受け取って現像処理を行うものであ
る。

【００１５】このような一連の処理を行うため、この塗
布現像処理システム１は、基板Ｇのローディング及びア
ンローディングを行うためのローダ／アンローダ部（Ｌ
／ＵＬ）３と、基板洗浄処理を行うための第１プロセス
部４と、レジスト液の塗布（コーティング）及び周縁レ
ジスト除去処理を行うための第２プロセス部５と、現像
処理を行うための第３プロセス部６と、露光装置２との
間で基板の受け渡しを行うためのインターフェース部
（Ｉ／Ｆ）７とを備えている。

【００１６】ローダ／アンローダ部３は、カセット載置
台１０及び搬送部（Ｃ／Ｓ）１１を備えている。カセッ
ト載置台１０上には２種類のカセットＣ１，Ｃ２が載置
されている。例えば、第１のカセットＣ１には処理前の
基板Ｇが収納され、第２のカセットＣ２には処理後の基
板Ｇが収納される。

【００１７】また、搬送部１１には、第１のサブアーム
機構１３が設けられている。この第１のサブアーム機構
１３は、基板を保持できる例えばアーム１４を有し、こ
のアームを旋回させ進退させ上下させることで、第１の
カセットＣ１に収納された基板を取り出し、第１のプロ
セス部４側に受け渡せるようになっている。なお、全て
の処理が終了した基板は、この第１のサブアーム機構１
３によって例えば第１のプロセス部４側から第２のカセ
ットＣ２へと収納される。

【００１８】前記第１のプロセス部４は、前記第１のサ
ブアーム機構１３から基板を受け取る第１のメインアー
ム機構１５を有する。このメインアーム機構１５は、Ｙ
方向に沿って延設された第１の中央搬送路１６上を走行
するベース１７と、このベース１７上で旋回、進退、上
下駆動される例えばアーム１８とを具備する。

【００１９】この第１のメインアーム機構１５の側方に
は、中央搬送路１６に沿って、例えばブラシスクラバか
らなる２つの洗浄部（ＳＣＲ）１９、例えばホットプレ
ートを備える加熱／加熱部（ＨＰ／ＨＰ）２０、紫外線
洗浄装置からなる乾式洗浄部（ＵＶ）２１、および例え
ばクーリングプレートを備える冷却部（ＣＯＬ）２２が
それぞれ設けられている。

【００２０】ここで、「加熱／加熱部（ＨＰ／ＨＰ）」
の表記は、ホットプレートを有する加熱部が例えば上下
２段に積み上げて設置されていることを示している（以
下同じ）。また、図中、加熱部を表すＨＰ及び冷却部を
表すＣＯＬの後に付された数字（「ＨＰ１」や「ＣＯＬ
１」等）は、加熱処理若しくは冷却処理の種類若しくは
順序を示している。

【００２１】前記第１のメインアーム機構１５は、前記
ローダ／アンローダ部３から受け取った基板を各処理部
１９〜２０に挿入し、必要な処理を行わせた後、この基
板を取り出して順次別の処理部１９〜２０若しくは第２
のプロセス部５に搬送するようになっている。

【００２２】一方、第２のプロセス部５は、Ｙ方向に沿
って延設された第２の中央搬送路２３上を走行する第２
のメインアーム機構２４を具備する。この第２のメイン
アーム機構２４は、前記第１のメインアーム機構１５と
同様に構成されたベース２５及びアーム２６を有する。

【００２３】また、この第２のメインアーム機構２４の
側方には、基板に対してレジストの塗布を行うと共に周
縁部の不要レジストを除去するレジスト塗布・周辺レジ
スト除去部（ＣＴ／ＥＲ）２８と、基板表面の疎水化処
理を行うためのアドヒージョン／冷却部（ＡＤ／ＣＯ
Ｌ）２９と、加熱／加熱部（ＨＰ／ＨＰ）３０、加熱／
冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）３１が配置されている。

【００２４】前記第２のメインアーム機構２４は、前記
第１のプロセス部４から受け取った基板を各処理部２８
〜３１に挿入し、必要な処理を行わせた後、この基板を
取り出して順次別の処理部２８〜３１若しくは第３のプ
ロセス部６側に搬送するようになっている。

【００２５】第３のプロセス部６は、Ｙ方向に沿って延
設された第３の中央搬送路３３上を走行する第３のメイ
ンアーム機構３４を具備する。この第３のメインアーム
機構３４は、前記第１、第２のメインアーム機構１５、
２４と同様に構成されたベース３５及びアーム３６を有
する。

【００２６】この第３のメインアーム機構３４の側方に
は、露光処理後の基板Ｇを現像処理するための３つの現
像処理部（ＤＥＶ）３８と、タイトリングを行うタイト
ラー（ＴＩＴＬＥＲ）３９と、加熱／加熱部（ＨＰ／Ｈ
Ｐ）４０と、加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）４１とが配
設されている。

【００２７】前記第３のメインアーム機構３４は、前記
第２のプロセス部５から受け取ったレジスト液塗布済み
の基板をインターフェース部７を介して露光装置２側に
移送すると共に、前記露光済みの基板をインターフェー
ス部７を介して露光装置２側から受け取る。そして、こ
の露光済み基板を各処理部３８〜４１に挿入し、必要な
処理を行わせた後、この基板を取り出して順次別の処理
部３８〜４１若しくは第２のプロセス部５側に搬送する
ようになっている。

【００２８】なお、この図に示されるように、第１、第
２、第３のプロセス部４、５、６間には冷却部（ＣＯ
Ｌ）４２、４３が設けられている。これらの冷却部４
２、４３は処理中の基板を一時的に待機させておくため
に用いられる。

【００２９】次に、上記のように構成される塗布現像処
理システム１における処理手順を図２のフローチャート
を参照して説明する。

【００３０】まず、前記載置台１０上の第１のカセット
Ｃ１内に収納された未処理の基板は前記ローダ／アンロ
ーダ部３から前記搬送部（Ｃ／Ｓ）１１を介して第１の
プロセス部４の第１のメインアーム機構１５に受け渡さ
れる（ステップＳ１，Ｓ２）。ついで、この基板は、乾
式洗浄装置（ＵＶ）２１によって紫外線洗浄され（ステ
ップＳ３）、その後前記冷却部２２によって第１の冷却
（ＣＯＬ１）が行われる（ステップＳ４）。

【００３１】次いで前記湿式洗浄装置１９によってブラ
シ洗浄（ＳＣＲ）が行われたならば、前記加熱部２０に
よる第１の加熱処理（ＨＰ１）によって加熱乾燥された
後（ステップＳ６）、前記冷却部２２による第２の冷却
処理によって冷却される（ステップＳ７）。ついで、こ
の基板は第１のメインアーム機構１５から第２のプロセ
ス部５の第２のメインアーム機構２４に受け渡される。

【００３２】第２のプロセス部に受け渡された基板は、
アドヒージョン処理部２９によって表面の疎水化処理
（ＡＤ）が行われた後（ステップＳ８）、第３の冷却処
理（ＣＯＬ３）が施される（ステップＳ９）。ついで、
疎水化処理後の基板は、レジスト液塗布・周縁レジスト
除去部２８に導入されレジスト塗布（ＣＴ）及び基板周
縁の不要なレジスト液の除去（ＥＲ）が行われる。

【００３３】このように処理された基板は、前記加熱部
３０、３１に挿入され、ベーキング処理（ＨＰ２）が施
される(ステップＳ１１）。このことによって、基板に
塗布されたレジスト液に含まれる溶剤を揮発させる。つ
いで、この基板を冷却部に挿入し、略室温にまで冷却
（ＣＯＬ４）する（ステップＳ１２）。ついで、この基
板は、前記第２のメインアーム機構２４から第３のメイ
ンアーム機構３４を介してインターフェース部７に搬送
され、露光装置２に受け渡される（ステップＳ１３）。
そして、この露光装置２において露光処理（ＥＸＰ）が
施される（ステップＳ１４）。

【００３４】露光処理が行われた基板は、前記インター
フェース部７、第３のメインアーム機構３４を介してタ
イトラー３９に挿入されタイトリング処理が行われる
（ステップＳ１５）。

【００３５】その後、基板は現像処理部３８に導入さ
れ、現像処理（ＤＥＶ）が行われる（ステップＳ１
６）。この現像処理部３８は、例えば基板上に現像液を
供給しながら基板を回転させることで現像を行い、リン
ス液で現像液を洗い流した後、振り切り乾燥を行う。

【００３６】最後に、この基板は、この基板に対向する
加熱／加熱部４０もしくは加熱／冷却部４１に挿入さ
れ、第３の加熱処理（ＨＰ３）によって加熱乾燥された
後（ステップＳ１７）、第５の冷却処理（ＣＯＬ５）に
より冷却される（ステップＳ１８）。

【００３７】以上の処理全てが終了した基板は、前記第
３のメインアーム機構３４から、前記第２、第１のメイ
ンアーム機構２４、１５を介して前記搬送部１１（Ｃ／
Ｓ）に設けられた第１のサブアーム機構１３に受け渡さ
れる（ステップＳ１９）。そして、この第１のサブアー
ム機構１３によって前記ローダ／アンローダ部３に載置
された第２のカセットＣ２内に収容される（ステップＳ
２０）。

【００３８】図３及び図４は上記した現像処理部（ＤＥ
Ｖ）３８における現像処理装置のの構成を示す図であ
り、図３はこの現像処理装置を正面から見た一部断面
図、図４はその平面図である。

【００３９】現像処理装置５１の中心部には、駆動モー
タ５２によって回転可能でかつ昇降シリンダー５３によ
って上下動可能に構成されたスピンチャック５４が設け
られている。このスピンチャック５４の上面は、真空吸
着等によって基板Ｇを水平状態に吸着保持するように構
成されている。また、駆動モータ５２と昇降シリンダー
５３との間には、ストッパーとしてのボールベアリング
５５が介挿されている。即ち、昇降シリンダー５３によ
ってスピンチャック５４が下降する際に駆動モータ５２
の下部がボールベアリング５５の上面に当たり、スピン
チャック５４がこれ以下に降下しないようになってい
る。

【００４０】このスピンチャック５４の下方には下容器
５６が配置されている。また、スピンチャック５４の外
周を囲うように外カップ５７が配置され、下容器５６と
外カップ５７の間には内カップ５８が配置されている。

【００４１】外カップ５７と内カップ５８とは連結部材
５９により連結され、これら外カップ５７及び内カップ
５８は制御部６０の指令に基づき昇降シリンダ６１によ
り昇降されるようになっている。外カップ５７及び内カ
ップ５８の上部はそれぞれ上に行くに従って狭くなるよ
うに内側に傾斜して設けられている。この傾斜は、例え
ば水平面となす角度が３０°程度されている。このよう
に水平面に対して狭角とすることで排気効果を高めるこ
とができる。また、これら外カップ５７及び内カップ５
８の表面にはテフロン（登録商標）コーティングが施さ
れている。これにより、発水性が向上し、カップ汚れを
防止することが可能となる。外カップ５７の上端開口部
の直径は内カップ５８のそれよりも大きく、かつ、これ
らの上端開口部の直径は基板Ｇを水平状態にしたままで
カップ内に下降させて収容できる大きさに形成されてい
る。

【００４２】下容器５６は、中心部から外に向かって下
方向に傾斜する傾斜部６２と、その外周に配置された受
け皿部６３とを備える。受け皿部６３の底面には筒状の
起立壁６４が設けられており、起立壁６４は外カップ５
７と内カップ５８との間に介在される。また、内カップ
５８の傾斜部は起立壁６４を超えて起立壁６４の外周に
延在している。これにより、内カップ５８の傾斜部を流
れる流体は受け皿部６３の起立壁６４で仕切られた外側
室６５に流れ込むようになっている。

【００４３】下容器５６の傾斜部６２の裏面側には、カ
ップ内を排気するための排気口６６が設けられており、
排気口６６には排気ポンプ６７が接続されている。受け
皿部６３の起立壁６４で仕切られた内側室６８の下部に
は排液口６９が形成されており、外側室６５の下部にド
レイン口７０が形成されている。そして、排液口６９に
回収管７１を介して使用済み現像液を再生処理する再生
処理機構７２が接続されている。再生処理機構７２は、
気液分離する気液分離機構７３と使用済み現像液中の不
純物を除去する不純物除去機構７４とで構成され、現像
液収容タンク７５に接続されている。ドレイン口７０は
図示しない回収タンクに接続されている。

【００４４】カップの上部一側方には、基板Ｇの表面に
対し現像液を吐出するための現像液吐出機構８１が配置
され、他側方には基板Ｇの表面に対してリンス液を吐出
するための洗浄機構８２が配置されている。また、図４
に示したように、カップの上部の手前及び背後には搬送
用レール８３、８４が設けられている。現像液吐出機構
８１には搬送用モータ８５が取り付けられており、制御
部６０による制御のもとで搬送モータ８５の駆動により
現像液吐出機構８１が搬送用レール８３、８４に沿って
カップ内上部に搬送されるようになっている。そして、
この現像液吐出機構８１には、制御部６０の制御のも
と、ポンプ８５を介して現像液収容タンク７５より現像
液が供給される。また、現像液吐出機構８１には、水平
方向に配置された図示しない保持棒に複数の現像液吐出
ノズル８６が取り付けられている。

【００４５】洗浄機構８２には、制御部６０の制御のも
と、ポンプ８７を介してリンス液タンク８８からリンス
液（例えば純水）が供給される。この洗浄機構８２は、
図４に示したように、回転駆動部８９に連結され、基端
部９０を中心として回動自由に設けられた支持アーム９
１と、この支持アーム９１の一端に支持されたリンス液
吐出ノズル９２とを有している。支持アーム９１は、制
御部６０の制御により、回転駆動部８９が駆動して基端
部９０を中心として回動し、リンス液吐出ノズル９２を
基板Ｇのほぼ中心に対応する部位に位置し、リンス液吐
出ノズル９２からリンス液の吐出が行われるようになっ
ている。

【００４６】外カップ５７の内壁には、回転する基板Ｇ
の遠心力によって飛散した雰囲気を外カップ５７の内壁
下方に案内する第１の案内部材としてのフィン９３が設
けられている。フィン９３は、図５に示すように、外カ
ップ５７の内周に沿って例えば等間隔で３２個設けられ
ている。各フィン９３は鉛直方向に対して所定の角度
θ、例えば３０°〜６０°程度、より好ましくは４５°
程度傾いている。これにより、基板Ｇが図５中矢印方
向に回転したときに、図５中矢印方向で示す内壁下方
に気流が生じ、これらの付近の雰囲気を外カップ５７の
内壁下方に案内するようになっている。これらのフィン
９３は例えばＳＵＳ等からなり、或いはテフロンコーテ
ィーング等が施されることによってミストの付着が防止
されるようになっている。なお、フィン９３が樹脂材料
からなるものであっても勿論構わない。

【００４７】同様に、内カップ５８の内壁にも、回転す
る基板Ｇの遠心力によって飛散した雰囲気を内カップ５
８の内壁下方に案内する第３の案内部材としてのフィン
９４が設けられている。フィン９４についても例えば上
記のフィン９３と同様の構成とされている。

【００４８】また、図６にも示すように、外カップ５７
及び内カップ５８の下部には、外カップ５７下部側と内
カップ５８下部側とを跨ぐようにしてフィン９５が起立
壁６４に固定されている。フィン９５も上記のフィン９
３、９４と同様に、鉛直方向に対して所定角度θ、例え
ば３０°〜６０°程度、より好ましくは４５°程度の角
度をなしている。これにより、図６中矢印に示すよう
に、フィン９３によって外カップ５７の上部から下部に
かけて案内された雰囲気がこれらのフィン９５を介して
内カップ５８の内側、即ち排気口６６に案内されるよう
になっている。同様に図６中矢印に示すように、フィ
ン９４によって内カップ５８の上部から下部にかけて案
内された雰囲気もフィン９５を介して内カップ５８の内
側、即ち排気口６６に案内されるようになっている。ま
た、フィン９５も上記同様に例えばＳＵＳ等からなり、
或いはテフロンコーティーング等が施されることによっ
てミストの付着が防止されるようになっている。

【００４９】次に、このように構成された現像処理装置
５１の動作について説明する。

【００５０】現像処理装置５１内に搬入され、スピンチ
ャック５４によって保持された基板Ｇは下降され、図７
に示すように、外カップ５７及び内カップ５８は最も高
い位置まで上昇され、現像液吐出機構８１は基板Ｇのほ
ぼ中央まで搬送されて静止する。そして、スピンチャッ
ク５４により保持された基板Ｇが回転され、現像液吐出
機構８１の現像液吐出ノズル８６よりこの基板Ｇに対し
て現像液が吐出される。また、基板Ｇの外周より飛び散
る現像液は内カップ５８の内側に当り排液口６９より回
収され、再利用される。その際、内カップ５８内で発生
したミストは、フィン９４、９５を介して内カップ５８
の内側、即ち排気口６６に案内される。これにより、上
記のミストが基板Ｇに付着することを防止することがで
きる。なお、その際、ポンプ６７の排気圧を高めるよう
に制御すれば、効果的にミストを排気することが可能と
なる。また、現像液供給時のスピンチャック５４の回転
数は、後述のリンス時のスピンチャック５４の回転数よ
りも遅くした方が好ましい。現像液供給時の方がミスト
の発生が多く、これを効果的に抑えることができるから
である。

【００５１】次に、図８に示すように、スピンチャック
５４によって保持されたガラス基板Ｇは下降され、外カ
ップ５７及び内カップ５８は最も低い位置まで下降され
る。そして、スピンチャック５４により保持されたガラ
ス基板Ｇが静止状態とされ、洗浄機構８２を構成する支
持アーム９１が回動して、リンス液吐出ノズル９２が基
板Ｇのほぼ中央に配置される。次に、スピンチャック５
４により保持された基板Ｇが回転され、リンス液吐出ノ
ズル９２から基板Ｇに対してリンス液（純水）が供給さ
れる。このとき、基板Ｇの外周より飛び散るリンス液は
内カップ５８と外カップ５７との間を通ってドレイン口
７０より廃棄される。また、外カップ５７内で発生した
ミストは、フィン９３、９５を介して内カップ５８の内
側、即ち排気口６６に案内される。これにより、上記の
ミストが基板Ｇに付着することを防止することができ
る。

【００５２】リンス液の供給が終了したならば、支持ア
ーム９１が基板Ｇのほぼ中心から上記と逆方向に回動し
て、リンス液吐出ノズル９２がカップ外へ搬送される。
そして、スピンチャック５４によって保持された基板Ｇ
が高速回転されて振り切り乾燥が行われる。外カップ５
７内で発生したミストは、同様に、フィン９３、９５を
介して内カップ５８の内側、即ち排気口６６に案内され
る。これにより、上記のミストが基板Ｇに付着すること
を防止することができる。本実施形態では、特に案内部
材をフィンによって構成したことにより、振り切り乾燥
時にミスト付着を有効に防止できる。基板Ｇの高速回転
に伴ってフィン９３、９５による気流の案内効果が高ま
るからである。

【００５３】本発明者等がこのようなフィン９３、９
４、９５を設けた現像処理装置とフィンを持たない現像
処理装置とで基板Ｇに付着するミストの数を比較したと
ころ、フィン９３、９４、９５を設けた現像処理装置の
方がミストの数が５分の１以下に低減することが確認さ
れた。

【００５４】次に、本発明の他の実施形態について説明
する。

【００５５】この実施形態では、図９に示すように、外
カップ１０１を、基部１０２と、フィン９３が設けら
れ、基部１０２に対して着脱可能な着脱部１０３とに分
離したものである。このように構成することによって、
フィン９３が設けられた着脱部１０３を基部１０２から
外して着脱部１０３に設けられたフィン９３の洗浄を容
易に行うことが可能となる。第３の案内部材が設けられ
た内カップについても同様に構成してもよい。

【００５６】次に、本発明の更に別の実施形態について
説明する。

【００５７】この実施形態では、図１０に示すように、
第１の案内部材１１１を、隣接する複数のフィン９３を
有する複数のブロック１１３に分割し、各ブロック１１
３を外カップ１１２との間で着脱可能としたものであ
る。このように構成することによって、フィン９３が設
けられたブロック１１３を外カップ１１２から外して各
フィン９３の洗浄を容易に行うことが可能となる。第３
の案内部材が設けられた内カップについても同様に構成
してもよい。

【００５８】次に、本発明のまた別の実施形態について
説明する。

【００５９】この実施形態では、図１１に示すように、
例えばリンス時にスピンチャックに保持された基板Ｇの
裏面に向けてリンス液を供給すると共に、フィン９３、
９５にリンス液を供給するバックリンス機構１２１を有
するものである。バックリンス機構１２１は、リンス液
を吐出するリンス液吐出ノズル１２２を備えると共に、
リンス液吐出ノズル１２２を回動してリンス液の吐出方
向を変える回動機構１２３を備えるものである。これに
より、専用の設備を備えることなく、フィン９３、９５
の洗浄を行うことができる。次に、本発明の更に別の実
施形態を説明する。上述した実施形態では、現像液供給
時に外カップ５７及び内カップ５８が最も高い位置まで
上昇され、内カップ５８によって現像液を回収し、その
後のリンス時には外カップ５７及び内カップ５８が最も
低い位置まで下降され、外カップ５７によってリンス液
を回収することで、即ち現像液とリンス液を別系統で回
収することで、現像液だけを再利用するものであった
が、この実施形態では、図７に示した状態、すなわち外
カップ５７及び内カップ５８が最も高い位置まで上昇さ
れた状態で、現像液供給及びリンスの両方を行い、内カ
ップ５８によって現像液及びリンス液の両方を回収しよ
うとするものである。これにより、外カップ５８が常に
基板Ｇの上方の領域に位置することになり、基板Ｇの上
方領域を飛翔するミストを外カップ５８によって効果的
に除去することができる。また、このようなミストの飛
翔はスピンチャック５４の回転数に依存するものである
ので、スピンチャック５４の回転数に応じて外カップ５
７及び内カップ５８を昇降させるようにしても良い。す
なわち、現像液及びリンス液の振り切り時にはスピンチ
ャック５４が低速回転となるが、このとき外カップ５７
及び内カップ５８は低い位置まで下降され、外カップ５
７によって液の回収が行われる。一方、それ以外のとき
にはスピンチャック５４は高速回転となるが、このとき
外カップ５７及び内カップ５８は高い位置まで上昇さ
れ、ミストの大半は内カップ５８によって回収され、そ
れに加えて外カップ５７によって飛翔したミストの回収
が行われる。なお、本発明は上述した実施形態には限定
されない。例えば、図１２に示すように、外カップ５７
の傾斜面の頂部から下方の表面に向けて洗浄液を吐出す
る洗浄液吐出ノズル１５１を設けてもよい。これによ
り、カップの薬液汚れを除去することが可能となる。な
お、内カップ５８についても同様の構成としてもよい。
また、図１３に示すように、外カップ５７の上部５７ａ
と下部５７ｂとの間に絶縁材料５７ｃ、例えば樹脂材料
を介在させ、その近くにイオン放電装置１５２を配置す
るようにしても良い。これにより、外カップ５７の上部
５７ａに静電気が帯電し、この静電気によってミストを
外カップ５７の付着させて回収することが可能となる。
なお、内カップ５８についても同様の構成としてもよ
い。更に、外カップ５７及び内カップ５８の構造は、図
１４に示すように、傾斜部１５３がアーチ型の構造とし
ても構わない。これにより、カップの高さをより低くし
てもミスト等の回収の能力が失われないので、カップの
小型化を図ることが可能となる

【００６０】また、上述した実施形態は、ガラス基板を
現像処理する現像処理装置に本発明を適用したものであ
ったが、例えばガラス基板を回転させながら洗浄等を行
う他の装置にも本発明を適用できる。また、処理対象は
ガラス基板ばかりでなく、半導体ウエハ等の他の基板に
も当然本発明を適用できる。

【００６１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カップ内で飛散したミストが基板に再付着することを防
止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る塗布現像処理システ
ムを示す平面図である。

【図２】図１に示した塗布現像処理システムにおける処
理手順を示すフローチャートである。

【図３】本発明の一実施形態に係る現像処理装置の正面
図である。

【図４】図３に示した現像処理装置の平面図である。

【図５】図３に示した現像処理装置の一部拡大斜視図
（その１）である。

【図６】図３に示した現像処理装置の一部拡大斜視図
（その２）である。

【図７】図３に示した現像処理装置の動作を説明するた
めの概略正面図（その１）である。

【図８】図３に示した現像処理装置の動作を説明するた
めの概略正面図（その２）である。

【図９】本発明の他の実施形態に係る現像処理装置の概
略正面図である。

【図１０】本発明の更に別の実施形態に係る現像処理装
置の概略正面図である。

【図１１】本発明のまた別の実施形態に係る現像処理装
置の概略正面図である。

【図１２】本発明におけるカップの他の構成例を示す図
である。

【図１３】本発明におけるカップの更に別の構成例を示
す図である。

【図１４】本発明におけるカップのまた別の構成例を示
す図である。

【符号の説明】

５１…現像処理装置 ５４…スピンチャック ５７…外カップ ５８…内カップ ６６…排気口 ６７…排気ポンプ ６９…排液口 ７０…ドレイン口 ８１…現像液吐出機構 ８２…洗浄機構 ９３…フィン（第１の案内部材） ９４…フィン（第３の案内部材） ９５…フィン（第２の案内部材）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０５Ｄ 3/00 Ｂ０５Ｄ 3/00 Ｂ 3/10 Ｆ 3/10 7/00 Ｅ 7/00 Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０２ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｃ // Ｈ０１Ｌ 21/306 21/306 Ｊ

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持して回転する保持・回転機構
   と、 前記保持された基板の上から所定の処理用の液を供給す
   る液供給機構と、 基板の周囲に沿って昇降可能に配置され、下方に通気口
   が設けられた内カップと、 前記内カップの周囲に沿って配置された外カップと、 前記外カップの内壁に設けられ、回転する基板の遠心力
   によって飛散した雰囲気を外カップの内壁下方に案内す
   る第１の案内部材と、 前記第１の案内部材によって案内された雰囲気を前記通
   気口を介して前記内カップ内に案内する第２の案内部材
   と、 前記内カップ内を排気する排気手段と を具備することを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記内カップの内壁に設けられ、回転する基板の遠心力
   によって飛散した雰囲気を内カップの内壁下方に案内す
   る第３の案内部材を更に具備することを特徴とする基板
   処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記内カップで回収された液を回収するための第１の回
   収部と、 前記外カップで回収された液を回収するための第２の回
   収部とを更に具備することを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記第１の案内部材が、前記外カップの内壁と４５°前
   後の角度をなし、且つ、前記外カップの内壁上方から下
   方に向けて傾いた板状部材を、前記外カップの内周に沿
   って所定の間隔で配置したものであることを特徴とする
   基板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の基板処理装置におい
   て、 前記外カップが、基部と、前記第１の案内部材が設けら
   れ、前記基部に対して着脱可能な着脱部とに分離されて
   いることを特徴とする基板処理装置。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の基板処理装置におい
   て、 前記第１の案内部材は、隣接する複数の前記板状部材を
   有する複数のブロックに分割され、且つ前記各ブロック
   は、前記外カップとの間で着脱可能とされていることを
   特徴とする基板処理装置。
7. 【請求項７】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記液供給機構を介して前記第１の案内部材にリンス液
   を供給する手段を更に具備することを特徴とする基板処
   理装置。
8. 【請求項８】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記保持された基板の裏面に向けてリンス液を供給する
   と共に、前記第１の案内部材にリンス液を供給するバッ
   クリンス機構を更に具備することを特徴とする基板処理
   装置。
9. 【請求項９】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記内カップと外カップとを一体的に昇降駆動する昇降
   駆動機構を更に具備することを特徴とする基板処理装
   置。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載の基板処理装置におい
    て、 前記保持・回転機構による基板の回転数に応じて、前記
    内カップと外カップとが昇降するように制御する制御部
    を更に具備することを特徴とする基板処理装置。
11. 【請求項１１】 請求項１に記載の基板処理装置におい
    て、 前記液供給機構により基板に液が供給されているときに
    は、基板は前記内カップ内に常に収容されていることを
    特徴とする基板処理装置。
12. 【請求項１２】 基板を保持して回転する保持・回転機
    構と、 前記保持された基板の上から所定の処理用の液を供給す
    る液供給機構と、 前記保持された基板の周囲に沿って設けられたカップ
    と、 前記カップの内壁に設けられ、回転する基板の遠心力に
    よって飛散した雰囲気をカップの内壁下方に案内する案
    内部材と、 前記案内部材を洗浄する洗浄手段とを具備することを特
    徴とする基板処理装置。
13. 【請求項１３】 請求項１２に記載の基板処理装置にお
    いて、 前記案内部材が、前記カップの内壁と４５°前後の角度
    をなし、且つ、前記カップの内壁上方から下方に向けて
    傾いた板状部材を、前記カップの内周に沿って所定の間
    隔で配置したものであることを特徴とする基板処理装
    置。
14. 【請求項１４】 請求項１２に記載の基板処理装置にお
    いて、 前記洗浄手段は、前記液供給機構を介して前記案内部材
    にリンス液を供給するものであることを特徴とする基板
    処理装置。
15. 【請求項１５】 請求項１２に記載の基板処理装置にお
    いて、 前記洗浄手段は、前記保持された基板の裏面に向けてリ
    ンス液を供給すると共に、前記案内部材にリンス液を供
    給するバックリンス機構であることを特徴とする基板処
    理装置。
16. 【請求項１６】 基板を保持して回転する保持・回転機
    構と、 前記保持された基板の上から所定の処理用の液を供給す
    る液供給機構と、 前記保持された基板の周囲に沿って設けられたカップ
    と、 前記カップの内壁に設けられ、回転する基板の遠心力に
    よって飛散した雰囲気をカップの内壁下方に案内する案
    内部材とを具備し、 前記カップが、基部と、前記案内部材が設けられ、前記
    基部に対して着脱可能な着脱部とに分離されていること
    を特徴とする基板処理装置。
17. 【請求項１７】 基板を保持して回転する保持・回転機
    構と、 前記保持された基板の上から所定の処理用の液を供給す
    る液供給機構と、 前記保持された基板の周囲に沿って設けられたカップ
    と、 前記カップの内壁に設けられ、回転する基板の遠心力に
    よって飛散した雰囲気をカップの内壁下方に案内する案
    内部材とを具備し、 前記案内部材は、前記カップの内壁と４５°前後の角度
    をなし、且つ、前記カップの内壁上方から下方に向けて
    傾いた板状部材を、前記カップの内周に沿って所定の間
    隔で配置したものであり、 更に前記案内部材は、隣接する複数の前記板状部材を有
    する複数のブロックに分割され、且つ前記各ブロック
    は、前記カップとの間で着脱可能とされていることを特
    徴とする基板処理装置。