JP2002305134A - 現像処理装置 - Google Patents
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Abstract
して行う。 【解決手段】 カップ収容部60の底に底板61を設け
る。底板61には,排液口62を設け,排液口62の位
置が最も低くなるように底板61の上面を傾斜させる。
カップ収容部60内には,処理時のウェハWの外方を囲
むカップ67を設ける。カップ67の内側であって底板
61上には,略円錐形状の傾斜板70を設ける。傾斜板
70には,排気管72を設け,排気管72の排気口73
を,傾斜板70より高い位置に開口させる。ウェハWか
ら飛散等した現像液は,底板61及び傾斜板70上を流
れ,排気口72に流入することなく排液口62から排液
される。上方のエア供給機構95から供給されたエア
は,カップ67内を通って排気管72から排気される。
Description
置に関する。
おけるフォトリソグラフィー工程では,ウェハ表面にレ
ジスト液を塗布し,レジスト膜を形成するレジスト塗布
処理,ウェハにパターンを露光する露光処理,露光後の
ウェハに対して現像を行う現像処理等が順次行われ,ウ
ェハに所定の回路パターンを形成する。
は,例えばウェハに現像液を供給する現像液供給ノズル
と,ウェハを保持し回転可能なスピンチャックと,ウェ
ハの外方を囲むカップ等が備えられている。そして,現
像処理は,スピンチャックに保持されたウェハに現像液
が供給され,当該ウェハが所定時間静止現像された後,
ウェハが回転され,当該ウェハWが洗浄・乾燥されるこ
とによって行われている。
り飛散した現像液等を排液し,また,現像処理装置内に
浮遊する不純物を排気する必要がある。そのため,カッ
プの下部には,工場側のファン等に接続されたドレイン
管が設けられており,従来は,前記現像液等の排液や不
純物を含んだ雰囲気を当該ドレイン管から一括して排出
するようにしていた。
うに現像液等の排液と不純物等の排気をドレイン管によ
って一括して行うと,ドレイン管の吸引力を発生させて
いる工場側のファンに圧力損失が生じ,所定の排気量を
維持するためには,通常よりも多くファンを回転させる
必要がある。このように,ファンを高回転で維持する
と,その分電力消費量が増大し,現像処理のトータルの
ランニングコストが増大することになる。また,ファン
に湿った排気が接触する可能性が高くなり,ファンに腐
食等が生じることが懸念される。
であり,現像処理における気液の排出を分離して行うこ
とのできる現像処理装置を提供することをその目的とす
る。
ば,処理容器内で基板を現像処理する現像処理装置であ
って,前記処理容器内には,水平に保持された基板の外
方を囲み上面及び下面が開口した内容器が設けられ,前
記処理容器の底部であって,前記内容器の内側には,前
記処理容器内の雰囲気を排気する排気管が設けられ,前
記排気管の排気口は,前記底部よりも高い位置で開口し
ており,前記底部には,前記処理容器内の処理液を排液
する排液口が設けられていることを特徴とする現像処理
装置が提供される。
と下面が開口した前記内容器が設けられているので,基
板から飛散等した現像液等の処理液は,当該内容器によ
って受け止められ,前記処理容器の底部に落下される。
当該底部には,前記排液口が設けられており,前記底部
に落下した処理液は,当該排液口から排液される。一
方,現像液を供給する際等には,現像液のミスト等が発
生し,基板の汚染の原因となるので,処理時には,処理
容器内の雰囲気を重力に従った下方から排気することが
必要になる。本発明では,処理容器の底部に排気管を設
けるので,処理容器内の雰囲気を処理容器の下方から好
適に排気することができる。また,排気管の排気口は,
処理容器の底部よりも高い位置に開口するように設けら
れるので,前記底部に落下した処理液が排気口内に入り
込むことが無くなり,排液と排気とを混合させずに別々
に排出することができる。
液口は,当該傾斜した前記上面の最も低い位置に設けら
れてもよい。これにより,処理容器の底部に落下した処
理液は,前記底部の傾斜した上面に沿って流れ,最も低
い位置にある排液口内に流入する。したがって,処理容
器の底部上に落下した処理液は,当該底部上に留まるこ
となく,好適に排液される。
錐状の傾斜板を有し,前記傾斜板は,前記内容器の内側
又はその下方に設けられていてもよい。内容器内には,
基板の外縁部から漏れた現像液や,基板から飛散した現
像液等の多くの処理液が落下する。本発明は,当該内容
器の内側又はその下方の前記処理容器の底部に,中央部
が高い略円錐状の傾斜板を設けるので,前記落下した処
理液は,当該傾斜板に沿って中央部から外方に流され,
当該処理液を排液口側に誘導することができる。これに
よって,多量の処理液が落下しても,処理液が前記底部
上に溜まることなく,好適に排液される。
部に沿って樋が設けられており,前記樋には,当該樋内
の前記処理液を前記傾斜板外に流すための切り欠きが設
けられていてもよい。このように,前記傾斜板の外縁部
に樋を取付け,当該樋の一部に切り欠きを設けることに
よって,傾斜板上に落下し,傾斜板に沿って流れた現像
液等の処理液は,樋内に流入し,樋に沿って流れて,切
り欠きから傾斜板外に流出される。これによって,傾斜
板に落下した処理液を回収して誘導し,一箇所に集約し
て確実に排液することができる。
置に設けられていてもよい。このように,前記樋の切り
欠きを,前記排液口に最も近い位置に設けることによっ
て,切り欠きから流出した処理液が,より確実かつ迅速
に排液口に流れ込み,処理液の排液が好適に行われる。
洗浄する洗浄装置が設けられており,前記洗浄装置に
は,当該洗浄装置で使用された洗浄液を前記底部上に排
出する排出口が設けられていてもよい。このように,洗
浄装置に前記洗浄液を排出する排出口を設けることによ
って,洗浄液を交換する際に,当該洗浄液は,排出口か
ら処理容器の底部上に排出され,処理容器の底部上に排
出された洗浄液は,上述の排液口から排出される。これ
によって,使用済みの洗浄液と上述した処理液とを同じ
排液口から排液することができる。したがって,現像処
理装置内の排液を一系統にまとめて行うことができるの
で,排液を他系統で行った場合に比べて,配管設計が容
易となり,現像処理装置全体も簡略化される。
を誘導する誘導路を有するようにしてもよい。このよう
に,誘導路を設けることによって,洗浄装置から処理容
器の底部上に排出された洗浄液が誘導路に沿って流れ,
排液口まで誘導される。したがって,洗浄液が処理容器
の底部で溜まることなく,洗浄液を好適に排液すること
ができる。
液を供給する供給部を有していてもよい。このように,
供給部を設け,洗浄液を処理容器の底部に供給すること
によって,処理容器の底部上の処理液の排出を促進させ
ることができる。したがって,処理容器の底部上に落下
等した処理液が当該底部に残留することなく,好適に排
出される。
液を供給する供給部を有していてもよい。内容器の内側
は,基板から飛散等した処理液が付着するので,処理が
行われる度に汚染される。そして,かかる状態を放置す
ると,乾いた付着物が剥がれて,パーティクルの原因と
なる。当該発明のように,内容器の内側壁に洗浄液を供
給することによって,内容器が清浄化され,パーティク
ルの発生を抑制することができる。
有する材料が用いられてもよい。このように処理容器の
底部の表面に親水性を有する材料を使用することによっ
て,処理液が処理容器の底部上を流れやすくなる。した
がって,底部上の処理液が排液され易くなり,少量の処
理液でも底部上に残存することが抑制できる。
属にしてもよい。このように非金属にすることによっ
て,処理容器の底部上を流れる現像液等の処理液に,金
属イオンが溶解することが防止される。これによって,
現像液等の処理液を再利用する際に,金属イオンを除去
する必要が無くなり,処理液等の再利用し易くなる。
態について説明する。図1は,本実施に形態にかかる現
像処理装置を有する塗布現像処理システム1の概略を示
す平面図であり,図2は,塗布現像処理システム1の正
面図であり,図3は,塗布現像処理システム1の背面図
である。
うに,例えば25枚のウェハWをカセット単位で外部か
ら塗布現像処理システム1に対して搬入出したり,カセ
ットCに対してウェハWを搬入出したりするカセットス
テーション2と,塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定
の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステ
ーション3と,この処理ステーション3に隣接して設け
られている図示しない露光装置との間でウェハWの受け
渡しをするインターフェイス部4とを一体に接続した構
成を有している。
るカセット載置台5上の所定の位置に,複数のカセット
CをR方向(図1中の上下方向)に一列に載置自在とな
っている。そして,このカセット配列方向(R方向)と
カセットCに収容されたウェハWのウェハ配列方向(Z
方向;鉛直方向)に対して移送可能なウェハ搬送体7が
搬送路8に沿って移動自在に設けられており,各カセッ
トCに対して選択的にアクセスできるようになってい
る。
を行うアライメント機能を備えている。このウェハ搬送
体7は後述するように処理ステーション3側の第3の処
理装置群G3に属するエクステンション装置32に対し
てもアクセスできるように構成されている。
搬送装置13が設けられており,この主搬送装置13の
周辺には各種処理装置が多段に配置されて処理装置群を
構成している。該塗布現像処理システム1においては,
4つの処理装置群G1,G2,G3,G4が配置されており,第
1及び第2の処理装置群G1,G2は現像処理システム1の
正面側に配置され,第3の処理装置群G3は,カセットス
テーション2に隣接して配置され,第4の処理装置群G4
は,インターフェイス部4に隣接して配置されている。
さらにオプションとして破線で示した第5の処理装置群
G5を背面側に別途配置可能となっている。前記主搬送装
置13は,これらの処理装置群G1,G2,G3,G4,G5に配
置されている後述する各種処理装置に対して,ウェハW
を搬入出可能である。なお,処理装置群の数や配置は,
ウェハWに施される処理の種類によって異なり,処理装
置群の数は,1以上であれば任意に選択できる。
すように,ウェハWにレジスト液を供給し,レジスト膜
を形成するレジスト塗布装置17と,本実施の形態にか
かる現像処理装置18とが下から順に2段に配置されて
いる。処理装置群G2の場合も同様に,レジスト塗布装置
19と,現像処理装置20とが下から順に2段に積み重
ねられている。
すように,ウェハWを冷却処理するクーリング装置3
0,レジスト液とウェハWとの定着性を高めるためのア
ドヒージョン装置31,ウェハWを待機させるエクステ
ンション装置32,レジスト液中の溶剤を乾燥させるプ
リベーキング装置33,34及び現像処理後の加熱処理
を施すポストベーキング装置35,36等が下から順に
例えば7段に積み重ねられている。
グ装置40,載置したウェハWを自然冷却させるエクス
テンション・クーリング装置41,エクステンション装
置42,クーリング装置43,露光後の加熱処理を行う
ポストエクスポージャーベーキング装置44,45,ポ
ストベーキング装置46,47等が下から順に例えば8
段に積み重ねられている。
搬送体50が設けられている。このウェハ搬送体50は
R方向(図1中の上下方向),Z方向(垂直方向)の移
動とθ方向(Z軸を中心とする回転方向)の回転が自在
にできるように構成されており,第4の処理装置群G4に
属するエクステンション・クーリング装置41,エクス
テンション装置42,周辺露光装置51及び図示しない
露光装置に対してアクセスして,各々に対してウェハW
を搬送できるように構成されている。
ついて詳しく説明する。図4は,現像処理装置18の概
略を示す縦断面の説明図であり,図5は,現像処理装置
18の横断面の説明図である。
ーシング18a内に上面が開口した略箱状の処理容器と
してのカップ収容部60を有している。カップ収容部6
0の底には,底部としての底板61が設けられている。
底板61のカップ収容部60の側壁近郊には,カップ収
容部60内で使用された現像液,洗浄液等の処理液を排
液するための排液口62が設けられている。底板61の
上面は,当該排液口62の設けられている位置が最も低
くなるように傾斜しており,底板61に落下した処理液
は,傾斜した底板61を伝って排液口62内に流入し,
排液口62から排液される。底板61の材質には,非金
属である例えばポリプロピレンが使用されている。
を保持するスピンチャック63が設けられている。スピ
ンチャック63は,水平かつ円形状に形成された上面部
63aを有し,ウェハWを水平に保持することができ
る。上面部63aには,例えば図示しない吸引口が設け
られており,ウェハWが上面部63aでずれたり,上面
部63aから落下しないようになっている。
ャック63を回転させる駆動機構64が設けられてい
る。駆動機構64は,図示しないモータ等を備えた駆動
部,駆動部に電力を供給する電源及び電源を制御する制
御部とを有している。当該駆動機構64によって,スピ
ンチャック63に保持されたウェハWを所定の回転速度
で回転させることができる。スピンチャック63の下部
は,モータ等から発生するパーティクルを遮断するため
のブラケット65によって覆われている。
でウェハWを昇降させるための複数,例えば3本の昇降
ピン66が設けられている。昇降ピン66は,上面部6
3aの周辺部を貫通し,上面部63a上に突出自在に設
けられている。昇降ピン66は,昇降機構66aによっ
て所定の高さに昇降できるようになっている。
持されたウェハWの外方を囲む内容器としてのカップ6
7が設けられている。カップ67は,上面と下面が開口
した略筒状の形態を有している。ウェハWが回転された
際に飛散した現像液等は,このカップ67によって受け
止められ,底板61上に落下する。カップ67の上部
は,内側に傾斜しており,現像液の飛散を効果的に防止
する。カップ67は,当該カップ67を昇降させる,例
えばシリンダ等の駆動部を備えた昇降駆動機構68を有
しており,カップ67を適宜所定の高さに昇降させるこ
とができる。これによって,カップ67の下端部と底板
61との間に隙間Dを設けることが可能となる。
は,カップ67の内側で落下した現像液等を受け止める
ための傾斜した傾斜板70が設けられている。傾斜板7
0は,図6に示すようにリング状の形態を有し,ブラケ
ット65を囲むようにして設けられている。傾斜板70
は,中心から外側に行くにつれて低くなるような略円錐
状に形成されている。傾斜板70の外縁部には,図7に
示すように傾斜板70を伝って流れた現像液等の処理液
を受け止め,回収すための樋71が設けられている。樋
71の排液口62に最も近い位置には,図6に示すよう
に切り欠き71aが設けられており,樋71内を流れた
処理液は,当該切り欠き71aから底板61上に流さ
れ,排液口62から排液される。
内の雰囲気を排気する排気管72が複数箇所設けられて
いる。排気管72は,傾斜板70の斜面にしたから突出
するように設けられており,排気管72の排気口73
は,傾斜板70の斜面よりも高い位置で開口している。
それ故,傾斜板70上を伝って流れる処理液が排気管7
2内に流入することが防止される。なお,排気管72
は,図示しない工場側のダクトに接続されており,当該
ダクトに設けられたファンによってカップ収容部60内
が吸引される。
うにカップ67とカップ収容部60との間に流れ込む処
理液を遮断し,回収する平板形状の回収板74が設けら
れている。回収板74には,図5に示すように多数の通
気孔75が設けられている。回収板74は,カップ67
側が低くなるように斜めに設けられている。回収板74
に回収された処理液は,傾斜に沿って流れ,例えば回収
板74とカップ67との隙間から底板61上に落下す
る。また,カップ67とカップ収容部60との間に流れ
込んだ気流は,通気孔75を通過し,カップ67の下端
部の隙間Dを通って排気口73から排気される。
側の側壁Rには,Y方向に伸びるレール80が設けられ
ている。レール80は,側壁Rの一端部から他端部まで
設けられている。レール80上には,現像液供給部とし
ての現像液供給ノズル81を保持するアーム部82が設
けられている。アーム部82には,アーム部82をレー
ル80に沿って移動させる図示しない移動機構が設けら
れており,アーム部82の移動は,当該移動機構によっ
て制御される。これによって,アーム部82は,レール
80上の任意の位置に移動することができ,現像液供給
ノズル81を,Y方向正方向側に位置する待機位置T
(図5に示す)からウェハWのY方向負方向側の外方ま
で移動させることができる。アーム部82には,アーム
部82を上下方向に移動させる図示しないシリンダ等を
備えた駆動部が設けられており,現像液供給ノズル81
とウェハWとの距離を調節できるようになっている。
移動した際に,現像液供給ノズル81がウェハW上を通
過するように現像液供給ノズル81を保持している。現
像液供給ノズル81は,X方向に長い細長形状を有して
おり,その長さは,少なくともウェハWの直径よりも長
く形成されている。図8に示すように現像液供給ノズル
81の上部には,図示しない現像液供給源からの現像液
を現像液供給ノズル81内に流入させる供給管83が接
続されている。現像液供給ノズル81の下部には,同じ
径を有する複数の現像液吐出口84が長手方向に一列に
設けられている。供給管83から現像液供給ノズル81
内に供給された現像液は,現像液吐出口84から同時に
同流量で吐出される。
1は,Y方向に所定速度で移動しながら所定流量の現像
液を吐出して,ウェハW表面全面に現像液を供給し,ウ
ェハW上に現像液の所定膜厚の液膜を形成することがで
きる。
壁近くには,図9に示すように現像液供給ノズル81を
洗浄するための洗浄装置85が設けられている。洗浄装
置85は,現像液供給ノズル81を洗浄するための洗浄
液,例えば純水を貯留する洗浄槽86と,洗浄槽86を
支持する支柱87と,支柱87の下端を固定し洗浄装置
85を底板61に固定する固定部材88とを有してい
る。洗浄槽86は,上面が開口した容器形状を有してお
り,その中に洗浄液を貯留できるようになっている。洗
浄槽86は,図5に示すように現像液供給ノズル81の
待機位置Tに位置し,現像液供給ノズル81は,待機位
置Tに戻された時に洗浄槽86内に受容され,洗浄され
る。
しない洗浄液供給源から洗浄槽86内に洗浄液を供給す
る供給管86aが設けられている。一方,洗浄槽86の
底には,洗浄液を排出するための管路87aが設けられ
ている。管路87aは,洗浄槽86の底部から支柱87
内を通って,固定部材88まで伸びており,固定部材8
8に設けられた排出口89から洗浄液が底板61上に排
出されるようになっている。したがって,洗浄槽86か
ら管路87aを通じて洗浄液を排出し,供給管86aか
ら洗浄槽86内に新しい洗浄液を供給することによっ
て,洗浄液を交換することができる。また,図9に示す
ように排出口89から底板61の排液口62まで,排出
口89から排出された洗浄液が誘導される誘導路として
の溝90が設けられている。
には,図5に示すようにX方向に伸びるレール91が設
けられている。当該レール91上には,アーム92が移
動自在に設けられている。アーム92には,アーム92
をレール91に沿って移動させる図示しない駆動機構が
設けられている。アーム92の先端には,ウェハWに洗
浄液を供給する洗浄液供給ノズル93が設けられてい
る。洗浄液供給ノズル93は,アーム92がウェハWの
直径上に移動した際に,洗浄液供給ノズル93がウェハ
Wの中心上方に位置するように取り付けられている。洗
浄液供給ノズル93は,所定時にアーム92の移動に伴
ってウェハW中心に移動され,ウェハWに洗浄液を供給
することができる。なお,アーム92には,アーム92
を上下方向に移動可能とする図示しない移動機構が設け
られており,必要に応じてウェハWとの距離を調節でき
る。
ようにカップ収容部60内にエア等の気体を供給するエ
ア供給機構95が設けられている。エア供給機構95に
は,ケーシング18a外の図示しないエア供給源からエ
ア供給機構95にエアを供給するエア供給管96が接続
されている。エア供給機構95は,エア内に含まれる不
純物を除去するフィルタ97と,エアをカップ収容部6
0内に一様に供給するために気流を整流する整流板98
とを有している。エア供給機構95から供給されたエア
は,下方の排気管72から排気され,カップ収容部60
内には下降気流が形成される。このとき,カップ収容部
60内が所定雰囲気に置換され,現像処理において発生
した不純物等が除去される。
理装置18の作用について,塗布現像処理システム1で
行われるフォトリソグラフィー工程のプロセスと共に説
明する。
処理のウェハWを1枚取りだし,第3の処理装置群G3に
属するアドヒージョン装置31に搬入する。このアドヒ
ージョン装置31において,レジスト液との密着性を向
上させるHMDSなどの密着強化剤を塗布されたウェハW
は,主搬送装置13によって,クーリング装置30に搬
送され,所定の温度に冷却される。その後,ウェハW
は,レジスト塗布装置17又は19,プリベーキング装
置33又は34に順次搬送され,所定の処理が施され
る。その後,ウェハWは,エクステンション・クーリン
グ装置41に搬送される。
ーリング装置41からウェハ搬送体50によって取り出
され,その後,周辺露光装置51を経て露光装置(図示
せず)に搬送される。露光処理の終了したウェハWは,
ウェハ搬送体50によりエクステンション装置42に搬
送された後,主搬送装置13に保持される。次いで,こ
のウェハWはポストエクスポージャベーキング装置44
又は45,クーリング装置43に順次搬送され,これら
の各装置にて所定の処理が施された後,現像処理装置1
8又は20に搬送される。
び主搬送装置13によってポストベーキング装置35,
36,46又は47,クーリング装置30に順次搬送さ
れ,各装置において所定の処理が施される。その後,ウ
ェハWは,エクステンション装置32を介して,ウェハ
搬送体7によってカセットCに戻され,一連の所定の塗
布現像処理が終了する。
ついて詳しく説明する。先ず,現像処理が開始される前
(ウェハW受け入れ前)に,エア供給機構95からカッ
プ収容部60内に所定の温湿度に調節されたエアが供給
され始め,カップ収容部60内に一様な下降気流が形成
される。また,カップ収容部60内の雰囲気は,排気管
72から常時一定流量で排気され,カップ収容部60内
がパージされる。
昇降機構66aによって昇降ピン66がカップ67の上
端面より高い位置に上昇される。次いで,主搬送装置1
3がケーシング18a内に進入し,ウェハWが昇降ピン
66上に受け渡される。次に,昇降駆動機構68によっ
てカップ67が下降され,カップ67の位置を下げると
共に,昇降ピン66も下降され,ウェハWがカップ67
の上端面よりもわずかに高い位置,例えばカップ67よ
りも1mm程度高い位置に置かれる。
供給ノズル81が,図5に示すように洗浄槽86からカ
ップ67の内側であって,ウェハWの外方の位置Sに移
動される。この位置Sにおいて,現像液供給ノズル81
からの現像液の吐出が開始され,その吐出状態が安定す
るまで試し出しされる。このとき,試し出しされた現像
液は,主に傾斜板70上に落下する。傾斜板70に落下
した現像液は,図6に示すように傾斜によって傾斜板7
0の樋71に回収される。樋71に回収された現像液
は,樋71を伝って切り欠き71aから底板61上に排
出される。そして,底板61上に排出された現像液は,
傾斜によって排液口62まで誘導され,排液口62から
現像処理装置18外の例えば図示しない処理液タンクに
排出される。一方,回収板74に落下した現像液も最終
的には,底板61上に落下し,底板61の傾斜によって
排液口62まで誘導され,排液される。
給ノズル81が,現像液を吐出しながらウェハW上をY
方向負方向側に移動する。このときウェハW全面に現像
液が供給され,ウェハW上に現像液の液膜が形成され
る。このとき,ウェハWや現像液供給ノズル81から傾
斜板70上に現像液が落下するが,かかる落下した現像
液は,上述した試し出し時と同様に傾斜板70の切り欠
き71aから底板61上に排出され,排液口62から排
液される。その後,現像液供給ノズル81は,ウェハW
のY方向負方向側の外方で停止し,現像液の供給を停止
して,待機位置Tに戻される。
と,静止現像が開始される。このときカップ67は上昇
され,カップ67の上端面がウェハWの位置より高くな
るようにする。こうすることにより,静止現像中は,カ
ップ側部67の上昇によって隙間Dが広くなるので,上
方から供給されているエアは,主にカップ67の外方を
流れ,回収板74の通気孔75を通って,隙間Dからカ
ップ67内に流入し,排気管72から排気される。これ
によって,ウェハW周辺部の気流が弱まり,ウェハW温
度が維持される。
ン66が下降され,ウェハWがスピンチャック63上に
吸着保持される。この際,カップ67も下降され,ウェ
ハWが側方から見てカップ67の中央部付近に位置され
る。このとき,カップ67が下降されるので,隙間Dが
狭められて,上方から供給されるエアは主にカップ67
内に直接流入され,カップ67内に強い下降気流が形成
される。
92の図示しない駆動機構によってレール91に沿って
ウェハW中心の上方まで移動される。そして,ウェハW
が,スピンチャック63によって所定の回転速度,例え
ば2000rpmで回転される。ウェハWの回転が開始
されると,洗浄液供給ノズル93からウェハWの中心に
洗浄液,例えば純水が供給される。これによって,ウェ
ハW全面に純水が拡散されると共に,ウェハW上の現像
液が遠心力によって振り切られる。このとき,遠心力で
振り切られた現像液と純水との処理液は,カップ67に
受け止められ,カップ67から傾斜板70上に落下す
る。そして,傾斜板70上に落下した処理液は,上述し
た現像液供給時の現像液と同様に,樋71に回収され,
切り欠き71aから底板61上に排出され,底板61の
排液口62から排液される。一方,カップ67内の雰囲
気は,当該振り切りによって現像液等から発生したミス
トを含んでいる。当該雰囲気は,カップ67内の下降気
流によって下降され,排気管72から工場側に排気され
る。
ウェハWの回転速度が,例えば4000rpmに加速さ
れる。これによって,ウェハW上の純水が振り切られ,
ウェハWが乾燥される。当該乾燥が所定時間行われた
後,ウェハWの回転が停止され,乾燥処理が終了する。
なお,当該乾燥処理時に飛散した純水は,上述した現像
液等の振り切り時と同様に,傾斜板70,底板61を伝
って排液口62から排液される。
ン66によって再びカップ67上端部の上方まで上昇さ
れる。次いで,ウェハWは搬入時と同様にして主搬送装
置13に受け渡され,ケーシング18a外に搬出され
て,一連の現像処理が終了する。
について説明すると,例えば現像液供給ノズル81が,
ウェハWに現像液を供給するために洗浄槽86から位置
Sに移動した後に,洗浄槽86内の洗浄液が管路87a
を通って排出口89から底板61上に排出される。底板
61に排出された洗浄液は,溝90に沿って流れ,排液
口62から排出される。次いで,供給管68aから洗浄
槽86内に新しい洗浄液が供給され,貯留される。そし
て,現像液の吐出が終了した現像液供給ノズル81が待
機位置Tに戻され,洗浄槽86に受容されて,汚れた現
像液供給ノズル81が洗浄される。なお,洗浄液の交換
は,ウェハWが一枚処理される度に行われてもよいし,
一のロットが終了する度に行われてもよい。
口73を傾斜板70よりも高い位置に設けたので,現像
処理時に使用される処理液が,排気口73内に流入する
ことが防止され,処理液とカップ67内の雰囲気とを分
離して排出することができる。
61を排液口62が最低となるように傾斜させたので,
底板61に落下した処理液等が排液口62に誘導され,
当該処理液が,底板61上に溜まることなく排液され
る。
対向する位置に傾斜板70を設け,傾斜板70の外縁部
に樋71を設け,さらに樋71に切り欠き71aを設け
たので,カップ67内の処理液が傾斜板70上に落下
し,当該落下した処理液が樋71に回収され,樋71の
切り欠き71aから排液口62に排出される。それ故,
傾斜板70に落下する多量の処理液を好適に排液するこ
とができる。
けたので,切り欠き71aから排出された処理液は,迅
速に排液口62に流入し,排液される。
を設けて,洗浄槽86の洗浄液を底板61に排出できる
ようにしたので,当該洗浄液を他の処理液と共に一括し
て排液口62から排液することができる。また,排出口
89から排液口62間に溝90を設けたので,排出口8
9から排出された洗浄液が適切かつ確実に排液口62か
ら排液される。
を用いたので,底板61上を流れる処理液に金属イオン
が溶解することが無くなり,当該処理液を再利用する際
に金属イオンを除去する作業が省略できる。なお,底板
61の材質には,例えばセラミックス,ステンレス鋼,
アルミニウム等の親水性を有するものを用いてもよい。
このように,親水性を有するものを使用することによっ
て,落下した処理液が底板61上を流れやすくなり,底
板61上に残留することが防止される。
18に,底板61上に洗浄液,例えば純水を供給する供
給装置を設けてもよい。図11は,供給部としての供給
ノズル100を設けた場合の一例を示すものであり,供
給ノズル100は,底板61上であって,カップ収容部
60のX方向正方向側の側壁R付近に設けられる。供給
ノズル100は,排液口62の反対側であって底板61
上で最も高くなっているX方向正方向側の端部付近に洗
浄液を供給するように配置される。そして,例えば現像
処理工程において,ウェハWが回転され,洗浄液供給ノ
ズル93から純水が供給され始めると同時に,供給ノズ
ル100から底板61上に洗浄液が供給される。底板6
1上の高い位置に供給された洗浄液は,傾斜に沿って排
液口62側に流れ,途中落下してくる現像液や純水を巻
き込んで,当該現像液等と共に排液口62から排液され
る。このように,底板61上に現像液が供給されると,
底板61上に落下した現像液等が排液口62に流され,
底板61上面が洗浄される。したがって,底板61上に
現像液等が残留し底板61が汚れた状態になることが抑
制され,底板61を清潔に維持できる。なお,供給ノズ
ル100から洗浄液を供給するタイミングは,任意であ
り,現像液の試し出しを開始するときに供給を開始して
もよいし,常時供給していてもよい。
ように傾斜板70上に洗浄液を供給するように設けても
よい。このように,傾斜板70上に洗浄液をすることに
よって,カップ67内で傾斜板70上に落下した現像液
等が洗浄液によって流され,現像液等の排液が促進され
る。したがって,傾斜板70の樋71等に現像液が残留
することが抑制され,傾斜板70を洗浄することができ
る。
100は,洗浄液をカップ67の内壁に供給できるよう
に設けてもよい。当該供給ノズル100によって,カッ
プ67の内壁に洗浄液を供給することによって,ウェハ
Wから飛散し,カップ67の内壁に付着した現像液等を
洗浄することができる。したがって,カップ67の内壁
に付着した現像液等が剥がれ,パーティクルとなること
を抑制できる。なお,供給ノズル100は,複数箇所に
設けてもよく,上述のカップ収容部60の側壁R付近,
傾斜板70上及びカップ67の内壁の全てに設けてもよ
い。
導体ウェハデバイス製造プロセスのフォトリソグラフィ
ー工程におけるウェハの現像処理装置に適用した例であ
ったが,本発明は半導体ウェハ以外の基板,例えばLC
D基板の現像処理装置にも応用できる。
別々に除去することができるので,排気を行う工場側の
ファンの圧力損失を抑制し,余分な電力消費を抑えるこ
とができる。したがって,現像処理装置のランニングコ
ストの削減が図られる。
理容器内の処理液が好適に排液され,処理容器内の汚染
が抑制されるので,メンテナンスの時間や回数が低減さ
れ,その分スループットの向上が図られる。
現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
明図である。
り除いたカップ収容部内部の斜視図である。
収容部内部の斜視図である。
チャックを取り除いたカップ収容部内部の斜視図であ
る。
の斜視図である。
内の構成を示す縦断面の説明図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 処理容器内で基板を現像処理する現像処
理装置であって,前記処理容器内には,水平に保持され
た基板の外方を囲み上面及び下面が開口した内容器が設
けられ,前記処理容器の底部であって,前記内容器の内
側には,前記処理容器内の雰囲気を排気する排気管が設
けられ,前記排気管の排気口は,前記底部よりも高い位
置で開口しており,前記底部には,前記処理容器内の処
理液を排液する排液口が設けられていることを特徴とす
る,現像処理装置。 - 【請求項2】 前記底部の上面は,傾斜しており,前記
排液口は,当該傾斜した前記上面の最も低い位置に設け
られていることを特徴とする,請求項1に記載の現像処
理装置。 - 【請求項3】 前記処理容器の底部は,中心部が高い略
円錐状の傾斜板を有し,前記傾斜板は,前記内容器の内
側又はその下方に設けられていることを特徴とする,請
求項1又は2のいずれかに記載の現像処理装置。 - 【請求項4】 前記傾斜板には,当該傾斜板の外縁部に
沿って樋が設けられており,前記樋には,当該樋内の前
記処理液を前記傾斜板外に流すための切り欠きが設けら
れていることを特徴とする,請求項3に記載の現像処理
装置。 - 【請求項5】 前記切り欠きは,前記排液口に最も近い
位置に設けられていることを特徴とする,請求項4に記
載の現像処理装置。 - 【請求項6】 前記処理容器内には,基板に現像液を供
給する現像液供給部を洗浄する洗浄装置が設けられてお
り,前記洗浄装置には,当該洗浄装置で使用された洗浄
液を前記底部上に排出する排出口が設けられていること
を特徴とする,請求項1,2,3,4又は5のいずれか
に記載の現像処理装置。 - 【請求項7】 前記排出口から前記排液口まで前記洗浄
液を誘導する誘導路を有することを特徴とする,請求項
6に記載の現像処理装置。 - 【請求項8】 前記処理容器の底部に洗浄液を供給する
供給部を有することを特徴とする,請求項1,2,3,
4,5,6又は7のいずれかに記載の現像処理装置。 - 【請求項9】 前記処理容器の内側壁に洗浄液を供給す
る供給部を有することを特徴とする,請求項1,2,
3,4,5,6,7又は8のいずれかに記載の現像処理
装置。 - 【請求項10】 少なくとも前記底部の上面には,親水
性を有する材料が用いられていることを特徴とする,請
求項1,2,3,4,5,6,7,8又は9のいずれか
に記載の現像処理装置。 - 【請求項11】 少なくとも前記底部の上面の材質は,
非金属であることを特徴とする,請求項1,2,3,
4,5,6,7,8,9又は10のいずれかに記載の現
像処理装置。
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