JP3811359B2 - 液処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は,基板の液処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では,基板である例えば半導体ウェハ(以下「ウェハ」とする)表面に塗布液を供給し,塗布液の膜を形成する塗布処理,露光後のウェハに現像液等を供給して現像する現像処理等の液処理が行われている。
【0003】
上述した現像処理は,通常現像処理装置で行われており,当該現像処理装置内には,例えばウェハに現像液を供給するノズルと,ウェハを載置し,回転させるスピンチャックと,ウェハの側方を囲み,回転するウェハから飛散する現像液等を受け止めるカップ等が設けられている。そして,ウェハの現像処理は,スピンチャック上にウェハが載置され,ノズルから当該ウェハ上に現像液が供給され,その後ウェハが洗浄,乾燥されることによって行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら,カップの上面は開放されているため,ノズルから吐出された現像液やそのミストが飛散したり浮遊したりして,現像処理装置内を汚染していた。当該現像処理装置内の汚れは,当該装置内のパーティクルとなり,現像処理装置内に搬入されたウェハに付着し,ウェハの現像欠陥等の原因になる。また,かかる現像欠陥を防止するため,前記現像処理装置のメンテナンスを頻繁に行う必要があり,このためにウェハの処理の中断を余儀なくされ,スループットの低下を招いている。
【0005】
本発明,かかる点に鑑みてなされたものであり,現像液等の処理液による液処理装置内の汚染を抑制する液処理装置を提供することをその目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
参考例として,基板に処理液を供給して,基板を処理する液処理方法であって,上面が開口した処理容器内に基板を搬入する工程と,前記処理容器の上面を蓋体によって塞ぐ工程と,当該上面が塞がれた処理容器内に処理液供給ノズルを進入させる工程と,当該処理液供給ノズルから前記処理容器内の基板に処理液を供給する工程とを有する液処理方法が提供される。
【0007】
上記参考例によれば,処理容器内に基板が搬入された後,処理容器の上面が蓋体によって塞がれ,その後当該処理容器内に処理液供給ノズルが進入し,処理容器内の基板に処理液が供給される。こうすることによって,処理液供給ノズルからの処理液の吐出が閉鎖された空間内で行われるため,当該処理液やそのミストが飛散したり浮遊したりして,他の周辺部材を汚染することが抑制できる。これによって,周辺部材のメンテナンスの回数や時間を減らすことができる。また,周辺部材の汚染物がパーティクルとなり,処理容器内に搬入された基板を汚染させることが抑制できる。
【0008】
上記参考例において例えば基板に処理液を供給する際に,前記処理容器内の雰囲気を排気するようにしてもよい。このように,上面が閉鎖された処理容器内の雰囲気を排気することによって,局所化された空間内の雰囲気が排気されるので,処理容器内に飛散又は浮遊した処理液やそのミスト等を効率的に排出することができる。
【0009】
本発明によれば,基板に処理液を供給して基板を処理する液処理装置において,基板を処理する上面が開口した処理容器と,当該処理容器内の基板に処理液を供給する複数の処理液供給ノズルと,当該処理容器の上面を塞ぐ蓋体と,前記複数の処理液供給ノズルを保持して上下動するアームと,を有し,前記蓋体には,前記アームに保持された処理液供給ノズルを前記蓋体の内側に進入させるためのスリット状の進入口が設けられ,前記アームは,前記進入口のスリットに沿って水平方向に延びる棒状に形成され,前記蓋体におけるスリットの両端部には,前記アームが進入し底面が水平の水平部が形成されていることを特徴とする液処理装置が提供される。
【0010】
この発明によれば,処理液供給ノズルから吐出された処理液によって,他の周辺部材が汚染されることが抑制され,これによって,周辺部材のメンテナンスの回数等を減少させることができる。また,周辺部材が汚染されることによって,パーティクルが発生し,当該パーティクルによって基板が汚染されることを抑制できる。
【0011】
前記進入口は,処理容器内の基板の直径に対向する位置に設けられていてもよい。このように,スリットを基板の直径に対向する位置に設けることによって,例えば処理液供給ノズルが複数ある場合に,当該処理液供給ノズルを基板の直径上に並べて配置できるので,処理液を基板全面に均一に供給することができる。
【0012】
また,参考例として前記進入口が,前記処理液供給ノズルの形状に適合した穴形状を有するようにしてもよい。このように進入口を処理液供給ノズルの形状に適合した穴形状にすることによって,進入口の開口面積を減少させることができるので,蓋体によって塞がれた処理容器内の閉鎖性が向上し,他の周辺部材の汚染をより効果的に抑制できる。
【0013】
また,参考例として前記進入口が,複数設けられており,これらの進入口は,処理容器内の基板の直径に対向する直線上に設けられていてもよい。このように,穴形状の進入口を基板の直径に対向する直線上に設けることによって,例えば処理液供給ノズルが複数設けられている場合に,それらの処理液供給ノズルを直線上に並べて配置し,処理容器内に進入させることができる。これによって,処理液を基板全面に均一に供給することができる。
【0014】
参考例として,基板に処理液を供給して,基板を処理する液処理装置において,基板を処理する上面が開口した処理容器と,当該処理容器内の基板に処理液を供給する処理液供給ノズルと,当該処理容器の上面を塞ぐ蓋体とを有し,前記処理液供給ノズルは,前記蓋体の内側に設けられている液処理装置が提供される。
【0015】
このように,処理容器の上面を塞ぐ蓋体の内側に処理液供給ノズルを設けることによって,閉鎖された処理容器内で,基板に処理液を供給することができる。これによって,処理液供給ノズルから吐出された処理液又はそのミストが飛散し,浮遊して,他の周辺部材を汚染することが防止できる。したがって,周辺部材に付着した汚染物がパーティクルとなって基板に再付着することが防止される。また,周辺部材のメンテナンス回数や時間が減少されるため,その分基板処理を連続して行うことができる。
【0016】
上述した各液処理装置において,前記蓋体を昇降させる昇降機構を有するようにしてもよい。このように,蓋体を昇降可能にすることによって,蓋体を上昇させた状態で,基板を処理容器内に搬入出することができる。したがって,蓋体自体に基板の搬送口を設ける必要がないため,蓋体の閉鎖性をより向上できる。
【0017】
また,前記処理容器内の雰囲気を排気する排気機構を有するようにしてもよい。このように,排気機構を設けることによって,処理容器内の雰囲気を排気することができる。これによって,局所化された処理容器内に供給され,飛散又は浮遊した処理液やそのミスト等を効果的に排出することができる。
【0018】
上述した前記蓋体の内側が,中央に行くにつれて高くなる形状を有するようにしてもよい。このように蓋体の内側をかかる形状にすることによって,処理容器内の処理液等が蓋体の内側に付着した場合に,当該処理液は前記蓋体の内壁に伝って流れ,蓋体の下端部から排出される。これによって,蓋体の内側に付着した処理液が直接基板上に落下して,基板に悪影響を与えることが抑制される。
【0019】
また,前記処理液供給ノズルが,前記処理液を噴霧するものであってもよい。従来,スプレー状の処理液供給ノズルを用いた場合には,処理液が飛散や浮遊し易く,周辺部材の汚染が顕著であったが,当該処理液供給ノズルに,上述した液処理装置を用いることによって,処理液等の飛散等が抑制され,周辺部材の汚染を抑えることができる。
【0020】
前記液処理装置は,前記処理容器内の基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルを有していてもよい。前記処理容器内に洗浄液供給ノズルを設けることによって,基板に処理液を供給した後に,洗浄液を供給し,基板の洗浄を好適に行うことができる。
【0021】
前記処理液供給ノズルと前記洗浄液供給ノズルは,前記処理容器内の基板の同一直径上に対向する位置に交互に配置されていてもよい。このように,処理液供給ノズルと洗浄液供給ノズルが基板の直径上に対向する位置に交互に配置されることによって,基板上に満遍なく処理液と洗浄液を供給することができ,基板に対する処理液の供給と,基板に対する洗浄液の供給とを好適に行うことができる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下,本発明の好ましい実施の形態について説明する。図1は,本発明にかかる液処理装置を有する塗布現像処理システム1の平面図であり,図2は,塗布現像処理システム1の正面図であり,図3は,塗布現像処理システム1の背面図である。
【0023】
塗布現像処理システム1は,図1に示すように,例えば25枚のウェハWをカセット単位で外部から塗布現像処理システム1に対して搬入出したり,カセットCに対してウェハWを搬入出したりするカセットステーション2と,塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステーション3と,この処理ステーション3に隣接して設けられている図示しない露光装置との間でウェハWの受け渡しをするインターフェイス部4とを一体に接続した構成を有している。
【0024】
カセットステーション2では,載置部となるカセット載置台5上の所定の位置に,複数のカセットCをX方向(図1中の上下方向)に一列に載置自在となっている。そして,このカセット配列方向(X方向)とカセットCに収容されたウェハWのウェハ配列方向(Z方向;鉛直方向)に対して移送可能なウェハ搬送体7が搬送路8に沿って移動自在に設けられており,各カセットCに対して選択的にアクセスできるようになっている。
【0025】
ウェハ搬送体7は,ウェハWの位置合わせを行うアライメント機能を備えている。このウェハ搬送体7は後述するように処理ステーション3側の第3の処理装置群G3に属するエクステンション装置32に対してもアクセスできるように構成されている。
【0026】
処理ステーション3では,その中心部に主搬送装置13が設けられており,この主搬送装置13の周辺には各種処理装置が多段に配置されて処理装置群を構成している。該塗布現像処理システム1においては,4つの処理装置群G1,G2,G3,G4が配置されており,第1及び第2の処理装置群G1,G2は塗布現像処理システム1の正面側に配置され,第3の処理装置群G3は,カセットステーション2に隣接して配置され,第4の処理装置群G4は,インターフェイス部4に隣接して配置されている。さらにオプションとして破線で示した第5の処理装置群G5を背面側に別途配置可能となっている。前記主搬送装置13は,これらの処理装置群G1,G3,G4,G5に配置されている後述する各種処理装置に対して,ウェハWを搬入出可能である。なお,処理装置群の数や配置は,ウェハWに施される処理の種類によって異なり,処理装置群の数は,1つ以上であれば4つで無くてもよい。
【0027】
第1の処理装置群G1では,例えば図2に示すように,ウェハWに塗布液,例えばポリイミド樹脂を塗布する塗布装置17と,感光性ポリイミドを現像処理する本実施の形態にかかる液処理装置としての現像処理装置18とが下から順に2段に配置されている。処理装置群G2の場合も同様に,塗布処理装置19と,現像処理装置20とが下から順に2段に積み重ねられている。
【0028】
第3の処理装置群G3では,例えば図3に示すように,ウェハWを冷却処理するクーリング装置30,31,ウェハWを待機させるエクステンション装置32,塗布液中の溶剤を乾燥させるプリベーキング装置33,34及び現像処理後の加熱処理を施すポストベーキング装置35等が下から順に例えば6段に重ねられている。
【0029】
第4の処理装置群G4では,例えばクーリング装置40,載置したウェハWを自然冷却させるエクステンション・クーリング装置41,エクステンション装置42,露光後の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキング装置43,44,ポストベーキング装置45等が下から順に例えば6段に積み重ねられている。
【0030】
インターフェイス部4の中央部にはウェハ搬送体50が設けられている。このウェハ搬送体50はX方向(図1中の上下方向),Z方向(垂直方向)の移動とθ方向(Z軸を中心とする回転方向)の回転が自在にできるように構成されており,第4の処理装置群G4に属するエクステンション・クーリング装置41,エクステンション装置42,周辺露光装置51及び図示しない露光装置に対してアクセスして,各々に対してウェハWを搬送できるように構成されている。
【0031】
次に,上述した現像処理装置18の構成について詳しく説明する。図4は,現像処理装置18の構成の概略を示す縦断面の説明図であり,図5は,現像処理装置18の横断面の説明図である。
【0032】
現像処理装置18は,ケーシング18aを有し,当該ケーシング18aの中央部には,ウェハWを吸着保持する保持手段であるスピンチャック60が設けられている。スピンチャック60の下方には,当該スピンチャック60を所定の速度で回転可能とする,例えばモータ等を備えた駆動機構61が設けられている。また,駆動機構61は,シリンダ等の昇降機構を有しており,スピンチャック60を上下に移動させることができる。
【0033】
スピンチャック60の外方には,上面が開口した円筒状の処理容器としてのカップ62がスピンチャック60を取り囲むようにして設けられている。これによって,ウェハWが回転された際に飛散される現像液等が捕集され,ケーシング18a内の汚染を防止できるようになっている。カップ62の下面は,斜めに傾斜されており,その低い部分には,カップ62で捕集した現像液等を排液するドレイン管63が設けられている。また,カップ62の下面には,ケーシング18a内及びカップ62内の雰囲気を排気する排気機構としての排気管64が設けられている。
【0034】
カップ62には,スピンチャック60上のウェハWの裏面に対して洗浄液を供給し,ウェハWの裏面を洗浄する裏面洗浄ノズル65が設けられている。
【0035】
カップ62の上方には,カップ62の上面を塞く蓋体66が設けられている。蓋体66は,下面側が開口した略半球状の形態を有している。蓋体66の下端部は,カップ62の上端部と合致するように形成されており,蓋体66が下降して,蓋体66の下端部がカップ62の上端部と密着し,カップ62の上面を塞ぐことができるようになっている。また,蓋体66の内側は,中央に行くにつれ高くなるように形成されており,蓋体66の内側に付着した処理液としての現像液等は,蓋体66の内壁を伝って,蓋体66の下端部からカップ62内に流れるようになっている。
【0036】
蓋体66の天井部には,図5及び図6に示すように進入口としてのスリット67が設けられている。スリット67は,平面から見てX方向に長い四角形状に開口されている。また,スリット67は,スピンチャック60に保持されたウェハWの直径に対向する位置に設けられており,スリット67の長手方向の長さは,ウェハWの直径程度の長さを有している。これによって,後述する複数の現像液供給ノズル70〜72等が当該スリット67から蓋体66内に進入し,ウェハWに現像液等を供給できるようになっている。
【0037】
蓋体66には,当該蓋体66を昇降可能とする,例えばシリンダ等を備えた昇降機構69が設けられている。これによって,蓋体66を昇降させ,カップ62の上面を開閉することができる。
【0038】
カップ62のY方向側の外方に位置する待機位置Tには,図5に示すように処理液供給ノズルとしての現像液供給ノズル70,71,72及びウェハWに洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル73,74,75が待機されている。現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75には,各現像処理液と高圧の気体とを一緒に噴出させる,いわゆるスプレー方式が用いられる。したがって,ウェハWに現像液等が供給される際には,現像液供給ノズル70〜72や洗浄液供給ノズル73〜75から各現像処理液がミスト状になって勢いよく噴出し,当該現像処理液がウェハW表面に吹き付けられる。
【0039】
現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75は,X方向に伸びるアーム77に交互に並べられて保持されている。現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75は,図7に示すようにウェハWの直径上方におよそ等しい間隔で配置されている。また,各現像液供給ノズル70〜72及び各洗浄液供給ノズル73〜75毎に,各現像処理液を供給するウェハW上の担当エリアが定められており,現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75は,各々の担当エリアに適切に各現像処理液を供給できるように,鉛直方向から所定角度傾けられて設けられている。これによって,ウェハWを回転させながら,各現像液供給ノズル70〜72から各担当エリアに対して現像液等を供給することによって,現像液等がウェハW全面に均一に供給されるようになっている。
【0040】
アーム77には,当該アーム77を上下動可能とする移動機構78が設けられている。これによって,アーム77を上下動させて,現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75を蓋体66のスリット67から蓋体66内に進入,退出させることができるようになっている。また,移動機構78は,図5に示すようにY方向に沿って設けられたレール79上を移動自在に設けられている。移動機構78自体は,移動機構78内に設けられているモータ等によってY方向に移動可能に構成されている。これによって,待機位置Tで待機していた現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75がスリット67上まで移動し,その後下降して,ウェハW表面に現像処理液である,例えばIPA(イソプロピルアルコール),MEK(メチルエチルケトン)又はアルカリ現像液等を供給できるようになっている。
【0041】
一方,ケーシング18aの上面には,ケーシング18a内に気体,例えばエアを供給するエア供給管80が設けられている。これによって,図示しない温湿度調節装置によって所定の温度,湿度に調節され,清浄化されたエアがケーシング18a内に供給され,ケーシング18a内の雰囲気を制御できるようになっている。
【0042】
また,上述した待機位置Tには,現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75を洗浄する洗浄槽81が設けられている。この洗浄槽81は,直線上に並べられた現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75を受容できるように細長形状で断面が凹状に形成されている。洗浄槽81内には,現像液供給ノズル70〜72等に付着した現像液等を洗浄するための所定の溶剤が貯留されている。
【0043】
次に,以上のように構成されている現像処理装置18の作用について,塗布現像処理システム1で行われるフォトリソグラフィー工程のプロセスと共に説明する。
【0044】
先ず,ウェハ搬送体7がカセットCから未処理のウェハWを1枚取りだし,第3の処理装置群G3に属するエクステンション装置32に搬送する。次いでウェハWは,主搬送装置13によって塗布装置17又19に搬送され,ポリイミド樹脂が塗布される。次にウェハWは,プリベーキング装置33又は34に搬送され,加熱される。その後,ウェハWはエクステンション・クーリング装置41に搬送される。
【0045】
次いで,ウェハWはエクステンション・クーリング装置41からウェハ搬送体50によって取り出され,その後,周辺露光装置51を経て露光装置(図示せず)に搬送される。露光処理の終了したウェハWは,ウェハ搬送体50によりエクステンション装置42に搬送された後,主搬送装置13に保持される。次いで,このウェハWはポストエクスポージャーベーキング装置43又は44,クーリング装置40に順次搬送され,各処理装置で所定の処理が施された後,現像処理装置18又は20に搬送される。
【0046】
そして現像処理の終了したウェハWは,主搬送装置13によってポストベーキング装置35又は45,クーリング装置30と順次搬送され,各処理装置において所定の処理が施される。その後,ウェハWは,エクステンション装置32を介して,ウェハ搬送体7によってカセットCに戻され,一連の所定の塗布現像処理が終了する。
【0047】
次に上述した現像処理装置18の作用について詳しく説明する。先ず,現像処理装置18内にウェハWが搬入される前に,エア供給管80から所定の温度,湿度に調節されたエアが供給され,ケーシング18a内の雰囲気が所定の雰囲気に制御される。
【0048】
そして,前工程である冷却処理が終了し,ウェハWが現像処理装置18内に搬入されると,主搬送装置13によってカップ62の中央部上方まで搬送され,予め上昇して待機していたスピンチャック60に受け渡される。そしてスピンチャック60がカップ62内の所定位置まで下降し,ウェハWがカップ62内に収容される。
【0049】
次に,昇降機構69によって蓋体66が下降され,カップ62の上面が塞がれ,閉鎖された処理室Sが形成される。次に,移動機構78によって待機位置Tで待機していた現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75がY方向に移動され,蓋体66のスリット67の上方まで移動される。そして,アーム77が下降され,図8に示すように現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75がスリット67から処理室S内に進入し,所定の位置に位置される。このとき,排気管64からの排気が開始され,処理室S内の雰囲気が排気される。
【0050】
次に,スピンチャック60によってウェハWが所定速度,例えば100rpmで回転される。そして,現像液供給ノズル70〜72による現像液の噴出が開始され,霧状の現像液がウェハWに吹き付けられる。これによって,ウェハW全面に現像液が供給され,ウェハW上に現像液の液膜が形成される。その後,現像液供給ノズル70〜72からの噴出が停止され,所定時間経過後,洗浄液供給ノズル73〜75による洗浄液の噴出が開始される。このとき,裏面洗浄ノズル65からも洗浄液が噴出され,ウェハWの裏面にも洗浄液が供給される。
【0051】
そして,所定時間ウェハWに対して洗浄液が噴出され続け,ウェハWが洗浄された後,洗浄液の噴出が停止される。その後,ウェハWの回転速度が増大されて,ウェハW上の洗浄液が遠心力によって振り切られて,ウェハWが乾燥される。所定時間,当該振り切り・乾燥処理が行われた後,スピンチャック60の回転が停止され,ウェハWの現像が終了する。
【0052】
次いで,アーム77が上昇され,現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75が蓋体66内から退避する。そして,現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75は,待機位置Tの洗浄槽81内に戻される。一方,蓋体66は,現像液供給ノズル70〜72等が退避した後に,上昇され,カップ62の上面が開放される。この後,排気管64による排気が停止される。
【0053】
その後,ウェハWはスピンチャック60によって所定位置まで上昇され,ケーシング18a内に進入してきた主搬送装置13に受け渡される。そして,ウェハWが主搬送装置13によってケーシング18a外に搬送されて,一連の処理が終了する。
【0054】
以上の実施の形態によれば,カップ62の上方にカップ62の上面を塞ぐ蓋体66を設けたので,現像液供給時の現像液の飛散が抑制され,周辺部材の汚染が抑制できる。
【0055】
また,当該蓋体66に現像液供給ノズル70〜72が進入するスリット67を設けたので,現像液供給ノズル70が蓋体66の外部から進入自在となり,閉鎖された処理室S内での現像液等の供給を好適に行うことができる。スピンチャック60上のウェハWの直径に対向する位置に,細長のスリット67を設けたので,現像液供給ノズルを複数配置し,ウェハW全面に均一に現像液を供給することができる。
【0056】
さらに,蓋体66に昇降機構69を設けたので,ウェハWを搬入出する際に蓋体66を昇降させ,ウェハWの搬入出を好適に行うことができる。
【0057】
また,蓋体66の内側を中央に行くにつれ高くなるように形成したので,現像液等のミストが蓋体66の内側に付着した場合に,当該現像液が当該内壁を伝って,蓋体66の下端部から排出できる。このため,蓋体66の内壁に付着した現像液等がウェハW上に落下して,現像欠陥を引き起こすことが抑制される。
【0058】
カップ62内の雰囲気を排気する排気管64を設けたので,蓋体66によって容積が減少し局所化された処理室S内の雰囲気を,効率よく排気することができる。
【0059】
以上の実施の形態では,蓋体66にスリット67を設けたが,スリット67に代えて現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75の形状に適合した複数の穴形状の進入口を設けるようにしてもよい。このような場合,例えば図9,図10に示すように,蓋体90の上部に現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75の各進入口91〜96を並べて設ける。これらの進入口91〜96は,スピンチャック60上のウェハWの直径に対向する直線上に設けられる。これによって,各現像液供給ノズル70〜72及び洗浄液供給ノズル73〜75からの噴出によって,現像液等がウェハW表面全体に均一に供給される。
【0060】
このように,進入口91〜96を穴形状に設けると,スリットに比べて蓋体90上部の開口面積が減少されるので,現像液等の飛散がより抑制され,周辺部材の汚染を抑制できる。
【0061】
また,以上の実施の形態では,現像液供給ノズル70〜72等を移動可能にし,当該現像液供給ノズル70〜72等を蓋体66内に進入自在にしていたが,現像液供給ノズル等を蓋体内に固定して設けるようにしてもよい。このような場合,例えば,図11に示すように,蓋体100の内側上部に,現像液供給ノズル101〜103及び洗浄液供給ノズル104〜106を保持するための細長形状の水平ホルダ107を設ける。当該水平ホルダ107は,スピンチャック60上のウェハWの直径に対向する位置に設けられる。当該水平ホルダ107には,前記実施の形態と同様に現像液供給ノズル101〜103及び洗浄液供給ノズル104〜106が交互に並べられて設けられる。
【0062】
そして,ウェハWが現像処理される際には,前記実施の形態と同様にしてウェハWがスピンチャック60に保持された後,蓋体100が下降されて,カップ62の上面が塞がれる。その後,ウェハWが回転され,当該ウェハWに現像液供給ノズル101〜103から現像液が供給され,次いで洗浄液供給ノズル104〜106から洗浄液が供給される。そしてウェハWが振り切り乾燥され,現像処理が終了する。
【0063】
かかる場合においても,蓋体100によって現像液等の飛散が抑制され,周辺部材の汚染が抑制される。また,前記実施に形態で記載したようなスリット67が無いため,現像液等の飛散がより効果的に抑制される。
【0064】
なお,以上の実施の形態では,現像液供給ノズル及び洗浄液供給ノズルをそれぞれ3つずつ合計6つ使用していたが,当然これに限定されるものではなく,適宜必要に応じて,数を増減してもよい。また単数であってもよい。
【0065】
以上の実施の形態は,本発明を現像処理装置18について適用した例であったが,他の液処理装置,例えば現像処理装置19,塗布処理装置17,20等にも本発明を適用できる。
【0066】
また,以上で説明した実施の形態は,半導体ウェハデバイス製造プロセスのフォトリソグラフィー工程におけるウェハの液処理装置について適用したものであったが,本発明は半導体ウェハ以外の基板例えばLCD基板の液処理装置においても適用できる。
【0067】
【発明の効果】
本発明によれば,処理液やそのミストが他の周辺部材に付着し,周辺部材を汚染することが抑制できるので,メンテナンスが減少,短縮されて,その分スループットが向上される。また,周辺部材の汚染に起因する基板の汚染が抑制されるため,歩留まりの向上が図られる。
【図面の簡単な説明】
【符号の説明】
【図1】本実施の形態にかかる現像処理装置を有する塗布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図2】図1の塗布現像処理システムの正面図である。
【図3】図1の塗布現像処理システムの背面図である。
【図4】本実施の形態にかかる現像処理装置の縦断面の説明図である。
【図5】本実施の形態にかかる現像処理装置の横断面の説明図である。
【図6】蓋体の概略を示す斜視図である。
【図7】現像液供給ノズルと洗浄液供給ノズルの配置例を示す説明図である。
【図8】現像液供給ノズル等が蓋体内に進入した状態を示す現像処理装置の縦断面の説明図である。
【図9】蓋体に穴形状の進入口を設けた場合の現像処理装置の横断面の説明図である。
【図10】蓋体の進入口を穴形状に設けた場合の蓋体の縦断面の説明図である。
【図11】蓋体に現像液供給ノズル等と固定して設けた場合の現像処理装置の縦断面の説明図である。
【符号の説明】
1 塗布現像処理システム
18 現像処理装置
60 スピンチャック
62 カップ
64 排気管
66 蓋体
67 スリット
69 昇降機構
70〜72 現像液供給ノズル
73〜75 洗浄液供給ノズル
77 アーム
S 処理室
W ウェハ
Claims (8)
- 基板に処理液を供給して基板を処理する液処理装置において,
基板を処理する上面が開口した処理容器と,
当該処理容器内の基板に処理液を供給する複数の処理液供給ノズルと,
当該処理容器の上面を塞ぐ蓋体と,
前記複数の処理液供給ノズルを保持して上下動するアームと,を有し,
前記蓋体には,前記アームに保持された処理液供給ノズルを前記蓋体の内側に進入させるためのスリット状の進入口が設けられ,
前記アームは,前記進入口のスリットに沿って水平方向に延びる棒状に形成され,
前記蓋体におけるスリットの両端部には,前記アームが進入し底面が水平の水平部が形成されていることを特徴とする,液処理装置。 - 前記進入口は,前記処理容器内の基板の直径に対向する位置に設けられていることを特徴とする,請求項1に記載の液処理装置。
- 前記蓋体を昇降させる昇降機構を有することを特徴とする,請求項1又は2に記載の液処理装置。
- 前記処理容器内の雰囲気を排気する排気機構を有することを特徴とする,請求項1〜3のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記蓋体の内側は,中央に行くにつれて高くなる形状を有することを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記処理液供給ノズルは,前記処理液を噴霧するものであることを特徴とする,請求項1〜5のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記処理容器内の基板に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルを有することを特徴とする,請求項1〜6のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記処理液供給ノズルと前記洗浄液供給ノズルは,前記処理容器内の基板の同一直径上に対向する位置に,交互に配置されていることを特徴とする,請求項7に記載の液処理装置。
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