JP2024036246A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】液漏れによる弊害を防止可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置は、ノズル３１０、配管３１１，３１２、保護管３９１、ノズル駆動部４００および漏液センサを含む。ノズル３１０は、処理対象の基板に処理液を吐出する。配管３１１，３１２は、ノズル３１０に接続される。保護管３９１は、配管３１１，３１２の外周を取り囲む。ノズル駆動部４００は、ノズル３１０を移動させる。漏液センサは、配管３１１，３１２からの漏液を検出する。【選択図】図９

Description

本発明は、基板に処理液を用いた処理を行う基板処理装置に関する。

従来より、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の各種基板に処理液を用いた所定の処理を行うために、基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置として、現像液を用いて感光性膜の現像処理を行う現像装置がある。

例えば、特許文献１には、複数のノズルを有する現像処理装置が記載されている。複数のノズルは、移動機構によりレール上を移動自在に設けられたアームに保持される。現像処理を行わない期間には、複数のノズルはウェハの外方の待機位置で待機する。現像処理を行う期間には、複数のノズルは、ウェハの上方まで移動し、その後下降して、回転するウェハの表面に現像処理液を供給する。

特開２００２－２４６２９２号公報

ノズルには、処理液を供給するための配管が接続される。また、ノズルが移動可能である場合には、配管も移動可能に構成される。しかしながら、配管を移動可能に構成すると、配管の可動部分に伸縮、屈曲または捩じれ等の変形が繰り返し発生することにより、配管が破損しやすくなる。特に、特許文献１のように、複数のノズルが近接して配置される場合には、配管同士が擦れるため、配管がより破損しやすくなる。

配管が破損すると、基板の処理を適切に行うことができない。また、配管の破損箇所から処理液が飛散すると、基板処理装置が汚染または損傷する。そのため、液漏れによる弊害を防止することが求められる。

本発明の目的は、液漏れによる弊害を防止可能な基板処理装置を提供することである。

本発明の一局面に従う基板処理装置は、処理対象の基板に処理液を吐出するノズルと、前記ノズルに接続される配管と、前記配管の外周を取り囲む保護管と、前記ノズルを移動させるノズル駆動部と、前記配管からの漏液を検出する漏液センサとを備える。

本発明によれば、基板処理装置における液漏れによる弊害を防止することができる。

本発明の一実施の形態に係る現像装置の概略構成を説明するための模式的斜視図である。 図１の液処理ユニットの構成を説明するための一部分解斜視図である。 図２の液処理ユニットの一部の構成を説明するための模式的平面図である。 図２の液処理ユニットの一部の構成を説明するための模式的縦断面図である。 図２のノズルアームユニットの斜視図である。 ノズルアームユニットを所定の鉛直面で切断した縦断面図である。 図２の区画板および筒部材の外観斜視図である。 図２の区画板および筒部材の平面図である。 複数のノズルが待機位置と処理位置との間を移動する際のノズルアームユニットの動作を説明するための図である。 複数のノズルが待機位置と処理位置との間を移動する際のノズルアームユニットの動作を説明するための図である。 複数のノズルが待機位置と処理位置との間を移動する際のノズルアームユニットの動作を説明するための図である。 複数のノズルが待機位置と処理位置との間を移動する際のノズルアームユニットの動作を説明するための図である。 保護管の構成を説明するための模式的断面図である。 ユニットベースの斜視図である。 図１４のユニットベースの平面図である。 現像装置の模式的断面である。 液処理ユニットのカップが第２の状態にあるときの現像装置の模式的縦断面図である。 基板の現像処理時における現像装置の模式的縦断面図である。 図１の現像装置の制御部の構成を示すブロック図である。 現像装置による基板の現像処理時の基本動作を示すフローチャートである。

以下、本発明の実施の形態に係る基板処理装置について図面を参照しつつ説明する。以下の説明において、基板とは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。

基板処理装置の一例として、現像装置を説明する。本実施の形態において現像処理の対象となる基板は、主面および裏面を有する。また、本実施の形態に係る現像装置においては、基板の主面が上方に向けられ、基板の裏面が下方に向けられた状態で、基板の裏面（下面）が保持され、基板の主面（上面）に現像処理が行われる。

基板の主面の少なくとも中央部には露光処理後の感光性膜が形成されている。この感光性膜は、例えばネガ型の感光性ポリイミド膜である。露光されたネガ型の感光性ポリイミド膜を溶解する現像液として、シクロヘキサノンまたはシクロペンタノン等を含む有機溶剤が用いられる。また、リンス液として、イソプロピルアルコールまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等を含む有機溶剤が用いられる。

なお、本実施の形態において、「基板の現像処理」とは、基板の主面に形成された露光処理後の感光性膜に現像液を供給することにより、その感光性膜の一部を溶解することを意味する。

１．現像装置の構成
図１は、本発明の一実施の形態に係る現像装置の概略構成を説明するための模式的斜視図である。図１に示すように、現像装置１は、基本的に筐体ＣＡ内に２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢが収容された構成を有する。図１では、２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの概略形状が点線で示される。液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの構成の詳細については後述する。

筐体ＣＡは、水平面内で一方向に延びる略直方体の箱形状を有する。具体的には、筐体ＣＡは、第１の側壁板１ｗ、第２の側壁板２ｗ、第３の側壁板３ｗ、第４の側壁板４ｗ、床板５ｗおよび天井板６ｗが図示しないフレームに取り付けられることにより形成される。以下の説明では、水平面内で筐体ＣＡが延びる方向に平行な方向を適宜第１の方向Ｄ１と呼び、水平面内で第１の方向Ｄ１に直交する方向を適宜第２の方向Ｄ２と呼ぶ。２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢは、筐体ＣＡ内で第１の方向Ｄ１に並ぶように、後述するユニットベース上に配置されている。

第１の側壁板１ｗおよび第２の側壁板２ｗは、矩形の板形状を有し、上下方向および第１の方向Ｄ１に平行でかつ互いに対向するように設けられている。第３の側壁板３ｗおよび第４の側壁板４ｗは、矩形の板形状を有し、上下方向および第２の方向Ｄ２に平行でかつ互いに対向するように設けられている。

第２の側壁板２ｗには、筐体ＣＡの内部と筐体ＣＡの外部との間で基板を搬送するための２つの搬入搬出口ｐｈが形成されている。２つの搬入搬出口ｐｈは、第２の側壁板２ｗのうち第２の方向Ｄ２において液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに対向する２つの部分にそれぞれ形成されている。天井板６ｗには、第１の方向Ｄ１に並ぶように、２つの開口ｏｐ１が形成されている。天井板６ｗにおける２つの開口ｏｐ１の開口率は、筐体ＣＡの上端全体が上方に開放されている状態と同じ程度に十分に大きく設定されている。

天井板６ｗの２つの開口ｏｐ１をそれぞれ塞ぐように、天井板６ｗの上方に２つのフィルタＦＬが設けられている。なお、２つのフィルタＦＬは、天井板６ｗの直下に設けられてもよい。図１では、２つのフィルタＦＬが太い一点鎖線で示される。２つのフィルタＦＬは、例えばＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィルタであり、筐体ＣＡを構成する図示しないフレームまたは天井板６ｗに取り付けられている。筐体ＣＡの天井板６ｗ上には、２つのフィルタＦＬを取り囲むように空気ガイドＡＧが設けられている。図１では、空気ガイドＡＧが二点鎖線で示される。

筐体ＣＡの外部には、気体供給部１０が設けられている。気体供給部１０は、例えばエアコントロールユニットであり、現像装置１の電源がオンされている間、予め定められた条件を満たすように温度および湿度等の空気の状態を調整する。また、気体供給部１０は、状態が調整された空気を給気ダクトＤＵを通して空気ガイドＡＧに供給する。この場合、空気ガイドＡＧは、気体供給部１０から供給された空気を、２つのフィルタＦＬを通して天井板６ｗの２つの開口ｏｐ１に導く。それにより、温度および湿度等が調整された清浄な空気が筐体ＣＡ内に供給され、筐体ＣＡの内部空間ＳＰの全体に下降気流が発生する。

筐体ＣＡの外部には、さらに２つの流体供給部１１が設けられている。各流体供給部１１は、現像液供給源、リンス液供給源、気体供給源および各種流体関連機器を含み、流体供給経路１２を通して液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに現像液、リンス液および気体を供給する。図１では、流体供給経路１２が一点鎖線で示される。なお、本実施の形態において、流体供給経路１２は、１または複数の配管およびバルブ等により構成される。

現像装置１は、さらに制御部９０を有する。制御部９０は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリ、またはマイクロコンピュータを含み、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢおよび２つの流体供給部１１を制御する。制御部９０の詳細は後述する。

２．液処理ユニットの構成
（１）液処理ユニットの構成の概略
図１の２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢは、一部の構成要素が第１の方向Ｄ１に直交する面（鉛直面）を基準として互いに対称となるように設けられる点を除いて、基本的に同じ構成を有する。以下、２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢを代表して液処理ユニットＬＰＡの構成を説明する。図２は、図１の液処理ユニットＬＰＡの構成を説明するための一部分解斜視図である。図３は、図２の液処理ユニットＬＰＡの一部の構成を説明するための模式的平面図である。図４は、図２の液処理ユニットＬＰＡの一部の構成を説明するための模式的縦断面図である。図２～図４では、処理対象の基板Ｗが点線で示される。

図２に示すように、液処理ユニットＬＰＡは、区画板１００、筒部材２００、ノズルアームユニット３００、ノズル駆動部４００および待機ポッド５００を含む。また、液処理ユニットＬＰＡは、カップ４０、昇降駆動部４９、収容器５０、排気管６１、排液管６２、基板保持装置７０および吸引装置７８をさらに含む。図２では、複数の構成要素の構造の理解を容易にするために、液処理ユニットＬＰＡの複数の構成要素のうち一部の構成要素と他の構成要素とが上下に分離された状態で示される。

具体的には、図２においては、区画板１００、筒部材２００、ノズルアームユニット３００、ノズル駆動部４００および待機ポッド５００を含む一部の構成要素と、カップ４０、収容器５０および基板保持装置７０を含む他の構成要素とが上下に分離された状態で示される。図３および図４では、液処理ユニットＬＰＡの一部の構成として、カップ４０、収容器５０および基板保持装置７０の模式的平面図および模式的縦断面図がそれぞれ示される。

（２）カップおよび収容器
図１の筐体ＣＡ内では、収容器５０が後述するユニットベース上に固定される。図２に示すように、収容器５０は、側壁部５１および底部５２を含む。側壁部５１は、円環形状の水平断面を有し、一定の内径および一定の外径で上下方向に延びるように形成されている。底部５２は、側壁部５１の下端を閉塞するように形成されている。

底部５２には、３つの貫通孔が形成されている。３つの貫通孔のうち、２つの貫通孔は、基板保持装置７０を挟んで対向する。これらの２つの貫通孔の形成部分には、排気管６１がそれぞれ接続されている。各排気管６１は、筐体ＣＡ内の雰囲気を、筐体ＣＡの外部に設けられる図示しない排気装置に導く。収容器５０において、各排気管６１の端部（開口端）は底部５２よりも上方に位置する。

また、底部５２における残りの１つの貫通孔の形成部分に排液管６２がさらに接続されている。排液管６２は、基板Ｗの現像処理時に、後述するようにカップ４０から収容器５０の底部に流れる液体（現像液およびリンス液）を筐体ＣＡの外部に設けられる図示しない排液装置に導く。収容器５０において、排液管６２の端部（開口端）は各排気管６１の端部よりも下方に位置する。

収容器５０内には、基板保持装置７０の少なくとも下部が収容される。具体的には、基板保持装置７０は、吸着保持部７１、スピンモータ７２およびモータカバー７９（図４）を含む。図２および図３では、モータカバー７９の図示が省略されている。図３に示すように、スピンモータ７２は、平面視で収容器５０の中央に位置するように底部５２に固定されている。本例では、スピンモータ７２の下部は底部５２よりも下方に突出している。図４に示すように、スピンモータ７２には、上方に向かって延びるように回転軸７３が設けられている。回転軸７３の上端に吸着保持部７１が設けられている。吸着保持部７１は、収容器５０の上端よりも上方に突出している。

図２に示すように、収容器５０の外部には、吸引装置７８が設けられている。吸着保持部７１は、吸引装置７８が動作することにより基板Ｗの裏面中央部を吸着可能に構成されている。吸着保持部７１が基板Ｗの裏面中央部を吸着することにより、基板Ｗが収容器５０の上方の位置で水平姿勢で保持される。また、基板Ｗが吸着保持部７１により吸着保持された状態でスピンモータ７２が動作することにより、基板Ｗが水平姿勢で回転する。

図４に示すように、モータカバー７９は、略椀形状を有し、開放された径大部分が下方を向くように収容器５０に固定されている。モータカバー７９の上端中央部には回転軸７３を挿入可能な貫通孔が形成されている。モータカバー７９は、そのモータカバー７９の上端中央部の貫通孔に回転軸７３が挿入された状態で、回転軸７３を除くスピンモータ７２の上端部分と水平面内でスピンモータ７２を取り囲む一定幅の空間とを上方から覆っている。モータカバー７９の外周端部と側壁部５１の内周面との間には、一定幅の隙間が形成されている。

ここで、上記の各排気管６１の端部は、モータカバー７９の下方に位置する。それにより、基板Ｗの現像処理時に、収容器５０の上方から落下する液体（現像液およびリンス液）が各排気管６１の内部に進入することが防止される。

図２に示すように、収容器５０内には、基板保持装置７０の下部に加えて、カップ４０の少なくとも下端が収容される。ここで、カップ４０は、収容器５０内で上下方向に移動可能に構成されている。また、カップ４０は、筒状壁部４１および液受け部４２を含む。筒状壁部４１および液受け部４２の各々は、円環形状の水平断面を有し、少なくとも上下方向に延びるように設けられている。図３に示すように、カップ４０は、平面視で基板保持装置７０を取り囲むように構成されている。

図４に示すように、液受け部４２の外径および内径は、液受け部４２の上端から下方に向かうにつれて漸次拡大されている。液受け部４２の下端の外径（液受け部４２の最大外径）は、収容器５０の側壁部５１の内径よりも小さい。そのため、液受け部４２の外周端部と側壁部５１の内周面との間には、一定幅の隙間が形成されている。筒状壁部４１は、一定の内径および一定の外径で、液受け部４２の上端から上方に向かって延びるように形成されている。

図２に示すように、図１の筐体ＣＡ内で収容器５０の近傍には昇降駆動部４９が設けられる。昇降駆動部４９は、モータまたはエアシリンダ等の駆動機構を含み、カップ４０を支持するとともにカップ４０を上下動させることにより、カップ４０を第１の状態と第２の状態とに移行させる。カップ４０の第１の状態および第２の状態については後述する。

（３）ノズル駆動部および待機ポッド
図１の筐体ＣＡ内では、ノズル駆動部４００が第１の方向Ｄ１において収容器５０に隣り合うように設けられている。ノズル駆動部４００は、回転軸４０１を有するモータとアクチュエータとを含む。アクチュエータは、エアシリンダ、液圧シリンダまたはモータ等を含み、回転軸４０１を有するモータが上下方向に移動可能となるように、当該モータをユニットベース上に支持する。回転軸４０１は、ノズル駆動部４００の上端部に位置する。

図１の筐体ＣＡ内では、ユニットベース上に待機ポッド５００がさらに設けられている。ノズル駆動部４００および待機ポッド５００は、収容器５０の側方の位置で間隔をおいて第２の方向Ｄ２に並ぶ。待機ポッド５００は、第２の方向Ｄ２に一定長さ延びる箱形状を有する。待機ポッド５００の上面には、後述する複数のノズル３１０の噴射部を収容するための複数の待機孔が形成されている。

待機ポッド５００には、複数のノズル３１０の待機時に、複数のノズル３１０から噴射された液体または落下した液体を筐体ＣＡの外部に排出する排液管（図示せず）が接続されている。また、待機ポッド５００には、当該待機ポッド５００内部の雰囲気を筐体ＣＡの外部に排出する排気管（図示せず）が接続されている。

（４）ノズルアームユニット
回転軸４０１の上端部に、ノズルアームユニット３００が取り付けられている。ノズルアームユニット３００は、回転軸４０１の上端部に取り付けられた状態で、回転軸４０１とは異なる方向に直線状に延びる長手形状を有する。ノズルアームユニット３００は、複数（本例では６個）のノズル３１０、支持体３２０およびカバー部材３３０から構成されるノズルヘッド３００Ｈを含む。

図５は、図２のノズルアームユニット３００の斜視図である。図６は、ノズルアームユニット３００を所定の鉛直面で切断した縦断面図である。図５では、ノズルアームユニット３００の内部構造が理解しやすいように、カバー部材３３０が他の構成要素から分離された状態で示される。

支持体３２０は、例えば所定形状に切り抜き加工またはレーザ加工された一枚の金属板を適宜折り曲げ加工することにより作製される。あるいは、所定形状に加工された複数の金属板をねじ止めまたは溶接等で接続することにより作製される。また、支持体３２０は、一方向に延びるように形成され、一端部３２１および他端部３２２を有する。また、支持体３２０は、一端部３２１の近傍から他端部３２２に向かって間隔をおいて並ぶように３つのノズル固定部３２３を有する。３つのノズル固定部３２３の各々には、２つのノズル３１０が取り付けられている。さらに、支持体３２０は、配管固定部３２４および２つのカバー取り付け部３２５を有する。配管固定部３２４は、他端部３２２の近傍に位置する。配管固定部３２４およびカバー取り付け部３２５については後述する。

各ノズル固定部３２３に設けられる２つのノズル３１０のうち一方は、基板Ｗに現像液を供給するために用いられる。また、各ノズル固定部３２３に設けられる２つのノズル３１０のうち他方は、基板Ｗにリンス液を供給するために用いられる。また、本実施の形態に係る全てのノズル３１０の各々は、液体および気体の混合流体を噴射可能なソフトスプレー方式の二流体ノズルである。そのため、各ノズル３１０は、当該ノズル３１０内に液体および気体を導入するための２つの流体導入部３１０ａ，３１０ｂと、混合流体を噴射する噴射部３１０ｃとを有する。

各ノズル３１０は、噴射部３１０ｃが下方に向く状態で支持体３２０に固定されている。この状態で、各ノズル３１０の上端部に、当該ノズル３１０内に液体を導入するための流体導入部３１０ａが設けられている。また、各ノズル３１０の側部に、当該ノズル３１０内に気体を導入するための流体導入部３１０ｂが設けられている。

各ノズル３１０の流体導入部３１０ａには、当該ノズル３１０に液体（本例では、現像液またはリンス液）を供給するための配管３１１の一端が接続される。また、各ノズル３１０の流体導入部３１０ｂには、当該ノズル３１０に気体（本例では、窒素ガス）を供給するための配管３１２の一端が接続される。配管３１１，３１２は、柔軟性を有する樹脂材料で形成される。このような樹脂材料としては、例えばＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）、ＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）等がある。

ノズル駆動部４００の回転軸４０１の上端部に、支持体３２０の他端部３２２が取り付けられる。この状態で、支持体３２０の長手方向における略中央部には、水平かつ平坦な支持面ＳＳが形成されている。複数の配管３１１，３１２の各々の一部は、支持面ＳＳ上で、当該配管が接続されたノズル３１０から配管固定部３２４に向かって延びるように設けられる。

配管固定部３２４は、支持面ＳＳの一部で構成される。配管固定部３２４においては、複数の配管３１１，３１２が束ねられる。この状態で、配管固定部３２４を構成する支持面ＳＳ上に、逆Ｕ字形状を有する配管固定片３２９がねじ止めされる。これにより、複数の配管３１１，３１２が支持体３２０の他端部３２２近傍で固定される。複数の配管３１１，３１２のうち配管固定部３２４から支持体３２０の外方に延びる部分は、束ねられた状態で保護管３９１の内部に収容される。保護管３９１は、例えばゴムまたは樹脂で形成され、柔軟性を有する。

カバー部材３３０は、下方が開放された箱形状を有する。具体的には、本例のカバー部材３３０は、上面部３３１、一方端面部３３２、他方端面部３３３、一方側面部３３４および他方側面部３３５から構成される。上面部３３１は、平面視で後述する区画板１００のノズル開口よりも大きい長方形状を有する。一方端面部３３２、他方端面部３３３、一方側面部３３４および他方側面部３３５は、上面部３３１の外縁の４辺からそれぞれ下方に延びている。一方端面部３３２および他方端面部３３３は互いに対向し、一方側面部３３４および他方側面部３３５は互いに対向している。他方端面部３３３には、切り欠き３３３Ｎが形成されている。

上記のように、支持体３２０は、２つのカバー取り付け部３２５を有する。２つのカバー取り付け部３２５は、支持体３２０の上端に位置する。各カバー取り付け部３２５には、ねじ孔が形成されている。カバー部材３３０の上面部３３１においては、支持体３２０の２つのカバー取り付け部３２５に対応する２つの部分に貫通孔３３１ｈが形成されている。

支持体３２０に複数のノズル３１０が取り付けられかつ複数のノズル３１０に複数の配管３１１，３１２が接続されかつ複数の配管３１１，３１２が固定された状態で、支持体３２０にカバー部材３３０が取り付けられる。具体的には、カバー部材３３０の２つの貫通孔３３１ｈが支持体３２０の２つのカバー取り付け部３２５上に位置決めされ、カバー部材３３０が支持体３２０にねじ止めされる。

それにより、支持体３２０のうち一端部３２１から他端部３２２の近傍までの部分が、カバー部材３３０により上方および側方から覆われる。一方、支持体３２０の残りの部分は、カバー部材３３０の他方端面部３３３に形成された切り欠き３３３Ｎを通して引き出される。このようにして、支持体３２０の一部がカバー部材３３０内に収容される。また、支持体３２０により支持される複数のノズル３１０の一部がカバー部材３３０内に収容される。さらに、支持体３２０により支持される複数の配管３１１，３１２の一部がカバー部材３３０内に収容される。図５では、支持体３２０に取り付けられた場合のカバー部材３３０の状態が二点鎖線で示される。

ここで、支持体３２０において、配管固定部３２４は、支持体３２０の他端部３２２とカバー部材３３０の他方端面部３３３との間に位置する。配管固定片３２９は、カバー部材３３０から引き出される複数の配管３１１，３１２が他方端面部３３３の切り欠き３３３Ｎの内縁に接触しないように、複数の配管３１１，３１２を束ね、配管固定部３２４に固定する。図６に示すように、支持体３２０にカバー部材３３０が取り付けられた状態で、流体導入部３１０ａを除く各ノズル３１０の大部分は、カバー部材３３０の下方に突出している。

（５）区画板および筒部材
図７は、図２の区画板１００および筒部材２００の外観斜視図である。図８は、図２の区画板１００および筒部材２００の平面図である。図７および図８に示すように、筒部材２００は、円筒形状を有し、図示しないブラケットを介して筐体ＣＡ（図１）の一部に固定されている。筒部材２００の内径は、カップ４０の筒状壁部４１（図３）の外径よりも大きい。また、筒部材２００は、平面視で筒部材２００の中心軸がカップ４０の中心軸に略一致するように位置決めされている。それにより、例えばカップ４０が上昇する場合には、カップ４０と筒部材２００との接触を防止しつつカップ４０の上端部を筒部材２００内に挿入することができる。

区画板１００は、略円板形状を有し、筒部材２００の上端部近傍でかつ筒部材２００の内周面全体に接するように、筒部材２００に取り付けられている。区画板１００の略中央部には、第１の方向Ｄ１に延びる長方形のノズル開口１１０が形成されている。ノズル開口１１０は、基板Ｗの現像処理時に、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの中央部分に対向する。図７に示すように、区画板１００におけるノズル開口１１０の形成部分には、ノズル開口１１０の内縁から上方に一定長さ（例えば５ｍｍ～１０ｍｍ程度）延びる壁部１１１が形成されている。

また、図８に示すように、区画板１００には、複数の貫通孔Ｈがノズル開口１１０を除く区画板１００の全体に渡って分散するように形成されている。区画板１００に形成される複数の貫通孔Ｈの数および大きさは、後述する処理空間と非処理空間との間の圧力の関係を考慮して定められる。

複数の貫通孔Ｈの配置に関して、具体的には、図８に点線で示すように、平面視で区画板中心１００Ｃを基準として所定ピッチの同心円（複数の仮想円ｖｃ１）を定義する。この場合、複数の貫通孔Ｈは、各仮想円ｖｃ１上で等間隔で並ぶように分散して形成されている。また、複数の仮想円ｖｃ１のうち最も大きい仮想円ｖｃ１上に形成される貫通孔Ｈの数は、他の仮想円ｖｃ１上に形成される貫通孔Ｈの数よりも大きい。また、本例では、複数の仮想円ｖｃ１のうち最も大きい仮想円ｖｃ１のみが、ノズル開口１１０の全体を取り囲む。そのため、最も大きい仮想円ｖｃ１には、その仮想円ｖｃ１の全体に渡って一定の間隔をおいて並ぶように複数の貫通孔Ｈが形成されている。

さらに、図８に太い二点鎖線で示すように、区画板中心１００Ｃを中心として区画板１００の半径の１／２の半径を有する仮想円ｖｃ２を定義する。ここで、仮想円ｖｃ２の内側の領域を中央領域Ａ１とし、仮想円ｖｃ２の外側の領域を外周領域Ａ２とした場合に、外周領域Ａ２に形成される貫通孔Ｈの数は、中央領域Ａ１に形成される貫通孔Ｈの数よりも大きい。

（６）ノズルアームユニットの動作
上記のように、ノズルアームユニット３００は、ノズル駆動部４００の回転軸４０１に取り付けられている。したがって、ノズル駆動部４００のモータが上下方向に移動すると、ノズルアームユニット３００は上下方向に移動する。また、ノズル駆動部４００のモータが動作すると、ノズルアームユニット３００は回転軸４０１を中心として水平面内で回転する。これにより、ノズルアームユニット３００の複数のノズル３１０は、基板Ｗに対する現像処理が行われない間、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの側方の待機位置Ｐ１で保持される。また、複数のノズル３１０は、基板Ｗに対する現像処理が行われる間、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの上方の処理位置Ｐ２で保持される。図２に、待機位置Ｐ１および処理位置Ｐ２がそれぞれ白抜きの矢印で示される。

図９～図１２は、複数のノズル３１０が待機位置Ｐ１と処理位置Ｐ２との間を移動する際のノズルアームユニット３００の動作を説明するための図である。図９～図１２では、複数のノズル３１０が待機位置Ｐ１から処理位置Ｐ２に移動する際のノズルアームユニット３００およびその周辺部材の状態が、時系列順に外観斜視図で示される。なお、図９～図１２に記載された区画板１００においては、図２の例と同様に、複数の貫通孔Ｈの図示が省略されている。

まず、図９に示すように、複数のノズル３１０が待機位置Ｐ１にある状態で、ノズルアームユニット３００は、区画板１００および筒部材２００の側方に位置し、第２の方向Ｄ２に平行に延びる状態で保持される。このとき、ノズルアームユニット３００は、複数のノズル３１０の噴射部３１０ｃ（図６）が、待機ポッド５００の複数の待機孔５１０（図１０）内に収容されるように位置決めされる。

図９の状態でノズル駆動部４００が動作を開始すると、図１０に太い実線の矢印で示すように、ノズルアームユニット３００が回転軸４０１とともに、筒部材２００よりも上方の高さ位置まで上昇する。それにより、複数のノズル３１０の噴射部３１０ｃ（図６）が、待機ポッド５００の複数の待機孔５１０から引き出される。

次に、ノズル駆動部４００の回転軸４０１が所定角度（本例では９０°）回転する。それにより、図１１に太い実線の矢印で示すように、ノズルアームユニット３００が回転軸４０１を中心として回転する。それにより、ノズルアームユニット３００は、第１の方向Ｄ１に平行に延びる状態で保持される。このとき、ノズルアームユニット３００は、平面視でカバー部材３３０が区画板１００のノズル開口１１０に重なるように位置決めされる。

次に、ノズル駆動部４００の回転軸４０１が下降する。それにより、図１２に太い実線の矢印で示すように、カバー部材３３０が下降する。このとき、ノズルアームユニット３００の高さ位置は、カバー部材３３０が区画板１００に接触しないようにかつ十分に近づくように調整される。それにより、ノズル開口１１０における気体の流通が低減される。このようにして、区画板１００のノズル開口１１０がカバー部材３３０により覆われた状態で、複数のノズル３１０が処理位置Ｐ２に保持される。

（７）保護管
ノズルアームユニット３００から外方に延びる複数の配管３１１，３１２の部分は、ノズルアームユニット３００の移動または回転に応じて、伸縮、屈曲または捩じれ等の変形が可能な可動部となる。複数の配管３１１，３１２の可動部は、保護管３９１により覆われている。図９～図１２に示すように、図１の筐体ＣＡ内には、当該筐体ＣＡの一部（例えばユニットベース）に保護管３９１の一部を保持するための保持部３９２が設けられている。保持部３９２は、ノズルアームユニット３００から延びる保護管３９１の一部を筐体ＣＡに固定する。

図１３は、保護管３９１の構成を説明するための模式的断面図である。図１３に示すように、保護管３９１は蛇腹形状を有する。保持部３９２は、例えばクランプであり、保護管３９１の外周面における蛇腹の谷部を保持する。この場合、保護管３９１の柔軟性を維持しつつ保護管３９１を保持することができる。

本例では、図６のノズルアームユニット３００は６つのノズル３１０を有し、各ノズル３１０には２つの配管３１１，３１２が接続される。したがって、本例では、保護管３９１内には、１２の配管３１１，３１２が挿通される。保護管３９１の内部において、保護管３９１の内周面と、配管３１１，３１２との間には隙間が設けられる。この場合、各配管３１１，３１２は、容易に変形することができる。

上記の構成によれば、ノズルアームユニット３００と保持部３９２との間に位置する複数の配管３１１，３１２は、保護管３９１により変形可能に束ねられる。したがって、図１の筐体ＣＡ内部における複数の配管３１１，３１２の取り扱い性が向上する。また、保護管３９１が柔軟性を有するので、ノズルアームユニット３００の移動および回転の自由度が保護管３９１により制限されることがない。保護管３９１により束ねられた複数の配管３１１，３１２は、保持部３９２の近傍で保護管３９１から引き出され、図１の流体供給部１１の流体供給経路１２に接続される。

ここで、配管３１１，３１２の可動部は、繰り返し発生する変形または擦れにより破損することがある。しかしながら、いずれかの配管３１１の破損個所から液漏れが発生した場合でも、配管３１１は保護管３９１により覆われているので、漏液は、保護管３９１の内周面により受け止められ、重力により下方に導かれる。これにより、漏液が飛散することが防止される。下方に導かれた漏液は、保護管３９１の下端部から排出され、漏液センサにより検出される。詳細は後述する。

本例では、保護管３９１はポリアミドにより形成される。この場合、保護管３９１は高い耐薬性を有する。これにより、保護管３９１に現像液またはリンス液等の液体が付着した場合でも、保護管３９１が腐食することが防止される。保護管３９１は、耐薬性を有する限り、他のゴムまたは樹脂により形成されてもよい。

（８）ユニットベース
図１４は、ユニットベースの斜視図である。図１５は、図１４のユニットベースの平面図である。図１４および図１５に示すように、ユニットベース６００は、略長方形状を有するベースプレート６１０を含む。ベースプレート６１０の略中央部には、第１の方向Ｄ１に並ぶように２つのユニット配置領域６２０が設けられる。２つのユニット配置領域６２０には、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢがそれぞれ配置される。

なお、上記のように、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにおいては、スピンモータ７２の下部は収容器５０の底部５２よりも下方に突出している（図４）。そのため、各ユニット配置領域６２０には、円形状の開口６２１が形成されている。各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢが対応するユニット配置領域６２０に配置されたときには、スピンモータ７２の下部が開口６２１内に収容される。これにより、スピンモータ７２とベースプレート６１０とが干渉することが防止される。

各ユニット配置領域６２０には、図４の排気管６１に接続される排気ダクトが設けられる。この排気ダクトを通して、排気管６１からの排気が図示しない排気装置に導かれる。また、各ユニット配置領域６２０には、図４の排液管６２に接続される管路が設けられる。この管路を通して、排液管６２からの排液が図示しない排液装置に導かれる。

ベースプレート６１０の１つの角部近傍には、液処理ユニットＬＰＡに対応する保持部３９２が設けられる。ベースプレート６１０の他の１つの角部近傍には、液処理ユニットＬＰＢに対応する保持部３９２が設けられる。図１４および図１５では、液処理ユニットＬＰＢに対応する保持部３９２のみが図示され、液処理ユニットＬＰＡに対応する保持部３９２の図示が省略されている。また、一方の保持部３９２により保持される保護管３９１のみが図示されており、当該保護管３９１により束ねられる複数の配管３１１，３１２（図１３）の図示が省略されている。

ベースプレート６１０上における２つのユニット配置領域６２０の周囲および２つのユニット配置領域６２０の間には、溝部６３０が形成されている。各保持部３９２に保持される保護管３９１の下端部は、溝部６３０内に収容される。また、保護管３９１により束ねられた複数の配管３１１，３１２の下流部分は、図６の複数のノズル３１０に接続される。複数の配管３１１，３１２の上流部分は、保護管３９１から引き出され、溝部６３０内に収容された状態で、図１の流体供給部１１の流体供給経路１２に接続される。

溝部６３０には、ベースプレート６１０を上下に貫通する複数（本例では６つ）の排液孔６３１～６３６が形成される。排液孔６３１と排液孔６３４とは、一方のユニット配置領域６２０を挟んで第２の方向Ｄ２に並ぶように配置される。排液孔６３３と排液孔６３６とは、他方のユニット配置領域６２０を挟んで第２の方向Ｄ２に並ぶように配置される。排液孔６３２は、第１の方向Ｄ１における排液孔６３１と排液孔６３３との略中間位置に配置される。排液孔６３５は、第１の方向Ｄ１における排液孔６３４と排液孔６３６との略中間位置に配置される。

上記の構成によれば、保護管３９１に覆われた配管３１１の可動部が破損することにより液漏れが発生した場合でも、漏液は保護管３９１から排出され、溝部６３０内に導かれる。また、溝部６３０内に導かれた漏液は、排液孔６３１～６３６のいずれかを通って落下する。ここで、排液孔６３１～６３６から落下した漏液は、後述するバットにより受け止められる。

（９）バット
図１６は、現像装置１の模式的断面である。図１６に示すように、筐体ＣＡ内において、ユニットベース６００の下方にはバット７００が配置される。バット７００は、上方が開放された箱形状を有する。具体的には、バット７００は、下面部７１０、一方端面部７２０、他方端面部７３０、一方側面部７４０および他方側面部７５０から構成される。

下面部７１０は、平面視でユニットベース６００のベースプレート６１０（図１６）と同程度の大きさの長方形状を有する。一方端面部７２０、他方端面部７３０、一方側面部７４０および他方側面部７５０は、下面部７１０の外縁の４辺からそれぞれ上方に延びている。一方端面部７２０および他方端面部７３０は互いに対向し、一方側面部７４０および他方側面部７５０は互いに対向している。

下面部７１０の上面は、テーパ状に形成される。これにより、下面部７１０の上面には、最も低い部分が設けられる。下面部７１０の上面における最も低い部分には、貫通孔７１１が形成される。貫通孔７１１は、排液装置に接続される。また、貫通孔７１１の近傍には、漏液センサ７６０が配置される。

本例では、下面部７１０の上面において、中央部から外方に向かうにつれて上面の高さが漸次増加する。したがって、下面部７１０の上面において、中央部が最も低い部分となり、下面部７１０の中央部に漏液センサ７６０が配置される。しかしながら、実施の形態はこれに限定されない。下面部７１０の上面における最も低い部分は、中央部とは異なる位置に設けられてもよい。

上記の構成によれば、図１５のユニットベース６００の排液孔６３１～６３６から落下した漏液は、バット７００の下面部７１０により受け止められる。受け止められた漏液は、下面部７１０の傾斜した上面に沿って最も低い部分に導かれ、貫通孔７１１から排液装置に排出される。また、下面部７１０により受け止められた漏液は、貫通孔７１１の近傍で漏液センサ７６０に接触することにより、液漏れが発生したことが検知される。これにより、現像装置１を停止させる等の適切な措置を行うことが可能になる。

（１０）カップの動作
現像装置１においては、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに対する基板Ｗの搬入搬出時に、カップ４０が第１の状態で維持される。一方、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの現像処理時に、カップ４０が第２の状態で維持される。カップ４０の第１の状態および第２の状態について説明する。

図１７は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのカップ４０が第２の状態にあるときの現像装置１の模式的縦断面図である。なお、図１６は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのカップ４０が第１の状態にあるときの現像装置１の模式的縦断面図である。図１６および図１７では、待機位置Ｐ１にあるノズルアームユニット３００が点線で示される。また、図１６および図１７では、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの複数の構成要素のうちの一部の構成要素の図示が省略されている。

図１６に示すように、カップ４０は、第１の状態にあるときに、収容器５０の内部に位置する。すなわち、カップ４０は、第１の状態にあるときに、側面視で収容器５０に重なり、筒部材２００から離間する。したがって、カップ４０が第１の状態にあるときには、カップ４０および収容器５０の側方から基板保持装置７０に対するアクセスが可能になる。それにより、現像装置１の外部から搬入される基板Ｗを液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸着保持部７１上に載置することができる。また、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸着保持部７１上に載置された基板Ｗを取り出し、現像装置１の外部に搬出することができる。

カップ４０の高さ（上下方向の寸法）は、上下方向における筒部材２００と収容器５０との間の距離よりも大きくなるように設定されている。図１７に示すように、カップ４０は、第２の状態にあるときに、側面視で筒部材２００の下端部および収容器５０の上端部に重なる。このとき、カップ４０の上端部と筒部材２００の下端部近傍の内周面とが近接する。また、カップ４０の下端部と収容器５０の上端部近傍の内周面とが近接する。

（１１）処理空間および非処理空間
基板Ｗの現像処理時には、カップ４０が第２の状態に保持されるとともに、ノズルアームユニット３００の複数のノズル３１０が処理位置Ｐ２に配置される。図１８は、基板Ｗの現像処理時における現像装置１の模式的縦断面図である。図１８に示すように、基板Ｗの現像処理時には、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの各々において、複数のノズル３１０が処理位置Ｐ２（図１２）に配置され、カバー部材３３０が区画板１００のノズル開口１１０を覆う。それにより、筐体ＣＡの内部空間ＳＰが、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの区画板１００、筒部材２００、カバー部材３３０、カップ４０および収容器５０により、処理空間ＳＰａと非処理空間ＳＰｂとに区画される。処理空間ＳＰａは基板保持装置７０により保持される基板Ｗを含む空間であり、非処理空間ＳＰｂは処理空間ＳＰａを取り囲む空間である。

非処理空間ＳＰｂには、図１８に白抜きの矢印で示すように、上方から清浄な空気が継続して供給される。また、非処理空間ＳＰｂに供給される清浄な空気の一部は、区画板１００の複数の貫通孔Ｈ（図８）を通して処理空間ＳＰａに供給される。これにより、筐体ＣＡ内では、２つの処理空間ＳＰａおよび非処理空間ＳＰｂにそれぞれ清浄な下降気流が形成される。

各処理空間ＳＰａを形成するカップ４０の液受け部４２の内周面は、基板保持装置７０により保持される基板Ｗを水平面内で取り囲む。それにより、基板Ｗの現像処理時に複数のノズル３１０から基板Ｗに供給される現像液およびリンス液の大部分は、液受け部４２の内周面により受け止められて、収容器５０へ導かれる。一方、液受け部４２により受け止められず、基板Ｗの周りに飛散する現像液またはリンス液の飛沫は、処理空間ＳＰａ内に形成される下降気流により収容器５０へ導かれる。

処理空間ＳＰａ内で基板保持装置７０により基板Ｗが回転する際には、基板Ｗの周縁部近傍でカップ４０および筒部材２００の内周面に沿って下方から上方に向かう気流（上昇気流）が生じる場合がある。この場合、現像液またはリンス液の飛沫を含む雰囲気が処理空間ＳＰａ内で上昇すると、それらの飛沫が区画板１００の下面および筒部材２００の内周面に付着する可能性がある。また、それらの飛沫が基板Ｗに再付着する可能性がある。

そこで、図８を用いて説明したように、区画板１００は、基板Ｗ上に同心円を定義した場合に、最も大きい仮想円ｖｃ１上に形成される貫通孔Ｈの数が他の仮想円ｖｃ１上に形成される貫通孔Ｈの数よりも大きくなるように作製される。さらに、区画板１００は、ノズル開口１１０を取り囲む最も大きい仮想円ｖｃ１の全体に渡って一定間隔で複数の貫通孔Ｈが分散配置されるように作製される。あるいは、区画板１００は、区画板１００上に中央領域Ａ１と外周領域Ａ２とを定義した場合に、外周領域Ａ２に形成される貫通孔Ｈの数が中央領域Ａ１に形成される貫通孔Ｈの数よりも大きくなるように作製される。

区画板１００の上記の構成によれば、処理空間ＳＰａにおいて、基板Ｗの中央部分に導かれる下降気流の量に対して、カップ４０の内周面近傍に導かれる下降気流の量を大きくすることができる。特に、ノズル開口１１０を取り囲む最も大きい仮想円ｖｃ１の全体に渡って一定間隔で複数の貫通孔Ｈが分散配置される場合には、カップ４０の内周面全周に渡って、その近傍に下降気流を形成することができる。それにより、基板Ｗの回転時に、カップ４０の内周面近傍で上昇気流が発生することが抑制される。したがって、処理空間ＳＰａにおいて、基板Ｗに供給された現像液またはリンス液が基板Ｗの外周端部近傍で上方に向かって飛散することが抑制される。その結果、区画板１００の下面および筒部材２００の内周面に、現像液またはリンス液の飛沫が付着することが抑制される。また、基板Ｗへの現像液またはリンス液の再付着が抑制される。

３．現像装置の制御部の構成
図１９は、図１の現像装置１の制御部９０の構成を示すブロック図である。図１９に示すように、制御部９０は、第１の昇降制御部９１、流体制御部９２、第１の回転制御部９３、吸引制御部９４、第２の昇降制御部９５、第２の回転制御部９６および漏液判定部９７を含む。図１９の制御部９０の各部の機能は、例えばＣＰＵがメモリに記憶された所定のプログラムを実行することにより実現される。

第１の昇降制御部９１は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部４９の動作を制御する。それにより、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのカップ４０が第１の状態と第２の状態とに移行する。流体制御部９２は、図１の２つの流体供給部１１の動作を制御する。それにより、各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢ内で複数のノズル３１０のうち一部のノズル３１０から現像液と気体との混合流体が噴射され、他のノズル３１０からリンス液と気体との混合流体が噴射される。また、流体制御部９２は、漏液判定部９７から後述の漏液信号が与えられた場合には、流体の供給を停止するように流体供給部１１の動作を制御する。

第１の回転制御部９３は、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２の動作を制御する。また、吸引制御部９４は、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置７８の動作を制御する。それにより、各基板保持装置７０において基板Ｗが水平姿勢で吸着保持され、回転される。

第２の昇降制御部９５および第２の回転制御部９６は、図１の液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのノズル駆動部４００の動作を制御する。具体的には、第２の昇降制御部９５は、各ノズル駆動部４００のアクチュエータの動作を制御する。第２の回転制御部９６は、各ノズル駆動部４００の回転軸４０１を有するモータの動作を制御する。漏液判定部９７は、漏液センサ７６０により漏液が検出されたか否かを判定する。漏液が検出されたと判定された場合には、漏液判定部９７は、液漏れが検出されたことを示す漏液信号を流体制御部９２に与える。

４．現像装置の基本動作
現像装置１の基本動作について説明する。図２０は、現像装置１による基板Ｗの現像処理時の基本動作を示すフローチャートである。初期状態においては、気体供給部１０から現像装置１に温度および湿度等が調整された空気が供給されている。また、筐体ＣＡ内の雰囲気は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの排気管６１から図示しない排気装置に導かれている。筐体ＣＡ内には清浄な下降気流が形成されている。さらに、初期状態においては、カップ４０は、第１の状態で保持されているものとする。また、複数のノズル３１０は、待機位置Ｐ１に保持されているものとする。

基板Ｗの現像処理の開始前には、まず、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに処理対象となる基板Ｗが搬入される。また、図１６に示すように、基板保持装置７０の吸着保持部７１上に基板Ｗが載置される。基板Ｗの現像処理が開始されると、図１９の吸引制御部９４は、基板保持装置７０の吸着保持部７１により基板Ｗが吸着されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置７８を制御する（ステップＳ１１）。

次に、図１９の第１の昇降制御部９１は、カップ４０が第１の状態から第２の状態へ移行するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部４９を制御する（ステップＳ１２）。

次に、図１９の第２の昇降制御部９５および第２の回転制御部９６は、複数のノズル３１０が待機位置Ｐ１から処理位置Ｐ２に移動するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのノズル駆動部４００を制御する（ステップＳ１３）。

次に、図１９の第１の回転制御部９３は、基板Ｗが回転軸７３の周りで回転するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２を制御する（ステップＳ１４）。

次に、図１９の流体制御部９２は、複数のノズル３１０のうち一部のノズル３１０から基板Ｗに予め定められた時間現像液が供給されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの流体供給部１１を制御する（ステップＳ１５）。また、図１９の流体制御部９２は、複数のノズル３１０のうち他のノズル３１０から基板Ｗに予め定められた時間リンス液が供給されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの流体供給部１１を制御する（ステップＳ１６）。

ここで、複数の配管３１１に破損が発生している場合には、漏液センサ７６０により漏液が検出される。そこで、図１９の漏液判定部９７は、漏液センサ７６０により漏液が検出されたか否かを判定する（ステップＳ１８）。ステップＳ１８は、ステップＳ１５，Ｓ１６と並列的に同時に実行されてもよい。

漏液が検出されない場合、図１９の第１の回転制御部９３は、リンス液の供給停止から一定時間経過するまで基板Ｗの回転を継続させることにより基板Ｗを乾燥させる。また、図１９の第１の回転制御部９３は、リンス液の供給停止から一定時間経過後に基板Ｗの回転が停止するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのスピンモータ７２を制御する（ステップＳ１８）。

次に、図１９の第２の昇降制御部９５および第２の回転制御部９６は、複数のノズル３１０が処理位置Ｐ２から待機位置Ｐ１に移動するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢのノズル駆動部４００を制御する（ステップＳ１９）。

次に、図１９の第１の昇降制御部９１は、カップ４０が第２の状態から第１の状態へ移行するように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの昇降駆動部４９を制御する（ステップＳ２０）。

最後に、図１９の吸引制御部９４は、基板保持装置７０の吸着保持部７１による基板Ｗの吸着が解除されるように、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸引装置７８を制御する（ステップＳ２１）。それにより、基板Ｗの現像処理が終了する。現像処理後の基板Ｗは、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢから搬出される。

一方、ステップＳ１７で漏液が検出された場合、図１９の漏液判定部９７は流体制御部９２に漏液信号を与える。これにより、流体制御部９２は、現像液およびリンス液の供給を停止するように液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの流体供給部１１を制御する（ステップＳ２２）。その後、現像処理が終了される。

なお、ステップＳ１７で漏液が検出された場合、漏液判定部９７は、漏液が発生したことを現像装置１の使用者に通知してもよい。漏液判定部９７による通知の例として、現像装置１が表示装置を含む場合には、異常が発生したことを示す文字列が表示されてもよい。現像装置１が音声出力装置を含む場合には、同様の内容を示す音声が出力されてもよいし、ブザー等の警告音が出力されてもよい。現像装置１がランプ等の表示灯を含む場合には、警告の内容に対応する態様で表示灯が点灯、消灯または点滅されてもよい。

また、上記の通知が行われる場合には、現像装置１の使用者は液漏れが発生したことを認識し、適切な対処を行うことが可能である。そのため、ステップＳ２２は実行されなくてもよい。

５．効果
本実施の形態に係る現像装置１においては、ノズル駆動部４００によりノズルヘッド３００Ｈが待機位置Ｐ１から処理位置Ｐ２に移動される。この状態で、複数の配管３１１，３１２を通して、ノズルヘッド３００Ｈの複数のノズル３１０から基板Ｗに処理液および気体が吐出される。この場合、複数のノズル３１０により基板Ｗを短期間で処理することができる。

ここで、ノズルヘッド３００Ｈが移動することにより、配管３１１，３１２に変形が発生する。配管３１１，３１２に変形が繰り返し発生すると、配管３１１，３１２が破損し、液漏れが発生することがある。そこで、配管３１１，３１２の外周が保護管３９１により取り囲まれる。

この構成によれば、いずれかの配管３１１，３１２が破損した場合でも、漏液は保護管３９１の内周面により受け止められる。これにより、漏液が飛散することが防止される。また、配管３１１，３１２からの漏液は漏液センサ７６０により検出されるので、適切な措置を行うことが可能になる。その結果、液漏れによる弊害を防止することができる。

具体的には、溝部６３０を有するユニットベース６００が保護管３９１の下方に配置される。溝部６３０には、ユニットベース６００を上下に貫通する排液孔６３１が形成される。排液孔６３１を通過した配管３１１，３１２からの漏液が漏液センサ７６０により検出される。この場合、配管３１１，３１２からの漏液を簡単な構成で検出することができる。

本例では、配管３１１，３１２の一部は、ユニットベース６００の溝部６３０内に収容される。そのため、配管３１１，３１２からの漏液は、配管３１１，３１２を伝って溝部６３０内に導かれ、排液孔６３１を通過する。これにより、配管３１１，３１２からの漏液をより確実に検出することができる。

また、ユニットベース６００の下方には、バット７００が配置される。ユニットベース６００の排液孔６３１を通過した配管３１１，３１２からの漏液は、バット７００により受け止められる。漏液センサ７６０は、バット７００に設けられる。したがって、バット７００において、配管３１１，３１２からの漏液を容易に検出することができる。特に、バット７００はテーパ形状を有し、漏液センサ７６０は、バット７００のテーパ部分における最も低い位置に設けられるので、配管３１１，３１２からの漏液をより確実に検出することができる。

保護管３９１は、蛇腹形状を有する。この場合、保護管３９１は高い柔軟性を有するので、配管３１１，３１２の変形の自由度が保護管３９１により制限されることがない。これにより、ノズルヘッド３００Ｈをより円滑に移動させることができる。また、保護管３９１の蛇腹の谷部が保持部３９２により保持される。この場合、保護管３９１の柔軟性を維持しつつ保護管３９１を容易に保持することができる。

６．他の実施の形態
（１）上記実施の形態において、ノズルアームユニット３００は複数のノズル３１０を含むが、実施の形態はこれに限定されない。ノズルアームユニット３００は１つのノズル３１０を含んでもよい。この場合、当該１つのノズル３１０がノズル駆動部４００により移動可能に構成されてもよい。また、ノズル３１０には配管３１１，３１２が接続されるが、実施の形態はこれに限定されない。ノズル３１０には配管３１１のみが接続されてもよい。すなわち、ノズルアームユニット３００には、１つの配管３１１のみが設けられてもよい。

（２）上記実施の形態において、保護管３９１は蛇腹形状を有するが、実施の形態に限定されない。保護管３９１は、柔軟性を有すればよく、蛇腹形状を有さなくてもよい。そのため、保持部３９２は、保護管３９１のいずれの部分を保持してもよい。

（３）上記実施の形態において、バット７００はテーパ形状を有し、漏液センサ７６０はバット７００のテーパ部分における最も低い位置に設けられるが、実施の形態はこれに限定されない。漏液センサ７６０が漏液を検出可能である限り、バット７００のテーパ部分における最も低い位置とは異なる位置に設けられてもよい。また、バット７００はテーパ形状を有しなくてもよい。あるいは、現像装置１はバット７００を含まなくてもよい。

（４）上記実施の形態において、保護管３９１の下端部および配管３１１，３１２の上流部分はユニットベース６００の溝部６３０内に収容されるが、実施の形態はこれに限定されない。漏液センサ７６０が漏液を検出可能である限り、保護管３９１の下端部および配管３１１，３１２の上流部分はユニットベース６００の溝部６３０内に収容されなくてもよい。あるいは、現像装置１はユニットベース６００を含まなくてもよい。

７．請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることができる。

上記実施の形態においては、基板Ｗが基板の例であり、ノズル３１０がノズルの例であり、配管３１１，３１２が配管の例であり、保護管３９１が保護管の例である。ノズル駆動部４００がノズル駆動部の例であり、漏液センサ７６０が漏液センサの例であり、現像装置１が基板処理装置の例であり、溝部６３０が溝部の例である。ユニットベース６００がユニットベースの例であり、排液孔６３１が排液孔の例であり、バット７００がバットの例であり、保持部３９２が保持部の例であり、ノズルヘッド３００Ｈがノズルヘッドの例である。

８．実施の形態の総括
（第１項）第１項に係る基板処理装置は、
処理対象の基板に処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルに接続される配管と、
前記配管の外周を取り囲む保護管と、
前記ノズルを移動させるノズル駆動部と、
前記配管からの漏液を検出する漏液センサとを備える。

この基板処理装置においては、ノズル駆動部によりノズルが移動され、配管を通してノズルから処理対象の基板に処理液が吐出される。ここで、ノズルが移動することにより、配管に変形が発生する。配管に変形が繰り返し発生すると、配管が破損し、液漏れが発生することがある。そこで、配管の外周が保護管により取り囲まれる。

この構成によれば、配管が破損した場合でも、漏液は保護管の内周面により受け止められる。これにより、漏液が飛散することが防止される。また、配管からの漏液は漏液センサにより検出されるので、適切な措置を行うことが可能になる。その結果、液漏れによる弊害を防止することができる。

（第２項）第１項に記載の基板処理装置は、
溝部を有し、前記保護管の下方に配置されるユニットベースをさらに備え、
前記溝部には、前記ユニットベースを上下に貫通する排液孔が形成され、
前記漏液センサは、前記排液孔を通過した前記配管からの漏液を検出してもよい。

この場合、配管からの漏液を簡単な構成で検出することができる。

（第３項）第２項に記載の基板処理装置において、
前記配管の一部は、前記ユニットベースの前記溝部内に収容されてもよい。

この場合、配管からの漏液は、配管を伝って溝部内に導かれ、排液孔を通過する。これにより、配管からの漏液をより確実に検出することができる。

（第４項）第２項または第３項に記載の基板処理装置は、
前記ユニットベースの下方に配置され、前記排液孔を通過した前記配管からの漏液を受けるバットをさらに備え、
前記漏液センサは、前記バットに設けられてもよい。

この場合、バットにおいて、配管からの漏液を容易に検出することができる。

（第５項）第４項に記載の基板処理装置において、
前記バットはテーパ形状を有し、
前記漏液センサは、前記バットのテーパ部分における最も低い位置に設けられてもよい。

この場合、バットにおいて、配管からの漏液をより確実に検出することができる。

（第６項）第１項～第５項のいずれか一項に記載の基板処理装置において、
前記保護管は、蛇腹形状を有してもよい。

この場合、配管の変形の自由度が保護管により制限されることがない。これにより、ノズルをより円滑に移動させることができる。

（第７項）第６項に記載の基板処理装置は、
前記保護管の蛇腹の谷部を保持する保持部をさらに備えてもよい。

この場合、保護管の柔軟性を維持しつつ保護管を容易に保持することができる。

（第８項）第１項～第７項のいずれか一項に記載の基板処理装置は、
複数の前記ノズルが取り付けられ、前記ノズル駆動部により移動されるノズルヘッドをさらに備え、
前記保護管は、複数の前記ノズルにそれぞれ接続される複数の前記配管の外周を取り囲んでもよい。

この場合、複数のノズルにより基板を短期間で処理することができる。ここで、配管同士の擦れによりいずれかの配管が破損し、液漏れが発生した場合でも、漏液は保護管の内周面により受け止められることにより、漏液が飛散することが防止される。また、漏液は漏液センサにより検出されるので、適切な措置を行うことが可能になる。したがって、基板処理装置に複数の配管が設けられる場合でも、液漏れによる弊害を防止することができる。

１…現像装置，１ｗ…第１の側壁板，２ｗ…第２の側壁板，３ｗ…第３の側壁板，４ｗ…第４の側壁板，５ｗ…床板，６ｗ…天井板，１０…気体供給部，１１…流体供給部，１２…流体供給経路，４０…カップ，４１…筒状壁部，４２…液受け部，４９…昇降駆動部，５０…収容器，５１…側壁部，５２…底部，６１…排気管，６２…排液管，７０…基板保持装置，７１…吸着保持部，７２…スピンモータ，７３，４０１…回転軸，７８…吸引装置，７９…モータカバー，９０…制御部，９１…第１の昇降制御部，９２…流体制御部，９３…第１の回転制御部，９４…吸引制御部，９５…第２の昇降制御部，９６…第２の回転制御部，９７…漏液判定部，１００…区画板，１００Ｃ…区画板中心，１１０…ノズル開口，２００…筒部材，３００…ノズルアームユニット，３００Ｈ…ノズルヘッド，３１０…ノズル，３１０ａ，３１０ｂ…流体導入部，３１０ｃ…噴射部，３１１，３１２…配管，３２０…支持体，３２１…一端部，３２２…他端部，３２３…ノズル固定部，３２４…配管固定部，３２５…カバー取り付け部，３２９…配管固定片，３３０…カバー部材，３３１…上面部，３３１ｈ，Ｈ，７１１…貫通孔，３３２，７２０…一方端面部，３３３，７３０…他方端面部，３３３Ｎ…切り欠き，３３４，７４０…一方側面部，３３５，７５０…他方側面部，３９１…保護管，３９２…保持部，４００…ノズル駆動部，５００…待機ポッド，５１０…待機孔，６００…ユニットベース，６１０…ベースプレート，６２０…ユニット配置領域，６２１，ｏｐ１…開口，６３０…溝部，６３１～６３６…排液孔，７００…バット，７１０…下面部，７６０…漏液センサ，Ａ１…中央領域，Ａ２…外周領域，ＡＧ…空気ガイド，ＣＡ…筐体，ＤＵ…給気ダクト，ＦＬ…フィルタ，ＬＰＡ，ＬＰＢ…液処理ユニット，Ｐ１…待機位置，ｐｈ…搬入搬出口，ＳＰ…内部空間，ＳＰａ…処理空間，ＳＰｂ…非処理空間，ＳＳ…支持面，ｖｃ１，ｖｃ２…仮想円，Ｗ…基板

Claims (8)

1. 処理対象の基板に処理液を吐出するノズルと、
   前記ノズルに接続される配管と、
   前記配管の外周を取り囲む保護管と、
   前記ノズルを移動させるノズル駆動部と、
   前記配管からの漏液を検出する漏液センサとを備える、基板処理装置。
2. 溝部を有し、前記保護管の下方に配置されるユニットベースをさらに備え、
   前記溝部には、前記ユニットベースを上下に貫通する排液孔が形成され、
   前記漏液センサは、前記排液孔を通過した前記配管からの漏液を検出する、請求項１記載の基板処理装置。
3. 前記配管の一部は、前記ユニットベースの前記溝部内に収容される、請求項２記載の基板処理装置。
4. 前記ユニットベースの下方に配置され、前記排液孔を通過した前記配管からの漏液を受けるバットをさらに備え、
   前記漏液センサは、前記バットに設けられる、請求項２または３記載の基板処理装置。
5. 前記バットはテーパ形状を有し、
   前記漏液センサは、前記バットのテーパ部分における最も低い位置に設けられる、請求項４記載の基板処理装置。
6. 前記保護管は、蛇腹形状を有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
7. 前記保護管の蛇腹の谷部を保持する保持部をさらに備える、請求項６記載の基板処理装置。
8. 複数の前記ノズルが取り付けられ、前記ノズル駆動部により移動されるノズルヘッドをさらに備え、
   前記保護管は、複数の前記ノズルにそれぞれ接続される複数の前記配管の外周を取り囲む、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。

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