JP6281161B2 - 液処理装置 - Google Patents
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Description
しかしながら特許文献1には、カップの周囲などにミストなどが滞留している場合に、前述の旋回流に起因して引き起こされる基板の汚染を抑制する手法は何ら開示されていない。
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記囲み部材は、当該囲み部材及び床面部に囲まれる領域から区画して、排気された気流を下方側へ案内する流路を形成する区画壁を備え、前記排気口は当該区画壁に形成されていることを特徴とする。
第2の発明の液処理装置は、回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記囲み部材は円筒形状に構成され、前記排気口には、円筒形状の囲み部材に沿って流れる気流を当該排気口へ向けて案内するための案内板が設けられていることを特徴とする。
第3の発明の液処理装置は、回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記排気口は、上下方向に伸びるスリットであることを特徴とする。
第4の発明の液処理装置は、回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記カップ体は、基板に供給された処理液を受ける第1カップと、前記第1カップを上方より覆う第2カップとを備え、これら第1カップと第2カップとの間に排気路が形成され、前記床面部は、前記第2カップに対して隙間なく設けられていることを特徴とする。
第5の発明の液処理装置は、回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記床面部は、第1床面部と、前記第1床面部の上方側に設けられた第2床面部とを備え、前記排気口は第2床面部に形成されていることを特徴とする。
各発明の前記床面部は、その上面が前記カップ体の上端と面一となる位置に設けられてよい。
(a)前記排気口は、前記基板保持部の回転中心を中心とする円における、基板保持部の回転方向に伸びる接線と交わる方向に向けて開口していること。
(b)前記排気口から排気された気流を下方側へ向けて流す流路を備えること。前記排気口は、前記カップ体の周方向に沿って複数設けられていること。
(c)前記排気口は、平面形状が矩形に構成された囲み部材の角部に設けられていること。
(d)基板に処理液を供給するノズル部と、前記ノズル部をその先端部に保持するノズルアームと、前記ノズルアームの基端部に設けられ、当該基端部を中心としてノズルアームを回転駆動させて、前記基板保持部に保持された基板の上方の処理位置と、この処理位置から退避した退避位置との間で前記ノズル部を移動させる回転駆動部と、を有する処理液供給機構を備え、前記回転駆動部は、前記排気口に臨む位置に設けられていること。このとき、前記囲み部材は、前記処理液供給機構が設けられている領域と、カップ体の上方側の空間とを仕切り、前記ノズル部を保持したノズルアームを通過させる通過口が設けられた仕切り壁を備え、前記回転駆動部に臨む位置に設けられた排気口に替えて、前記通過口を排気口として、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域の排気を行うと共に、前記回転駆動部に臨む位置から、当該処理液供給機構が設けられている領域内の排気を行うこと。
(e)前記第1床面部と第2床面部との間にバッファ空間を形成し、前記第1床面部に排気部が接続されていること。
(f)前記排気口は、前記囲み部材に臨む位置の床面部に、当該囲み部材に沿って伸びるように形成されていること。また前記基板保持部の上方側には、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域に下降気流を形成するための下降気流形成部が設けられていること。
(g)基板に処理液を供給するノズル部と、前記ノズル部をその先端部に保持するノズルアームと、前記ノズルアームの基端部に設けられ、当該基端部を中心としてノズルアームを回転駆動させて、前記基板保持部に保持された基板の上方の処理位置と、この処理位置から退避した退避位置との間で前記ノズル部を移動させる回転駆動部と、を有する処理液供給機構を備え、前記退避位置は、前記処理液供給機構のノズルアームが囲み部材に沿って伸びるように配置される位置に設定され、前記排気口は、当該退避位置にノズルアームを退避させた処理液供給機構と、前記囲み部材との間に配置されていること。
図5に処理液供給機構40aが設けられている領域の近傍を拡大して示すように、各仕切り壁23には、ノズルアーム43を回転させたとき、ノズル部41、ノズルヘッド42及びノズルアーム43を横方向に通過させるための通過口231が形成されている。仕切り壁23は、処理液供給機構40a〜40cの回転駆動部44などで発生したパーティクルがウエハWの処理雰囲気へと進入するのを抑える。
各開口部25a〜25dが設けられている仕切り板28の上方側の空間は、チャンバ20の側壁に沿って配置された区画壁24によって、各々回収カップ50の上方側の空間や処理液供給機構40a〜40cが配置されている空間から区画されている。
また、保持部31は、ウエハWを支持する複数の支持ピン311備え、ウエハWはこの支持ピン311に保持された状態で処理が行われる。
ここでFFU21からは常時、清浄気体が供給され、チャンバ20内には当該清浄気体のダウンフローが形成されている。
一方、既述のように、回転するウエハWの上方には、ウエハWの回転方向へ向けて渦を巻きながら中央部側から外周側へ向けて流れる旋回流が発生し、この旋回流の一部は開口を介して回収カップ50の外へ流れ出る。図3〜図5には、ウエハWを回転させたときのチャンバ20内の清浄気体の流れを点線で示してある。
また、仕切り壁23によって回収カップ50の上方側の空間から仕切られると共に、処理液供給機構40a〜40cが配置されている空間についても、当該空間に接する区画壁24に設けられたスリット241を介して排気が行われる。このため、処理液供給機構40a〜40cの回転駆動部44などで発生したパーティクルがウエハWの処理雰囲気へと進入するのを抑えつつ、ノズル部41やノズルアーム43などを通過させる通過口231を介してチャンバ20内に形成された旋回流の排出を行うことができる。
これらスリット241や通過口231により、基板保持機構30に保持され回転するウエハWの上方に形成される旋回流を利用して、回収カップ50の周囲に流出した薬液成分を排気口から効率的に排出することができる。
さらに図9、図10に示すように、仕切り板28は、外カップ50bに対して隙間なく設けられている。
そして、本発明の液処理ユニット(液処理装置)を用いて処理することが可能な基板の種類は、半導体ウエハに限定されるものではない。例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板の液処理を行う液処理ユニットに対しても本発明は適用することができる。
16、16a〜16d
処理ユニット
201 底板
23 仕切り壁
231 通過口
24 区画壁
241 スリット
242 案内板
25、25a〜25d
開口部
251 排気管
28 仕切り板
281 スリット
31 保持部
40a〜40c
処理液供給機構
41 ノズル部
42 ノズルヘッド
43 ノズルアーム
44 回転駆動部
Claims (16)
- 回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記囲み部材は、当該囲み部材及び床面部に囲まれる領域から区画して、排気された気流を下方側へ案内する流路を形成する区画壁を備え、前記排気口は当該区画壁に形成されていることを特徴とする液処理装置。 - 回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記囲み部材は円筒形状に構成され、前記排気口には、円筒形状の囲み部材に沿って流れる気流を当該排気口へ向けて案内するための案内板が設けられていることを特徴とする液処理装置。 - 回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記排気口は、上下方向に伸びるスリットであることを特徴とする液処理装置。 - 回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記カップ体は、基板に供給された処理液を受ける第1カップと、前記第1カップを上方より覆う第2カップとを備え、これら第1カップと第2カップとの間に排気路が形成され、前記床面部は、前記第2カップに対して隙間なく設けられていることを特徴とする液処理装置。 - 回転自在な基板保持部に基板を保持し、基板に対して処理液を供給して液処理を行う液処理装置において、
前記基板保持部を囲み、基板上方に開口が設けられたカップ体と、
前記カップ体の上方空間を含む領域を、前記カップ体よりも外方側にて囲む囲み部材と、
前記カップ体の上方側からカップ体内に下降気流を形成する気流形成部と、
前記カップ体の周方向に沿って設けられ、前記カップ体と前記囲み部材との間を塞ぐ床面部と、
前記床面部よりも上方であって、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域を排気するために前記カップ体よりも外側に設けられた排気口と、を備え、
前記床面部は、第1床面部と、前記第1床面部の上方側に設けられた第2床面部とを備え、前記排気口は第2床面部に形成されていることを特徴とする液処理装置。 - 前記排気口は、前記基板保持部の回転中心を中心とする円における、基板保持部の回転方向に伸びる接線と交わる方向に向けて開口していることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記排気口から排気された気流を下方側へ向けて流す流路を備えることを特徴とする請求項2または3に記載の液処理装置。
- 前記排気口は、前記カップ体の周方向に沿って複数設けられていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記排気口は、平面形状が矩形に構成された囲み部材の角部に設けられていることを特徴とする請求項1または3に記載の液処理装置。
- 基板に処理液を供給するノズル部と、前記ノズル部をその先端部に保持するノズルアームと、前記ノズルアームの基端部に設けられ、当該基端部を中心としてノズルアームを回転駆動させて、前記基板保持部に保持された基板の上方の処理位置と、この処理位置から退避した退避位置との間で前記ノズル部を移動させる回転駆動部と、を有する処理液供給機構を備え、
前記回転駆動部は、前記排気口に臨む位置に設けられていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 前記囲み部材は、前記処理液供給機構が設けられている領域と、カップ体の上方側の空間とを仕切り、前記ノズル部を保持したノズルアームを通過させる通過口が設けられた仕切り壁を備え、
前記回転駆動部に臨む位置に設けられた排気口に替えて、前記通過口を排気口として、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域の排気を行うと共に、前記回転駆動部に臨む位置から、当該処理液供給機構が設けられている領域内の排気を行うことを特徴とする請求項10に記載の液処理装置。 - 前記第1床面部と第2床面部との間にバッファ空間を形成し、前記第1床面部に排気部が接続されていることを特徴とする請求項5に記載の液処理装置。
- 前記排気口は、前記囲み部材に臨む位置の床面部に、当該囲み部材に沿って伸びるように形成されていることを特徴とする請求項4、5または12のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記基板保持部の上方側には、前記囲み部材及び床面部に囲まれる領域に下降気流を形成するための下降気流形成部が設けられていることを特徴とする請求項13に記載の液処理装置。
- 基板に処理液を供給するノズル部と、前記ノズル部をその先端部に保持するノズルアームと、前記ノズルアームの基端部に設けられ、当該基端部を中心としてノズルアームを回転駆動させて、前記基板保持部に保持された基板の上方の処理位置と、この処理位置から退避した退避位置との間で前記ノズル部を移動させる回転駆動部と、を有する処理液供給機構を備え、
前記退避位置は、前記処理液供給機構のノズルアームが囲み部材に沿って伸びるように配置される位置に設定され、
前記排気口は、当該退避位置にノズルアームを退避させた処理液供給機構と、前記囲み部材との間に配置されていることを特徴とする請求項4、5、12、13または14のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 前記床面部は、その上面が前記カップ体の上端と面一となる位置に設けられていることを特徴とする請求項1ないし15のいずれか一つに記載の液処理装置。
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