JP5045218B2 - 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
塗布液ノズルを載置して待機させるノズルバスと、
前記基板保持部に保持された基板の上方と前記ノズルバスとの間で前記塗布液ノズルを搬送するノズル搬送機構と、
このノズル搬送機構により搬送されている塗布液ノズルの先端部を撮像する撮像手段と、
この撮像手段による撮像結果に基づいて、前記先端部からの塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断する判断手段と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと前記判断手段により判断された場合に、前記塗布供給部及び/または前記ノズル搬送機構に対処動作を実行させる制御手段と、を備え、
前記撮像手段は、ノズル搬送機構に取り付けられていることを特徴とする。
また、他の発明に係わる液処理装置は、周囲をカップ体に囲まれた基板保持部に略水平に保持された基板の表面に、塗布液供給部からの塗布液を塗布液ノズルを介して供給して、基板の表面を液処理する液処理装置において、
塗布液ノズルを載置して待機させるノズルバスと、
前記基板保持部に保持された基板の上方と前記ノズルバスとの間で前記塗布液ノズルを搬送するノズル搬送機構と、
このノズル搬送機構により搬送されている塗布液ノズルの先端部を撮像する撮像手段と、
この撮像手段による撮像結果に基づいて、前記先端部からの塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断する判断手段と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと前記判断手段により判断された場合に、前記塗布供給部及び/または前記ノズル搬送機構に対処動作を実行させる制御手段と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと判断された場合に、その旨を報知する報知手段と、
前記各ノズル毎に液だれの発生した回数を計数するカウンタと、を備え、
いずれかのカウンタにて計数された液だれの回数が予め設定された回数よりも大きくなった場合に、前記報知手段にて液だれ発生の旨を報知することを特徴とする。
本発明において「液だれ」とは塗布液ノズルの先端面より下方に塗布液の露出した状態を意味し、「滴下」とはこの液だれが成長した結果、前記先端面より塗布液が分離した状態を意味している。
ここで、前記ノズル搬送機構は、複数の塗布液ノズルを同時に搬送するように構成されており、前記判断手段は、前記撮像手段による撮像結果に基づいて各塗布液ノズルを識別して塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断するように構成してもよい。
ノズルバスに塗布液ノズルを載置して待機させる工程と、
前記基板保持部に保持された基板の上方と前記ノズルバスとの間で前記塗布液ノズルを搬送する工程と、
この工程にて搬送されている塗布液ノズルの先端部を撮像する工程と、
この撮像結果に基づいて、前記先端部からの塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断する工程と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと判断された場合に、前記塗布供給部及び/または前記ノズル搬送機構に対処動作を実行させる工程と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと判断された場合に、その旨を報知する工程と、
各ノズルに液だれの発生した回数を計数する工程と、を含み、
いずれかのノズルについて計数された液だれの回数が予め設定された回数よりも大きくなった場合に、液だれ発生の旨を報知することを特徴とする。
ここで前記塗布液ノズルを搬送する工程においては、複数の塗布液ノズルが同時に搬送され、液だれまたは滴下の発生を判断する工程においては、前記撮像結果に基づいて各塗布液ノズルを識別して塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断するように構成してもよい。また対処動作を実行する工程においては、基板の表面への塗布液の供給を実行中の塗布液ノズルからの撮像結果に基づく判断に対しては対処動作を実行しないように構成するとよい。また、前記塗布液ノズルの先端部の状態を光学的に撮像する工程はイメージセンサカメラを利用して行うことが好ましく、この撮像工程を実行する際に、当該塗布液ノズルを照明する工程を更に含むとよい。
また、滴下の発生の判断は、過去の撮像結果を記憶する工程を更に備え、
前記判断を行う工程では、前記過去の撮像結果を記憶する工程にて記憶されている、予め定められた期間遡った過去の撮像結果と、現在の撮像結果とを比較して、過去の撮像結果にて確認された液だれの大きさより現在の液だれの大きさが小さくなっている場合に、塗布液の滴下が発生したと判断するようにしてもよいし、前記塗布液ノズル先端部より予め設定した距離下方の撮像領域にて液滴の一部または全部に係わる撮像結果を得た場合に、塗布液の滴下が発生したと判断するようにしてもよい。
ここで本実施の形態において「液だれ」とはノズル10の先端面より下方に塗布液の露出した状態を意味し、「滴下」とはこの液だれが成長した結果、前記先端面より塗布液が分離した状態を意味している。
また、液だれの大きさを特定する手法は上述のものに限定されず、例えばカメラ17より取得した画像の階調差等に基づいて、液滴DPとその周辺空間及びノズル10との境界を画定し、その境界内に含まれる画素数等から決定される液滴DP投影画像の面積を撮像結果とし、この撮像結果と設定値記憶部96に予め記憶させておいたしきい値(基準情報)と比較して液だれ発生の有無やその大小を判断するように構成してもよい。
(表1)
W ウエハ
1 塗布ユニット
2、2a、2b、2c
液処理部
5 カップ体
6 EBR機構
7 供給ユニット
8 表示操作部
9 制御部
9a 主制御部
9b 液だれ判断部
10 ノズル
10a ノズル搬送機構
11 ノズルアーム
11a ノズルヘッド部
11b アーム部
12 基台
13 レール
14 ノズルバス
15 駆動機構
16 中間バス
17 カメラ
18 固定部材
19 光源
30 筐体
30a 搬入出口
31 フィルタユニット
41 スピンチャック
42 軸部
43 駆動機構(スピンチャックモータ)
44 昇降ピン
44a 昇降機構
50 カップ本体
51 第1のリング部材
51a 気体流路
52 第2のリング部材
53 端板
54 液受け部
54a 溢流防止壁
55 排気ポート
56 ドレインポート
61 EBRアーム
62 基台
63 レール
64 EBRノズルバス
70 塗布液供給機構
71 供給管
72 エアオペレーティドバルブ
73 サックバックバルブ
90 中央演算処理装置(CPU)
91 プログラム格納部
92 カウンタ
93 設定値記憶部
94 プログラム格納部
95 一時メモリ
96 設定値記憶部
100 キャリア
101 載置台
Claims (33)
- 周囲をカップ体に囲まれた基板保持部に略水平に保持された基板の表面に、塗布液供給部からの塗布液を塗布液ノズルを介して供給して、基板の表面を液処理する液処理装置において、
塗布液ノズルを載置して待機させるノズルバスと、
前記基板保持部に保持された基板の上方と前記ノズルバスとの間で前記塗布液ノズルを搬送するノズル搬送機構と、
このノズル搬送機構により搬送されている塗布液ノズルの先端部を撮像する撮像手段と、
この撮像手段による撮像結果に基づいて、前記先端部からの塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断する判断手段と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと前記判断手段により判断された場合に、前記塗布供給部及び/または前記ノズル搬送機構に対処動作を実行させる制御手段と、を備え、
前記撮像手段は、ノズル搬送機構に取り付けられていることを特徴とする液処理装置。 - 周囲をカップ体に囲まれた基板保持部に略水平に保持された基板の表面に、塗布液供給部からの塗布液を塗布液ノズルを介して供給して、基板の表面を液処理する液処理装置において、
塗布液ノズルを載置して待機させるノズルバスと、
前記基板保持部に保持された基板の上方と前記ノズルバスとの間で前記塗布液ノズルを搬送するノズル搬送機構と、
このノズル搬送機構により搬送されている塗布液ノズルの先端部を撮像する撮像手段と、
この撮像手段による撮像結果に基づいて、前記先端部からの塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断する判断手段と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと前記判断手段により判断された場合に、前記塗布供給部及び/または前記ノズル搬送機構に対処動作を実行させる制御手段と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと判断された場合に、その旨を報知する報知手段と、
前記各ノズル毎に液だれの発生した回数を計数するカウンタと、を備え、
いずれかのカウンタにて計数された液だれの回数が予め設定された回数よりも大きくなった場合に、前記報知手段にて液だれ発生の旨を報知することを特徴とする液処理装置。 - 前記ノズル搬送機構は、複数の塗布液ノズルを同時に搬送するように構成されており、
前記判断手段は、前記撮像手段による撮像結果に基づいて各塗布液ノズルを識別して塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断することを特徴とする請求項1または2に記載の液処理装置。 - 前記制御手段は、基板の表面への塗布液の供給を実行中の塗布液ノズルからの撮像結果に基づく判断に対しては前記対処動作を実行しないことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記撮像手段はイメージセンサカメラであることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記撮像手段による撮像に際して前記塗布液ノズルを照明するための光源を更に備えたことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 塗布液の液だれの発生を判断する基準となる基準情報を記憶する第1の記憶手段を更に備え、前記判断手段は、前記撮像結果と前記基準情報とを比較した結果に基づいて塗布液ノズル先端部における液だれの有無及び液だれの大きさを判断することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記基準情報及び前記撮像結果は、前記塗布液ノズルの先端部から液だれした液滴の曲率または面積であることを特徴とする請求項7に記載の液処理装置。
- 過去の撮像結果を記憶する第2の記憶手段を更に備え、
前記判断手段は、前記第2の記憶手段に記憶されている、予め定められた期間遡った過去の撮像結果と、現在の撮像結果とを比較して、過去の撮像結果にて確認された液だれの大きさより現在の液だれの大きさが小さくなっている場合に、塗布液の滴下が発生したと判断することを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 前記判断部は、前記塗布液ノズル先端部より予め設定した距離下方の撮像領域にて液滴の一部または全部に係わる撮像結果を得た場合に、塗布液の滴下が発生したと判断することを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記塗布液ノズルは透明な材料で構成されており、前記判断手段は、更に前記撮像手段より取得した撮像結果に基づいて前記塗布液ノズル先端部の気泡の有無を判断することを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記判断手段は、更に前記撮像手段より取得した前記塗布液ノズルから吐出された塗布液の太さとその吐出時間とを示す撮像結果に基づいて塗布液の吐出量を算出することを特徴とする請求項1ないし11のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 塗布液を吐出していないときに前記塗布液ノズルの先端部から塗布液を引き込むためのサックバックバルブと、前記塗布液供給部に対して塗布液の供給開始信号を出力する塗布制御手段と、を更に備え、
前記判断部は、前記サックバックバルブによって塗布液が塗布液ノズルの先端部から引き込まれた距離と、前記塗布制御手段より供給開始信号が出力されてから当該塗布液ノズルの先端部にて塗布液の撮像結果の得られるまでの時間と、に基づいて塗布液の吐出速度を算出することを特徴とする請求項1ないし12のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 前記対処動作は、塗布液ノズルを前記ノズルバスへ退避させて、当該塗布液ノズルからこのノズルバス内に塗布液を吐出する動作であることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 基板保持部に保持された基板の表面に塗布液を供給するために前記塗布液ノズルを搬送する動作の途中で液だれが撮像されたときには、前記制御手段は、前記基板への塗布液の供給を終えてから前記対処動作を行うことを特徴とする請求項14に記載の液処理装置。
- 基板保持部に保持された基板の表面に塗布液を供給するために前記塗布液ノズルを搬送する動作の途中で液だれが撮像されたときには、前記制御手段は、前記基板への塗布液の供給を行う前に前記対処動作を行うことを特徴とする請求項14に記載の液処理装置。
- 前記対処動作は、当該液処理装置への後続の基板の搬入を停止する動作であることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 各々前記カップ体と基板保持部とからなる複数の液処理部が共通の筐体内にて横方向に一列に配列して設けられ、前記塗布液ノズル及び前記ノズル搬送機構は当該複数の液処理部に対して共通化されていることを特徴とする請求項1ないし17のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 各々前記カップ体と基板保持部とからなる複数の液処理部が共通の筐体内にて横方向に一列に配列して設けられ、前記塗布液ノズル及び前記ノズル搬送機構は当該複数の液処理部に対して共通化されており、
前記筐体内に配列された各液処理部同士の間には、前記塗布液ノズルを退避させて対処動作を実行するための中間バスを更に備えていることを特徴とする請求項14ないし16のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 周囲をカップ体に囲まれた基板保持部に略水平に保持された基板の表面に、塗布液供給部からの塗布液を塗布液ノズルを介して供給して、基板の表面を液処理する液処理方法において、
ノズルバスに塗布液ノズルを載置して待機させる工程と、
前記基板保持部に保持された基板の上方と前記ノズルバスとの間で前記塗布液ノズルを搬送する工程と、
この工程にて搬送されている塗布液ノズルの先端部を撮像する工程と、
この撮像結果に基づいて、前記先端部からの塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断する工程と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと判断された場合に、前記塗布供給部及び/または前記ノズル搬送機構に対処動作を実行させる工程と、
塗布液の液だれまたは滴下が生じたと判断された場合に、その旨を報知する工程と、
各ノズルに液だれの発生した回数を計数する工程と、を含み、
いずれかのノズルについて計数された液だれの回数が予め設定された回数よりも大きくなった場合に、液だれ発生の旨を報知することを特徴とする液処理方法。 - 前記塗布液ノズルを搬送する工程においては、複数の塗布液ノズルが同時に搬送され、
液だれまたは滴下の発生を判断する工程においては、前記撮像結果に基づいて各塗布液ノズルを識別して塗布液の液だれまたは滴下の発生を判断することを特徴とする請求項20に記載の液処理方法。 - 前記対処動作を実行する工程においては、基板の表面への塗布液の供給を実行中の塗布液ノズルからの撮像結果に基づく判断に対しては対処動作を実行しないことを特徴とする請求項20または21に記載の液処理方法。
- 前記塗布液ノズルの先端部の状態を光学的に撮像する工程はイメージセンサカメラを利用して行うことを特徴とする請求項20ないし22のいずれか一つに記載の液処理方法。
- 前記塗布液ノズルの先端部の状態を光学的に撮像する工程を実行する際に、当該塗布液ノズルを照明する工程を更に含むことを特徴とする請求項20ないし23のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 塗布液の液だれの発生を判断する基準となる基準情報を予め記憶する工程を更に含み、前記液だれまたは滴下の発生を判断する工程においては、前記撮像結果と前記基準情報とを比較した結果に基づいて塗布液ノズル先端部における液だれの有無及び液だれの大きさを判断することを特徴とする請求項20ないし24のいずれか一つに記載の液処理方法。
- 前記基準情報及び前記撮像結果は、前記塗布液のノズルの先端部から液だれした液滴の曲率または面積であることを特徴とする請求項25に記載の液処理方法。
- 過去の撮像結果を記憶する工程を更に備え、
前記判断を行う工程では、前記過去の撮像結果を記憶する工程にて記憶されている、予め定められた期間遡った過去の撮像結果と、現在の撮像結果とを比較して、過去の撮像結果にて確認された液だれの大きさより現在の液だれの大きさが小さくなっている場合に、塗布液の滴下が発生したと判断することを特徴とする請求項20ないし26のいずれか一つに記載の液処理方法。 - 前記判断を行う工程では、前記塗布液ノズル先端部より予め設定した距離下方の撮像領域にて液滴の一部または全部に係わる撮像結果を得た場合に、塗布液の滴下が発生したと判断することを特徴とする請求項20ないし26のいずれか一つに記載の液処理方法。
- 前記対処動作は、塗布液ノズルを前記ノズルバスへ退避させて、当該塗布液ノズルからこのノズルバス内に塗布液を吐出する動作であることを特徴とする請求項20ないし28のいずれか一つに記載の液処理方法。
- 基板保持部に保持された基板の表面に塗布液を供給するために前記塗布液ノズルを搬送する動作の途中で液だれが撮像されたときには、前記対処動作は、前記基板への塗布液の供給を終えてから行われることを特徴とする請求項29に記載の液処理方法。
- 基板保持部に保持された基板の表面に塗布液を供給するために前記塗布液ノズルを搬送する動作の途中で液だれが撮像されたときには、前記対処動作は、前記基板への塗布液の供給を行う前に行われることを特徴とする請求項29に記載の液処理方法。
- 前記対処動作は、当該液処理装置への後続の基板の搬入を停止する動作であることを特徴とする請求項20ないし28のいずれか一つに記載の液処理方法。
- 周囲をカップ体に囲まれた基板保持部に略水平に保持された基板の表面に、塗布液供給部からの塗布液を塗布液ノズルを介して供給して、基板の表面を液処理する液処理装置に用いられるプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは請求項20ないし32のいずれか一つに記載された液処理方法を実行するためにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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