JP5336441B2 - 液処理装置及び液処理方法 - Google Patents
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Description
ピンチャック41と、このスピンチャック41に保持されウエハWを取り囲むように設置
されたカップ体5とを備えている。以下、液処理部2の構成について説明する。
示すように傾斜したリング状の第1のリング部材51と第2のリング部材52とが設置さ
れており、これらのリング部材51、52との間の隙間は、ウエハWから飛散したミスト
を含む気体の通流する気体流路51aとなっている。また第2のリング部材52は、スピ
ンチャック41に保持されたウエハWの周縁部下方に位置するように取り付けられており
、その上面が「への字」状に屈曲している。この第2のリング部材52の外端面には、カ
ップ本体50底部の液受け部54に進入するように下方に伸びる筒状の端板53が設けられている。これによりウエハWから飛散したレジスト液の一部はドレインとして第2のリング部材52及び端板53の表面を伝って液受け部54へと案内されるようになっている。
W 半導体ウエハ(基板)
1 塗布ユニット
2、2a,2b,2c 液処理部
8 表示操作部
9 制御部
9a 主制御部
9b 液だれ判定部
10 ノズル
10A ノズル搬送機構
11 ノズルアーム
11a ノズルヘッド部
11b アーム部
15 ノズル搬送機構の駆動機構
17 カメラ
41 スピンチャック(基板保持部)
80 移動機構
89 駆動機構
90 中央演算処理装置(CPU)
91 プログラム格納部
92 カウンタ
93 設定値記憶部
94 プログラム格納部
95 一時メモリ
96 設定値記憶部
100 ディスペンス制御部
Claims (10)
- 基板に液処理を行う液処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給する複数のノズルと、
前記複数のノズルを搬送するノズル搬送機構と、
前記ノズルの先端を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段を前記複数のノズルの1つに対して移動させる移動機構と、
前記ノズルの処理液供給部、前記ノズル搬送機構及び前記撮像手段の移動機構の処理動作を制御すると共に、前記複数のノズルの中から1つのノズルを選択する処理プログラムを備える制御部と、
を備えたことを特徴とする液処理装置。 - 前記制御部は、前記ノズルの先端部からの処理液の滴下の発生の有無及び処理液の状態を判定する判定部を備えると共に、前記判定部の判定結果に基づいて前記ノズルの処理液供給部及び又は前記ノズル搬送機構に処理動作を実行させる、ことを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 前記ノズル搬送機構は、複数のノズルを同時に搬送するように構成されており、前記撮像手段は、前記ノズル搬送機構に取り付けられていることを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 前記移動機構は、前記選択されたノズルと前記撮像手段との距離を一定に保つべく前記撮像手段を移動させる駆動機構を具備していることを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。
- 前記移動機構は、前記選択されたノズルに向けて前記撮像手段の撮像領域の中心軸線状に指定したノズル先端を含む画像が入るように移動させることを特徴とする請求項1又は4に記載の液処理装置。
- 前記撮像手段は、前記選択されたノズルと撮像手段との距離に対応して撮像焦点を調整するオートフォーカス機能を具備することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記ノズル搬送機構を移動させて位置し、前記ノズルから処理液をダミーディスペンスするためのノズルバスとを備え、前記撮像手段の移動は、前記ノズルバスで行うことを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記撮像手段は、前記ノズル搬送機構が、前記ノズルバスで待機された位置から複数のノズルを同時に搬送する区間を含み、前記選択されたノズルの先端を監視することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の液処理装置。
- 基板保持部に保持された基板の表面に、複数のノズルを搬送し、複数のノズルの中の任意の1つのノズルから処理液を供給して、液処理する液処理方法において、
前記複数のノズルの中から1つのノズルを選択し、
前記選択されたノズルに向けて、撮像手段を移動させ、前記撮像手段により前記選択されたノズルの先端部を撮像すると共に、ノズル先端部からの処理液の滴下の発生の有無及び処理液の状態を判定する、
ことを特徴とする液処理方法。 - 前記判定の結果に基づいて前記ノズルの処理液供給部及び又は前記ノズル搬送機構に処理動作を実行させる、ことを特徴とする請求項9に記載の液処理方法。
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