JP5442226B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
すなわち、従来の装置は、基板に供給する処理液の種類を容易に変えることができないという不都合がある。これに対し、ノズル移動機構が複数個のノズルを一括して移動させることは、各ノズルに連通接続される配管の取り回しが困難である。また、複数個のノズルが基板上に移動するため、意図しない液種の処理液が基板に着液するおそれがある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に処理を行う基板処理装置において、基板を水平姿勢で保持する複数の基板保持部と、基板に処理液を供給する複数のノズルと、前記複数のノズルから任意に選択される選択ノズルを、各基板保持部に対応した準備位置から当該基板保持部に保持される基板上方の処理位置へ移動させる選択ノズル移動機構と、各準備位置の間で前記複数のノズルを一体に移動させるノズル群搬送機構と、を備え、各準備位置は水平な1軸である水平第1方向に互いに並んでおり、前記ノズル群搬送機構は、複数のノズルと前記選択ノズル移動機構とを一体に水平第1方向に移動させる第1搬送機構と、複数のノズルと前記選択ノズル移動機構とを水平第1方向に対して相対移動させる第2搬送機構と、を備えていることを特徴とするものである。
また、第1搬送機構を備えているので、選択ノズル移動機構および複数のノズルを、各準備位置および各処理位置に対して好適な位置に移動させることができる。また、第2搬送機構を備えているので、選択ノズル移動機構と選択ノズルを好適な位置関係にすることができる。
また、待機部を備えることで複数のノズルを好適な状態に保つことができる。
図1は実施例に係る基板処理装置の平面図である。図2はノズル群搬送機構及び選択ノズル移動機構の正面図であり、図3はノズル群搬送機構及び選択ノズル移動機構の背面図である。図4は基板処理装置の側面図であり、(a)はノズルが全て待機している状態を示し、(b)は選択ノズルが処理位置に移動している状態を示している。図5は、ノズルに付設される係合部と保持機構との係合を示す詳細図であり、(a)は離脱している状態であり、(b)は係合している状態を示す。
5 …処理ユニット
11 …スピンチャック
21 …ノズル
21 …吐出孔
21s …選択ノズル
23 …係合部
25 …待機部
27 …配管
29 …温度調節ユニット
37 …ベース部
41 …ノズル群搬送機構
43 …第1搬送機構
45 …第2搬送機構
51 …選択ノズル移動機構
53 …昇降機構
55 …進退機構
57 …保持機構
Pa、Pb、P …処理位置
Qa、Qb、Q …準備位置
x …水平第1方向
y …水平第2方向
W …基板
Claims (22)
- 基板に処理を行う基板処理装置において、
基板を水平姿勢で保持する複数の基板保持部と、
基板に処理液を供給する複数のノズルと、
前記複数のノズルから任意に選択される選択ノズルを、各基板保持部に対応した準備位置から当該基板保持部に保持される基板上方の処理位置へ移動させる選択ノズル移動機構と、
各準備位置の間で前記複数のノズルを一体に移動させるノズル群搬送機構と、
を備え、
各準備位置は水平な1軸である水平第1方向に互いに並んでおり、
前記ノズル群搬送機構は、
複数のノズルと前記選択ノズル移動機構とを一体に水平第1方向に移動させる第1搬送機構と、
複数のノズルと前記選択ノズル移動機構とを水平第1方向に対して相対移動させる第2搬送機構と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に基板処理装置において、
前記第1搬送機構の搬送によって、各基板保持部に保持される基板間で処理液を供給する基板を切り替え、
前記第2搬送機構の搬送によって、複数のノズル間で処理液を供給させる選択ノズルを切り替えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記第1搬送機構は、複数のノズルと前記選択ノズル移動機構とを各準備位置にわたって移動させ、
前記第2搬送機構は、選択ノズル及び前記選択ノズル移動機構が、平面視で水平第1方向と略直交する一直線上に処理位置と並ぶように相対移動させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
複数のノズルと前記選択ノズル移動機構とが設けられるベース部を備え、
前記第1搬送機構は前記ベース部を水平第1方向に移動させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記第2搬送機構は、複数のノズルを一体に水平第1方向に移動させることを特徴とする基板処理装置。 - 基板に処理を行う基板処理装置において、
基板を水平姿勢で保持する複数の基板保持部と、
基板に処理液を供給する複数のノズルと、
前記複数のノズルから任意に選択される選択ノズルを、各基板保持部に対応した準備位置から当該基板保持部に保持される基板上方の処理位置へ移動させる選択ノズル移動機構と、
各準備位置の間で前記複数のノズルを一体に移動させるノズル群搬送機構と、
複数のノズルを待機させる待機部と、
を備え、
前記ノズル群搬送機構は前記待機部を複数のノズルとともに移動させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6に記載の基板処理装置において、
前記待機部は各ノズルから滴下する処理液を回収することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項6または7に記載の基板処理装置において、
前記待機部は各ノズルの吐出孔の周囲を所定雰囲気に保つことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から8のいずれかに記載の基板処理装置において、
各準備位置は、前記基板保持部の側方であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から9のいずれかに記載の基板処理装置において、
平面視で、複数のノズルの全ては、各準備位置において当該準備位置に対応する基板保持部に対向していることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から10のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記ノズル群搬送機構は、複数のノズルを1列に並べた状態で移動させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項11に記載の基板処理装置において、
前記ノズル群搬送機構は、各準備位置に複数のノズルを移動させる際、選択ノズルを、平面視で複数のノズルが並ぶ方向と略直交する方向で、処理位置と対向させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項12に記載の基板処理装置において、
前記ノズル群搬送機構は、複数のノズルを水平第1方向と平行に並べた状態で移動することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項13に記載の基板処理装置において、
前記ノズル群搬送機構は、複数のノズルを水平第1方向に移動させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項14に記載の基板処理装置において、
前記ノズル群搬送機構はさらに、選択ノズル移動機構を水平第1方向に移動させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項11から15のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記選択ノズル移動機構は、選択ノズルを準備位置と処理位置との間で、複数のノズルが1列に並ぶ方向と水平に略直交する水平第2方向に移動させる進退機構を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項16に記載の基板処理装置において、
ノズルにそれぞれ別個に接続される屈曲自在な配管を備え、
選択ノズルを処理位置へ移動させる際、当該選択ノズルに接続される配管は前記水平第2方向を含む略垂直平面内で屈曲変形することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項17に記載の基板処理装置において、
前記配管の他端が接続されている位置は、前記略垂直平面内であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項17または18に記載の基板処理装置において、
前記配管は、前記ノズルの水平第2方向後方側に一旦延ばされ、そのあとに屈曲して折り返されて、水平第2方向前方側に延ばされていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項17から19のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記ノズル群搬送機構は、前記配管の他端側を固定する配管固定部材を複数のノズルとともに移動させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項16から20のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記選択ノズル移動機構はさらに、
前記選択ノズルを上下方向に移動させる昇降機構と、
前記選択ノズルを保持可能な保持機構と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項21に記載の基板処理装置において、
前記昇降機構は前記進退機構を昇降可能に支持し、
前記進退機構は前記保持機構を進退可能に支持していることを特徴とする基板処理装置。
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