JP4900397B2 - 液処理装置 - Google Patents
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Description
この際、特許文献1に記載されるように、レジスト液の塗布及び反射防止膜形成を行うレジスト膜等を形成するためのブロックと、現像処理を行うブロックとを分離して、ウエハがキャリアブロックから露光装置へ向かう搬送路と、露光装置からキャリアブロックに向かう搬送路とを夫々独立に形成し、スループットをより一層向上させる装置が提案されている。
この装置では、例えば図21に示すように、レジスト液の塗布ユニットや現像ユニット等のウエハWに対して液処理を行う液処理装置として、夫々共通の処理容器10の内部に複数個例えば3個の液処理部11〜13を前記搬送路に沿って配列すると共に、共通の塗布ノズル14を前記搬送路に沿って移動自在に設け、この塗布ノズル14から夫々の液処理部11〜13に配置されたウエハに対してレジスト液や現像液等の塗布液を供給する構成の装置が用いられている。
前記各基板保持部に保持された基板の表面に塗布液を供給するために、これら3個の液処理部に共通に設けられた塗布ノズルと、
前記塗布ノズルを、各液処理部における基板に塗布液を供給する塗布位置と、
当該塗布ノズルが待機するために、互いに隣接する液処理部同士の間に設定された2個の中間待機位置と、を通るように移動させる駆動機構と、
各液処理部に搬入された基板に対して塗布液の供給を行うために、前記塗布ノズルを、基板の搬入順序に対応して往路方向である前記液処理部の列の一端側から他端側に向かって、各中間待機位置に一旦停止させて待機させた上で、各液処理部の塗布位置に順次移動させ、次いで復路方向である液処理部の列の他端側から一端側に向かって前記中間待機位置毎に停止させながら液処理部を跨いで移動させ、塗布液の供給が終了した、液処理部の列の他端側である第1の液処理部と、次に塗布液の供給を行う、液処理部の列の一端側である第2の液処理部との間に、塗布液の供給が行われた基板が置かれた第3の液処理部が介在するときには、その基板が当該第3の液処理部から搬出されるまで、前記第1の液処理部と第3の液処理部との間の中間待機位置で前記塗布ノズルを待機させるように前記駆動機構を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
ウエハWの搬入を1号機の液処理部3A→2号機の液処理部3B→3号機の液処理部3Cの順序に沿って繰り返して行う場合にも適用できる。つまり図12(a)に示すように、1号機の液処理部3Aにロットの1番目のウエハW1を受け渡し、次いで図12(b)に示すように、2号機の液処理部3Bにロットの2番目のウエハW2を受け渡し、図12(c)に示すように、3号機の液処理部3Cにロットの3番目のウエハW3が受け渡される。
2 塗布装置
3(3A、3B、3C) 液処理部
31 スピンチャック
4 カップ体
5 塗布ノズル
51 ノズルアーム
50 ノズル部
54 駆動機構
61 メイン待機部
62,63 中間待機部
66 EBRノズル
7 供給系
8 制御部
81 塗布ノズル制御プログラム
Claims (6)
- 基板を水平に保持し、外部の搬送手段との間で基板の受け渡しを行う基板保持部を各々備えた3個の液処理部が横方向に一列に配列されて液処理部の列を形成し、各液処理部への基板の搬入は、液処理部の列の一端側から他端側に向かって順番にかつ繰り返し行われる液処理装置であって、
前記各基板保持部に保持された基板の表面に塗布液を供給するために、これら3個の液処理部に共通に設けられた塗布ノズルと、
前記塗布ノズルを、各液処理部における基板に塗布液を供給する塗布位置と、
当該塗布ノズルが待機するために、互いに隣接する液処理部同士の間に設定された2個の中間待機位置と、を通るように移動させる駆動機構と、
各液処理部に搬入された基板に対して塗布液の供給を行うために、前記塗布ノズルを、基板の搬入順序に対応して往路方向である前記液処理部の列の一端側から他端側に向かって、各中間待機位置に一旦停止させて待機させた上で、各液処理部の塗布位置に順次移動させ、次いで復路方向である液処理部の列の他端側から一端側に向かって前記中間待機位置毎に停止させながら液処理部を跨いで移動させ、塗布液の供給が終了した、液処理部の列の他端側である第1の液処理部と、次に塗布液の供給を行う、液処理部の列の一端側である第2の液処理部との間に、塗布液の供給が行われた基板が置かれた第3の液処理部が介在するときには、その基板が当該第3の液処理部から搬出されるまで、前記第1の液処理部と第3の液処理部との間の中間待機位置で前記塗布ノズルを待機させるように前記駆動機構を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする液処理装置。 - 前記塗布ノズルを前記復路方向において中間待機位置同士の間で移動させるときの塗布ノズルの移動速度は、当該塗布ノズルを往路方向において移動させるときの移動速度よりも大きいことを特徴とする請求項1記載の液処理装置。
- 前記一列に配列された液処理部の端には、前記液処理部のいずれかにロットの1番目の基板が搬入される前に、塗布ノズルを待機させるメイン待機部が設けられることを特徴とする請求項1または2に記載の液処理装置。
- 前記塗布ノズルに設けられ、塗布液を吐出していないときに塗布ノズルの先端部から塗布液を引き込むためのサックバックバルブと、
前記中間待機位置にて待機する塗布ノズルの先端部を撮像する撮像手段と、
この撮像手段による撮像結果に基づいて、前記先端部からの塗布液の液垂れの発生を判断する判断手段と、を備え
前記判断手段により塗布液の液垂れが発生したと判断されたときに、前記サックバックバルブによって塗布液を引き込むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の液処理装置。 - 前記中間待機位置には、塗布ノズルから塗布液の吐出を行うための中間待機部が設けられることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の液処理装置。
- 前記中間待機位置にて待機する塗布ノズルの先端部を撮像する撮像手段と、
この撮像手段による撮像結果に基づいて、前記先端部からの塗布液の液垂れの発生を判断する判断手段と、を備え、
前記判断手段により塗布液の液垂れが発生したと判断されたときに、前記メイン待機部又は中間待機部にて塗布ノズルから塗布液を吐出させることを特徴とする請求項5記載の液処理装置。
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