JP5672204B2 - 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
前記複数の液処理モジュールに対して共通化され、予め決められた液処理モジュールの使用順序に従って、ノズル移動機構により複数の液処理モジュールの間を移動し、前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記処理液ノズルにその先端側が接続されると共にその途中部位が固定部に固定され、前記固定部における固定点よりも先端側の部位が処理液ノズルの移動に追従して屈曲可能な自由端部位として構成された処理液供給路と、
前記処理液ノズルに処理液供給路を介して処理液を予め設定した量だけ吐出するためのポンプと、
前記処理液供給路における前記処理液ノズルとポンプとの間の処理液を吸引して前記処理液ノズルの先端部の液面レベルを引き上げるための吸引機構と、
前記処理液ノズルが各液処理モジュール上を移動した際にいずれの液処理モジュールの上に停止するかによって処理液供給路の状態が変わることに起因して発生する処理液ノズルの先端部の液面の変動を、各液処理モジュールごとに前記吸引機構による吸引量を調整することで回避し、前記液面の高さ位置を一定化するために、ダミーディスペンスを行った後に一番目に使用される液処理モジュール及び処理液ノズルがその上方に停止する二番目以降に使用される液処理モジュール毎に、処理液ノズルが処理液を吐出する前に処理液を吸引するための吸引量を予め記憶した記憶部と、
この記憶部から前記一番目に使用される液処理モジュールまたは二番目以降に使用される液処理モジュールに対応する吸引量を読み出してこの吸引量に対応する動作を行うように前記吸引機構に制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記記憶部に記憶された吸引量は、液処理装置の実処理を行う前に予め液処理装置を稼働することにより、処理液ノズルがダミーディスペンスを行った後に一番目に使用される液処理モジュールへ移動したとき、及び各液処理モジュールの上方へ移動するごとに、処理液ノズルの先端部の液面レベルを測定し、この測定結果に基づいて決められた値であることを特徴とする。
前記処理液ノズルが各液処理モジュール上を移動した際にいずれの液処理モジュールの上に停止するかによって処理液供給路の状態が変わることに起因して発生する処理液ノズルの先端部の液面の変動を、各液処理モジュールごとに前記吸引機構による吸引量を調整することで回避し、前記液面の高さ位置を一定化するために、ダミーディスペンスを行った後に一番目に使用される液処理モジュール及び処理液ノズルがその上方に停止する二番目以降に使用される液処理モジュール毎に、処理液ノズルが処理液を吐出する前に処理液を吸引するための吸引量を予め記憶した記憶部を用い、この記憶部から、前記一番目に使用される液処理モジュールまたは二番目以降に使用される液処理モジュールに対応する吸引量を読み出す工程と、
読み出した吸引量に対応する動作を行うように吸引機構に制御信号を出力して、
処理液供給路における前記処理液ノズルとポンプとの間の処理液を吸引し、前記処理液ノズルの先端部の液面レベルを引き上げる工程と、
前記基板保持部に保持された基板に対して、処理液ノズルから処理液を予め設定した量だけ吐出して液処理を行う工程と、を備え、
前記記憶部に記憶された吸引量は、液処理装置の実処理を行う前に予め液処理装置を稼働することにより、処理液ノズルがダミーディスペンスを行った後に一番目に使用される液処理モジュールへ移動したとき、及び各液処理モジュールの上方へ移動するごとに、処理液ノズルの先端部の液面レベルを測定し、この測定結果に基づいて決められた値であることを特徴とする。
カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、横方向に複数配列された液処理モジュールと、前記複数の液処理モジュールに対して共通化され、予め決められた液処理モジュールの使用順序に従って、ノズル移動機構により複数の液処理モジュールの間を移動し、前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給するための処理液ノズルと、を備えた液処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、上述の液処理方法を実行するようにステップ群が組み込まれていることを特徴とする。
本発明の液処理装置をレジスト塗布装置に適用した実施形態の全体構成について説明する。この液処理装置は図1に示すように横一列に配列された複数例えば3個の液処理モジュール2と、ノズルユニット1と、ノズルユニット1のノズルを待機させるためのノズルバス15と、基板である半導体ウエハ(以下ウエハという)に塗布されたレジスト膜の周縁を除去するためのエッジリムーバ61と、を備えている。
この第2の実施の形態は、液処理モジュール2A〜2C間をノズル11が移動することによるノズル11の先端部の液面の高さの変動値を、予め装置を稼動することにより測定し、この測定結果に基づいて、夫々の移動時における液面のレベルが、基準の高さレベルとなるようにサックバック量を決めておく手法である。
液面検出部としては、液面を撮像するカメラ16に限定されるものではなく、図13示すように電気的に検出するものであってもよい。この例では、ノズル内の流路を挟んで互いに対向する電極E1、E2の組を流路に沿って複数組配列し、また高周波回路を設けている。この高周波回路は、高周波電源101と電流検出部100とスイッチ部102とを備えており、スイッチ部SWの切り替え接点を順次変えることにより、各組の電極E1、E2を順次スイッチ部SWを介して高周波回路に接続するようにしている。電極E1、E2の間の容量が処理液の有無により変わり、このため電流値が変わることを利用し、各電極E1、E2の間に順次高周波を流して各電流値を求めることにより、制御部側ではどの組の電極E1、E2まで液が存在するかが分かる。なお電極E1、E2からの配線は例えばノズルの外面に引き出し、シールド線により引き回される。
11 処理液吐出ノズル
12 シンナー吐出ノズル
13 アーム
15 ノズルバス
16 カメラ
17、18 光源
19 移動体
2 液処理モジュール
21A〜21C カップ体
22A〜22C スピンチャック
3 制御部
4 供給ユニット
51 開閉バルブ
52 サックバックバルブ
53 ポンプ
54 外管
55 処理液供給路
Claims (3)
- カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、横方向に複数配列された液処理モジュールと、
前記複数の液処理モジュールに対して共通化され、予め決められた液処理モジュールの使用順序に従って、ノズル移動機構により複数の液処理モジュールの間を移動し、前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給するための処理液ノズルと、
前記処理液ノズルにその先端側が接続されると共にその途中部位が固定部に固定され、前記固定部における固定点よりも先端側の部位が処理液ノズルの移動に追従して屈曲可能な自由端部位として構成された処理液供給路と、
前記処理液ノズルに処理液供給路を介して処理液を予め設定した量だけ吐出するためのポンプと、
前記処理液供給路における前記処理液ノズルとポンプとの間の処理液を吸引して前記処理液ノズルの先端部の液面レベルを引き上げるための吸引機構と、
前記処理液ノズルが各液処理モジュール上を移動した際にいずれの液処理モジュールの上に停止するかによって処理液供給路の状態が変わることに起因して発生する処理液ノズルの先端部の液面の変動を、各液処理モジュールごとに前記吸引機構による吸引量を調整することで回避し、前記液面の高さ位置を一定化するために、ダミーディスペンスを行った後に一番目に使用される液処理モジュール及び処理液ノズルがその上方に停止する二番目以降に使用される液処理モジュール毎に、処理液ノズルが処理液を吐出する前に処理液を吸引するための吸引量を予め記憶した記憶部と、
この記憶部から前記一番目に使用される液処理モジュールまたは二番目以降に使用される液処理モジュールに対応する吸引量を読み出してこの吸引量に対応する動作を行うように前記吸引機構に制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記記憶部に記憶された吸引量は、液処理装置の実処理を行う前に予め液処理装置を稼働することにより、処理液ノズルがダミーディスペンスを行った後に一番目に使用される液処理モジュールへ移動したとき、及び各液処理モジュールの上方へ移動するごとに、処理液ノズルの先端部の液面レベルを測定し、この測定結果に基づいて決められた値であることを特徴とする液処理装置。 - 各々カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、横方向に複数配列された液処理モジュールと、前記複数の液処理モジュールに対して共通化され、予め決められた液処理モジュールの使用順序に従って、ノズル移動機構により複数の液処理モジュールの間を移動し、前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給するための処理液ノズルと、前記処理液ノズルにその先端側が接続されると共にその途中部位が固定部に固定され、前記固定部における固定点よりも先端側の部位が処理液ノズルの移動に追従して屈曲可能な自由端部位として構成された処理液供給路と、を備えた液処理装置を用い、
前記処理液ノズルが各液処理モジュール上を移動した際にいずれの液処理モジュールの上に停止するかによって処理液供給路の状態が変わることに起因して発生する処理液ノズルの先端部の液面の変動を、各液処理モジュールごとに前記吸引機構による吸引量を調整することで回避し、前記液面の高さ位置を一定化するために、ダミーディスペンスを行った後に一番目に使用される液処理モジュール及び処理液ノズルがその上方に停止する二番目以降に使用される液処理モジュール毎に、処理液ノズルが処理液を吐出する前に処理液を吸引するための吸引量を予め記憶した記憶部を用い、この記憶部から、前記一番目に使用される液処理モジュールまたは二番目以降に使用される液処理モジュールに対応する吸引量を読み出す工程と、
読み出した吸引量に対応する動作を行うように吸引機構に制御信号を出力して、
処理液供給路における前記処理液ノズルとポンプとの間の処理液を吸引し、前記処理液ノズルの先端部の液面レベルを引き上げる工程と、
前記基板保持部に保持された基板に対して、処理液ノズルから処理液を予め設定した量だけ吐出して液処理を行う工程と、を備え、
前記記憶部に記憶された吸引量は、液処理装置の実処理を行う前に予め液処理装置を稼働することにより、処理液ノズルがダミーディスペンスを行った後に一番目に使用される液処理モジュールへ移動したとき、及び各液処理モジュールの上方へ移動するごとに、処理液ノズルの先端部の液面レベルを測定し、この測定結果に基づいて決められた値であることを特徴とする液処理方法。 - カップ体の中に、基板を水平に保持する基板保持部を設けて構成され、横方向に複数配列された液処理モジュールと、前記複数の液処理モジュールに対して共通化され、予め決められた液処理モジュールの使用順序に従って、ノズル移動機構により複数の液処理モジュールの間を移動し、前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給するための処理液ノズルと、を備えた液処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項2に記載された液処理方法を実行するようにステップ群が組み込まれていることを特徴とする記憶媒体。
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