JP5314657B2 - ノズルの位置調整方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 - Google Patents
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- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Description
その後、前記ノズルの先端部及び前記回転保持部材の中心部を撮像手段により撮像し、その後、前記撮像された画像から求められた前記ノズルの位置情報と前記記憶されたノズルの位置情報とを比較し、両位置情報に差がある場合には、当該ノズルの位置を前記記憶された位置情報と一致するように前記ノズルを移動させることを特徴としている。
10 処理容器
20 スピンチャック
20a 吸引口
21 チャック駆動機構
22 カップ
23 排出管
24 排気管
30 レール
31、32 アーム
33 塗布液ノズル
34 ノズル駆動部
35 待機部
36 塗布液供給源
37 供給管
38 供給機器群
40 溶剤ノズル
41 ノズル駆動部
42 待機部
43 溶剤供給源
44 供給管
45 供給機器群
50、51 CCDカメラ
52 固定部材
53 他の固定部材
60 CCDカメラ
100 制御部
101 表示部
102 操作部
110 処理容器
120 塗布処理装置
Claims (10)
- 回転保持部材によって保持された基板上にノズルから塗布液を供給し、前記回転保持部材を回転させることで基板に塗布処理を行う塗布処理装置において、前記ノズルの位置調整を行う方法であって、
前記ノズルを、基板が保持されていない状態の前記回転保持部材の中心部の上方に移動させ、
その後、前記回転保持部材の中心部及び前記ノズルの先端部を撮像手段により撮像し、
前記撮像された画像において、前記ノズルの先端部の中心の水平方向の位置と前記回転保持部材の中心部の水平方向の位置とが一致するように前記ノズルの位置を調整し、
前記調整されたノズルの位置情報を記憶し、
その後、前記回転保持部材に基板を保持して当該基板に塗布処理を行い、
その後、塗布処理後の基板を前記回転保持部材から取り去り、当該回転保持部材に基板が保持されていない状態で前記ノズルを前記回転保持部材の中心部の上方に移動させ、
その後、前記ノズルの先端部及び前記回転保持部材の中心部を撮像手段により撮像し、
その後、前記撮像された画像から求められた前記ノズルの位置情報と前記記憶されたノズルの位置情報とを比較し、両位置情報に差がある場合には、当該ノズルの位置を前記記憶された位置情報と一致するように前記ノズルを移動させることを特徴とする、ノズルの位置調整方法。 - 前記ノズルの先端部及び前記回転保持部材の中心部の撮像は、2台の撮像手段により行われ、
前記2台の撮像手段による撮像は、互いの撮像方向が平面視において直交する方角から行われることを特徴とする、請求項1に記載のノズルの位置調整方法。 - 前記ノズルはアームにより支持され、
前記2台の撮像手段は、前記アームに設けられていることを特徴とする、請求項2に記載のノズルの位置調整方法。 - 前記撮像手段により撮像される前記回転保持部材の中心部は、前記回転保持部材の中心部に形成された前記基板を吸着保持する吸引口であり、
前記撮像された画像において、前記ノズルの先端部の中心の水平方向の位置と前記吸引口の中心部の水平方向の位置とが一致し、且つ前記ノズルの先端部の手前側の端部と、前記吸引口の手前側の端部との距離が所定の値となるように前記ノズルの位置を調整することを特徴とする、請求項1に記載のノズルの位置調整方法。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の位置調整方法を塗布処理装置によって実行させるために、当該塗布処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項5に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 回転保持部材によって保持された基板上にノズルから塗布液を供給し、前記回転保持部材を回転させることで基板に塗布処理を行う塗布処理装置であって、
塗布液を基板上に供給する塗布液ノズルと、
前記ノズルを移動させる移動機構と、
前記ノズルの先端部及び前記回転保持部材の中心部を撮像する撮像手段と、
前記移動機構と、前記撮像手段の動作を制御する制御部と、を有し、
前記撮像手段は、互いの撮像方向が平面視において直交する方角から撮像を行うように2台設置され、
前記制御部は、前記撮像された画像において、ノズルの先端部の中心の位置と前記回転保持部材の中心部の位置とが一致するように前記ノズルの位置を調整する制御を行うことを特徴とする、塗布処理装置。 - 前記制御部は、前記調整されたノズルの位置情報を記憶し、
その後、前記回転保持部材に基板を保持して当該基板に塗布処理を行い、
その後、塗布処理後の基板を前記回転保持部材から取り去り、当該回転保持部材に基板が保持されていない状態で前記ノズルを前記回転保持部材の中心部の上方に移動させ、
その後、前記ノズルの先端部及び前記回転保持部材の中心部を撮像手段により撮像し、
その後、前記撮像された画像から求められた前記ノズルの位置情報と前記記憶されたノズルの位置情報とを比較し、両位置情報に差がある場合には、当該ノズルの位置を前記記憶された位置情報と一致するように前記ノズルを移動させる制御を行うことを特徴とする、請求項7に記載の塗布処理装置。 - 前記ノズルはアームにより支持され、
前記2台の撮像手段は、前記アームに設けられていることを特徴とする、請求項7または8のいずれかに記載のノズルの位置調整装置。 - 回転保持部材によって保持された基板上にノズルから塗布液を供給し、前記回転保持部材を回転させることで基板に塗布処理を行う塗布処理装置であって、
塗布液を基板上に供給する塗布液ノズルと、
前記ノズルを移動させる移動機構と、
前記ノズルの先端部と、前記回転保持部材の中心部に形成された前記基板を吸着保持する吸引口とを撮像する撮像手段と、
前記移動機構と、前記撮像手段の動作を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記撮像された画像において、前記ノズルの先端部の中心の水平方向の位置と前記吸引口の中心部の水平方向の位置とが一致し、且つ前記ノズルの先端部の手前側の端部と、前記吸引口の手前側の端部との距離が所定の値となるように前記ノズルの位置を調整する制御を行うことを特徴とする、塗布処理装置。
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